helium ion beamとは 意味・読み方・使い方

In the case of gross leak, the helium ion beam is not deflected so as not to enter the microchannel plate, but is allowed to enter a sector electrode, and an ion beam current is detected by the sector electrode.例文帳に追加

グロスリークの場合は、ヘリウムイオンビームを偏向せず、マイクロチャンネルプレートに入射させないで、セクター電極に入射し、セクター電極でイオンビーム電流を検出する。 - 特許庁

A helium gas atmosphere is formed in a small space enclosed by three parts, namely, a sample S, the head of the beam introduction pipe 2 and the head of the X-ray introduction sleeve 3a, and ion beam irradiation and introduction of a characteristic X-ray are executed in the atmosphere.例文帳に追加

試料Ｓ、ビーム導入管２の先端、Ｘ線導入用スリーブ３ａの先端の三者に囲まれた小空間にヘリウムガス雰囲気を形成し、この雰囲気内でイオンビーム照射、特性Ｘ線の導入を行う。 - 特許庁

In the method of correcting a photomask defect, after making an electrical continuity in an isolated pattern by a metal deposition film 7 by use of an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source, the defect 3 is corrected; and after the correction, the metal deposition film 7 is physically removed by an AFM (atomic force microscope) scratch working probe 9.例文帳に追加

電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームを用いた金属デポジション膜7で孤立したパターンに導通を作ってから欠陥3を修正し、修正後金属デポジション膜7をAFMスクラッチ加工探針9で物理的に除去する。 - 特許庁

Namely, the tungsten surface heated up to about 2,200°C surface temperature is made porous by irradiation with the high particle flux helium ion beam (6.7x10^20 He/m_2/s).例文帳に追加

即ち、高粒子束ヘリウムイオンビーム照射（６．７×１０^20Ｈｅ／ｍ^2／ｓ）により、表面温度２２００℃程度まで加熱されたタングステン表面を多孔質化する。 - 特許庁

Because acceleration energy can be minimized by the use of the helium ion beam, the rise in the temperature of the substrate at vapor deposition can be prevented and the titanium oxide thin film can be formed even on the substrate made of organic material easily affected by heat.例文帳に追加

ヘリウムイオンビームを用いることにより、加速エネルギーが小さくてすむため、蒸着の際の基板の温度上昇を押さえることができ、熱に弱い有機材料基板上にも酸化チタン薄膜を形成させることができる。 - 特許庁

In this method for annealing diamond in which a defective layer generated in the diamond monocrystal at the time of injecting an additional element into the diamond crystal is restored through heat treatment, the temperature of the heat treatment is adjusted to 600-1,100°C, and the inside of the diamond crystal is irradiated with a helium ion beam by adjusting the ion irradiation energy of the ion beam to 40-100 keV.例文帳に追加

本発明のアニール方法は、ダイヤモンド単結晶中に添加元素を注入する際に生じた欠陥層を熱処理により回復させるアニール方法において、熱処理の温度を６００℃以上１１００℃以下にして、ヘリウムイオンのイオンビームを用い、イオン照射エネルギーを４０keV以上１００keV未満にして、ダイヤモンド単結晶中に照射することにより行われる。 - 特許庁

A micromachining apparatus is used, which includes an AFM having a plurality of independently actuatable probes and uses an electron beam or a helium ion beam produced by a gas field ion source; wherein an isolating pattern 9 including a defect is grounded by bringing the conducting probe 6 into contact with the pattern, and then an opaque defect 8 is corrected while preventing charge-up by the electron beam 1.例文帳に追加

独立に駆動できる複数の探針を有するAFMを付加した電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビーム微細加工装置で、導電性探針6を接触させることで欠陥を含む孤立したパターン9を接地して、電子ビーム1によるチャージアップを防止しながら黒欠陥8を修正する。 - 特許庁

In the structure of this polarized ion beam generating method, circularly polarized light the wavelength of which is adjusted to D_0 rays corresponding to transition to 2^3P_0 and linearly polarized light are irradiated to a metastable helium atom from a mutually perpendicular irradiating direction to carry out optical pumping.例文帳に追加

偏極イオンビーム発生方法は、２^３Ｐ_０への遷移に対応するＤ_０線に波長調整した円偏光と直線偏光とを互いに直角の照射方向から準安定ヘリウム原子へ照射して光ポンピングすることを特徴とする構成を採用した。 - 特許庁