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意味・対訳 等温度


JST科学技術用語日英対訳辞書での「isothermal temperature」の意味

isothermal temperature


「isothermal temperature」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 40



例文

ALMOST ISOTHERMAL HIGH-TEMPERATURE TYPE FUEL CELL例文帳に追加

ほぼ等温の高温型燃料電池 - 特許庁

ISOTHERMAL REFRIGERATION DEVICE AND ITS TEMPERATURE CONTROL METHOD例文帳に追加

恒温冷凍装置及びその温度制御方法 - 特許庁

The finish temperature error to the isothermal-holding can be obtained within ±(3 to 5)°C.例文帳に追加

等温保持の最終温度誤差を±3〜5℃以内にできる。 - 特許庁

The isothermal treatment apparatus includes: a heating furnace 1 in which the workpiece is heated to the temperature of the austenitic range; a cooling furnace 2 in which the workpiece in the heating furnace 1 is rapidly cooled to an isothermal transforming temperature; and an isothermal furnace 3 in which the cooled workpiece is held to the isothermal transforming temperature.例文帳に追加

ワークをオーステナイト領域の温度に加熱する加熱炉1と、加熱炉1で加熱されたワークを等温変態温度まで急冷する冷却炉2と、冷却されたワークを等温変態温度に保持する等温炉3とを備えた等温処理装置である。 - 特許庁

a condition in which an isothermal line is shaped like an island because the temperature of an urban area is higher than its rural surroundings発音を聞く 例文帳に追加

都市部の気温が周辺より高いため,等温線が島の形を描くこと - EDR日英対訳辞書

The current quantity to be carried to a heater mounted on an isothermal chamber is controlled so that the temperature of the isothermal chamber surrounding a sample can follow the sample temperature with a zero temperature difference within a vacuum chamber.例文帳に追加

真空容器内部で、試料を取り囲む等温室の温度が、試料温度に温度差ゼロで追随できるように等温室に取り付けたヒータに流す電流量を制御する。 - 特許庁

例文

To provide a method and an apparatus for thermally investigating a substance by driving the substance by a temperature profile consisting of isothermal and non-isothermal sections.例文帳に追加

等温区分及び非等温区分から成る温度プロファイルによって物質をドライブすることで熱的に物質を調査する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

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「isothermal temperature」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 40



例文

The temperature in the fermenter 2 is kept constant by isothermal water recycling in an isothermal jacket 3 set to cover the outer surface of the fermenter.例文帳に追加

発酵槽2内の温度は発酵槽の外側面を覆うように設けられた恒温ジャケット3内を循環する恒温水によって、一定に保たれている。 - 特許庁

A preliminary cooling chamber 3 is continuously arranged so as to follow to the heating chamber 2, and after cooling the metal to near the aimed temperature for isothermal-holding in this chamber, the metal is shifted into the isothermal-holding chamber 4.例文帳に追加

加熱室2に次いで予備冷却室3を連続的に設け、ここで等温保持の目標温度近くまでガスで冷却してから等温保持室4へ移す。 - 特許庁

A microchip for an isothermal nucleic acid amplification reaction in which at least one of substances necessary for an isothermal amplification reaction of a nucleic acid being covered with a thin film that melts at a temperature higher than room temperature and lower than a reaction temperature of the reaction is present in a reaction region functioning as a reaction field of the reaction is provided.例文帳に追加

核酸の等温増幅反応の反応場となる反応領域内に、反応に必要な物質の少なくとも一部が、常温より高く前記反応の反応温度より低い温度で融解する薄膜により被覆された状態で存在する核酸等温増幅反応用マイクロチップを提供する。 - 特許庁

Noise removing processing is preferably carried out therein, as preprocessing for isothermal line display, to remove a noise included in the surface temperature distribution.例文帳に追加

その際、等温線表示の前処理として、表面温度分布に含まれるノイズを除去するノイズ除去処理を行うのが好ましい。 - 特許庁

At the same time, the heating device is provided to raise the temperature in the chamber in a short time, and the cost is effectively suppressed by creating an isothermal environment.例文帳に追加

同時に、加熱装置を提供し、短い時間内で、チャンバ内の温度を上昇させ、且つ、等温の環境にし、効果的にコストを抑える。 - 特許庁

A surface finish for facilitating to hold partially surrounded elements in isothermal state during operation is selected for the temperature control member.例文帳に追加

それが部分的に囲む要素を作動の間等温に保持しやすくする表面仕上げが前記温度制御部材に対して選択される。 - 特許庁

It is favorable that the isothermal holding step is performed when the temperature of the seed substrate becomes 1,350°C or higher and 1,500°C or lower.例文帳に追加

前記等温保持工程は、前記種子基板の温度が1350℃以上1500℃以下となった際に行うことが好ましい。 - 特許庁

例文

When the billet is extruded isothermally according to a ram speed profile Vr0, the temperature of a extruded product does not become Tp0, a pre-determined isothermal extruding temperature, but becomes Tp1, a measured extruding temperature having a extruding temperature dropping part B.例文帳に追加

当該ビレットをラム速度プロフィールVr0に従って等温押出すると、押出成形された製品の温度は、等温の設定押出温度Tp0とならず、押出温度低下部分Bを有する実測押出温度Tp1となる。 - 特許庁

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