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m Peとは 意味・読み方・使い方
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「m Pe」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 8件
Information recording devices RE(j) generate a ciphertext SE(KA, M) by ciphering data M using a generated common key KA, also generate a ciphertext PE(PK(i), KA) by ciphering the common key KA with an open key PK(i), and store them in the information recording medium.例文帳に追加
情報記録装置RE(j)は、生成した共通鍵KAを用いてデータMを暗号化した暗号文SE(KA, M)を生成し、公開鍵PK(i)で共通鍵KAをそれぞれ暗号化した暗号文PE(PK(i), KA)を生成し、これらを情報記録媒体に格納する。 - 特許庁
The information processing devices PC(i) decode the ciphertext PE(PK(i), KA) stored in the information recording medium using the secret key SK(i) to generate the common key KA, and decode the ciphertext SE(KA, M) stored in the storage medium using the common key to generate the data M.例文帳に追加
情報処理装置PC(i)は、秘密鍵SK(i)を用い、情報記録媒体に格納された暗号文PE(PK(i), KA)を復号して共通鍵KAを生成し、これを用いて情報記録媒体に格納された暗号文SE(KA, M)を復号し、データMを生成する。 - 特許庁
This motion detecting circuit includes processing elements PE_m (-n≤m≤nm (n) represents a search range), data latches FF_k (-n<k≤n) and selector circuits MUX_h (-1≤h≤1).例文帳に追加
この動き検出回路は、処理素子PE_m(−n≦m≦n、nは探索範囲を表わす)、データラッチFF_k(−n<k≦n)、および選択回路MUX_h(−1≦h≦1)を有している。 - 特許庁
A divided sequential proximity exposure apparatus PE is provided with contact sensors 30 near the four vertexes of a mask M, the contact sensor 30 having a reacting part 30a below the lower face of the mask M held on a mask stage 1.例文帳に追加
分割逐次近接露光装置PEは、マスクMの4箇所の頂点近傍に、マスクステージ1に保持されたマスクMの下面よりも下方に反応部30aを有する接触センサ30を設ける。 - 特許庁
A substrate stage 11 of the exposure device PE includes a substrate holding plate where a substrate W is mounted and a plurality of mask holding pins that are disposed as freely approaching and retreating from above the substrate holding plate and that hold a mask M.例文帳に追加
露光装置PEの基板ステージ11は、基板Wが載置される基板保持板と、基板保持板の上面から進退自在に配置され、マスクMを保持する複数のマスク保持ピンとを備える。 - 特許庁
Step S1 acquires a volume V of volume data, a usable capacity M of each LM, a volume I of rendering image data, the number Npe of PEs and the number of PE boards.例文帳に追加
ステップS1で、ボリュームデータの容量V、各LMの使用可能容量M、レンダリング画像データの容量I、PEの数Npe、およびPEボードの数を取得する。 - 特許庁
A mask stage 1 of a division sequential exposure apparatus PE has a pair of chucks 16 disposed corresponding to two sides opposing to each other of a mask M, each chuck having a plurality of box grooves 16b (16b1, 16b2, to 16b10).例文帳に追加
分割逐次露光装置PEでは、マスクステージ1が、マスクMの互いに対向する2辺に対応して配置されて、それぞれ複数のボックス溝16b(16b1,16b2,・・・16b10)を有する一対のチャック部16を備える。 - 特許庁
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遺伝子名称シソーラスでの「m Pe」の意味 |
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「m Pe」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 8件
This mask M used in the proximity exposure device PE includes a mask pattern provided with a main pattern part 81 having a line-like opening, and a transmissive line-like auxiliary pattern part 83 formed in a side of the main pattern part 81 and not resolved after development processing.例文帳に追加
近接露光装置PEで使用されるマスクMには、ライン状の開口を有する主パターン部81と、該主パターン部81の側方に形成され、現像処理後に解像されない透過性でライン状の補助パターン部83とを備えるマスクパターンが形成されている。 - 特許庁
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