masking lessとは 意味・読み方・使い方

It is possible to easily secure sufficient adhesive force and adhesive area of the masking tape 30 as a sticking surface 18 to stick the masking tape 30 of the wall material 10 having the deformed surface is flat and its width is not less than 1.0 mm.例文帳に追加

異形表面を有する壁部材１０のマスキングテープ３０を貼る貼着面１８が平坦で、且つ、その幅が１．０ｍｍ以上であるために、マスキングテープ３０の十分な接着力と接着面積の確保も容易に可能となる。 - 特許庁

Each of a plurality of masking members 14B to 14E has a size equal to a first length, and the first length is less than 2 times the diffusion length of a dopant.例文帳に追加

複数のマスキング部材１４Ｂ〜１４Ｅの各々が、第１の距離に等しい寸法を有しており、前記第１の距離は、ドーパントの拡散距離の２倍に満たない。 - 特許庁

A film is formed on the surface of the substrate by applying a coating liquid comprising a metal or carbon and containing masking particles of average particle diameter of 5 μm or less onto the surface of the substrate.例文帳に追加

金属又は炭素から成り平均粒径が５μｍ以下のマスク用微粒子を含む塗液を基板の表面に塗布して、その基板の表面に塗膜を形成する。 - 特許庁

The masking-less automobile coating apparatus comprises a frame stand 2 in which a limit switch 22 for making an apparatus ready and a limit switch 23 for starting an apparatus are installed and a freely self- movable automatic coating running part 3 installed in the frame stand 2.例文帳に追加

装置準備用リミットスイッチ２２及び装置スタート用リミットスイッチ２３を設けているフレーム台２と、フレーム台２に設けられ走行自在な自動塗装走行部３とを有する。 - 特許庁

When the substrate is subjected to a sand blast treatment on the substrate, it has a masking layer of a dry film resist the moisture content rate of which is 4% or more, or the surface resistant rate of which is 10 GΩ/ square or less.例文帳に追加

基板に対してサンドブラスト加工を行なう際の基板は、含水率が４重量％以上、あるいは、表面抵抗率が１０ＧΩ／□以下のドライフィルムレジストのマスク層を有する。 - 特許庁

The heat-resistant plastic is provided with heat resistance to its softness or deterioration in a heating atmosphere which is at least 200°C, and the electric resistivity of the electromagnetic masking shield plate 13 is set so as to be not less than 1×106 Ωcm.例文帳に追加

耐熱性プラスチックは少なくとも２００℃の加熱雰囲気中で軟化又は劣化しない耐熱性を有し、電磁遮蔽板１３の電気抵抗率は１×１０^6Ω・ｃｍ以上である。 - 特許庁

The ultraviolet masking agent comprises a minute acicular zinc oxide having an average major axis of 500 nm or less, an average minor axis of 100 nm or less, an aspect ratio defined as the average major axis/the average minor axis of 4 or more and a specific surface area measured by the BET method of 20 m^2/g or more.例文帳に追加

平均長径が５００ｎｍ以下、平均短径が１００ｎｍ以下であり、平均長径／平均短径で定義されるアスペクト比が４以上で、かつＢＥＴ法による比表面積が２０ｍ^２／ｇ以上である微細針状酸化亜鉛からなる紫外線遮蔽剤。 - 特許庁

A transparent conductive film is patterned by laminating a conductive film as a thin wire less than 1 mm using optical processes such as laser, without shielding or isolating surface of the transparent conductive film using a masking material.例文帳に追加

透明導電膜面をマスキング材で遮蔽隔離させることなく、レーザー等の光加工で１ｍｍ幅以下の細線状に、導電膜を剥離することでパターニングした、透明導電性フィルムを提供する。 - 特許庁