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metal stencilとは 意味・読み方・使い方
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「metal stencil」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
The water-based ink for the stencil printing is obtained by formulating a monovalent metal salt or amine salt of an unsaturated carboxylic acid-based water-soluble polymer, and an ammonium salt of an alkali-soluble resin.例文帳に追加
不飽和カルボン酸系水溶性高分子の一価金属塩またはアミン塩と、アルカリ可溶性樹脂のアンモニウム塩とを配合する。 - 特許庁
The formation of this solder mask is performed by using a stencil print unit 12 to apply photo-imageable ink 2 to a carrier film 1A, compressing the photo-imageable ink 2 through a stencil opening 12d by a scraper 12c along the upper surface of a metal stencil plate 12b to form a photo-imageable ink layer to be transferred to the carrier film 1A.例文帳に追加
ソルダ・マスクの形成はステンシル印刷ユニット12を使用して、フォトイメージャブル・インク2が、キャリア・フィルム1Aに金属ステンシル板12bの上面に沿ってスクレーパ12cによって、ステンシル開口12dを介してフォトイメージャブル・インク2を圧搾し、フォトイメージャブル・インク層を形成し、キャリア・フィルム1Aに転写することによって行われる。 - 特許庁
A resist pattern 110, having a configuration corresponding to the opening part of the stencil mask 10, is formed on one surface of a silicon substrate 100 and, thereafter, a metal film 120 is formed to cover the resist pattern 110.例文帳に追加
シリコン基板100の一方の面に、ステンシルマスク10開口部に相当する形状のレジストパターン110を形成した後、金属膜120を形成してレジストパターン110を覆う。 - 特許庁
A metal plate 41, on which a photodetection semiconductor device 2 is mounted, is attached to a vacuum printer, and a mask 61 is positioned so that the photodetection semiconductor device 2 and an external electrode 3 are contained in an opening part of stencil 61.例文帳に追加
光検出半導体素子2を実装した金属板41を真空印刷機に取り付け、光検出半導体素子2および外部電極3が孔版61の開口部に入るように、マスク61の位置あわせをする。 - 特許庁
Light of ≥1 μm in wavelength passes through Si of up to about 1 mm in thickness, so a membrane part 11 of the Si stencil mask 10 passes light and shows transmissivity different from Si for a carbon or metal particle as the dust 13.例文帳に追加
波長が1μm以上の光は、厚さが1mm程度までのSiを通過するため、Siステンシルマスク10のメンブレン部11は光が通過し、ごみ13であるカーボンや金属粒子に対して、Siとは異なる透過性を示す。 - 特許庁
The conductive paste contains a thermosetting resin and conductive powder having an average particle size d_50 of 2.2 μm or smaller and a tap density in the range of 4.6 to 6.5 g/cm^3, and is used in forming a conductive bump by printing with a metal mask stencil having a hole size of 70 μm or smaller.例文帳に追加
熱硬化性樹脂と、平均粒径d_50が2.2μm以下かつタップ密度が4.6〜6.5g/cm^3の導電性粉体とを含有し、孔径70μm以下のメタルマスク版を用いた印刷による導電性バンプ形成用である導電性ペースト。 - 特許庁
To provide a conductive paste which enables printing with a metal mask stencil having a hole size of 70 μm or smaller without causing clogging, and realizes a high-density conductive bump by containing a high content of conductive powder to form a conductive bump having a small size and excellent conductivity.例文帳に追加
孔径70μm以下のメタルマスク版を用いて目詰まりすることなく印刷でき、導電性粉末の含有量を多くすることで導電性バンプの高密度化が可能となり、小径でも導電性が良好な導電性バンプを形成することができる導電性ペーストを提供すること。 - 特許庁
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「metal stencil」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
The W/O type emulsion ink for stencil printing comprises 10-90 wt.% of an oil phase and 90-10 wt.% of a water phase, wherein the oil phase contains a vegetable oil, and the water phase contains a metal salt (a sodium salt, an aluminum salt) or a sequestering agent.例文帳に追加
油相10〜90重量%と水相90〜10重量%によって構成される孔版印刷用W/O型エマルションインキにおいて、油相が植物油を含有し、かつ水相が金属塩(ナトリウム塩、アルミニウム塩)または金属イオン封鎖剤を含有していることを特徴とする。 - 特許庁
To provide an image forming method and an image forming device thereof free from ink bleeding and set-off of a recording paper even when a low-cost printing papers such as used papers are used in stencil printing and printing not only on papers but also on various kinds of recording bodies such as a resin film, a metal material and a ceramic material.例文帳に追加
孔版印刷において、更紙などの低コストプリント用紙を利用しても、インクの滲みや記録紙の裏写りがなく両面印刷が可能で、さらに、紙への印刷に限らず、樹脂フィルム、金属材料、セラミック材料等の各種記録体にも印刷が可能な画像形成方法及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁
The stencil mask 10 comprises a mask layer 13, having an opening part 14 which has one or a plurality of openings 15, a support base 11 composed of other parts 16 than the opening part 14 for supporting the mask layer 13, and a metal-containing silicon oxide film layer 12 provided between the mask layer 13 and the base 11.例文帳に追加
一つ或いは複数個の開口15を有する開口部14を有するマクス部層13、当該開口部14以外の部分16からなるマクス部層13を支持する支持台部11及び当該マスク部層13と当該支持台部11との間に設けられている金属を含んだシリコン酸化膜層部12とで構成されているステンシルマスク10。 - 特許庁
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