p Phとは 意味・読み方・使い方

A grinding margin P of a hard disk base board W attraction- mounted on a grinder support base includes a rough grinding margin P and a finish grinding margin PH.例文帳に追加

研削盤の支持台上に吸着取り付けしたハードディスク基板Ｗの研削代Ｐは荒加工代Ｐ０と仕上げ加工代ＰＨを含んでいる。 - 特許庁

(2) The method for producing the polymer by reacting the phenols at the rate of 3.0 mole or more with respect to the total 1 mol of salicyl aldehyde and formaldehyde at ≤70°C.例文帳に追加

Ph(OH)-［CH_2-(Ph)OH］_m-［CH((PH)OH)((PH)OH)］_ｎ （式中、Phは、フェニル、フェニレン等のベンゼン核残基であり、m/mが0.7/1〜1.5/1であり、上記CH_2基のOH基に対する置換位置がp/o位で2.0以上である） (2)サリチルアルデヒドとホルムアルデヒド合計１モルに対しフェノール類を3.0モル以上の割合で、70℃以下の温度で反応させることにより上記フェノール系重合体を製造する方法。 - 特許庁

A substrate holder PH is used in the aligner for exposing a substrate P, by irradiating the exposure light on the substrate P via a projection optical system PL and fluid LQ.例文帳に追加

基板ホルダＰＨは、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上に露光光を照射して基板Ｐを露光する露光装置で使用される。 - 特許庁

The substrate holder PH is coated by a functional layer 35 composed of a material which can be processed, in such a way that a contact surface 34A in contact with substrate P possesses profile irregularity higher than that of the substrate PB of the substrate holder PH.例文帳に追加

その基板ホルダＰＨは、基板Ｐとの接触面３４Ａが、基板ホルダＰＨの基材ＰＢよりも高い面精度で加工可能な材料の機能層３５で被覆されている。 - 特許庁

The apparatus EX for exposing comprises a substrate holder PH for mounting a photosensitive substrate P, and a soft X-ray emitting unit 11 for emitting soft X-rays XB which are different from an exposure light EL along a mounting surface A of the holder PH for mounting the substrate P.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、感光基板Ｐを載置する基板ホルダＰＨと、感光基板Ｐを載置する基板ホルダＰＨの載置面Ａに沿って露光光ＥＬとは異なる軟Ｘ線ＸＢを照射する軟Ｘ線照射部１１とを備えている。 - 特許庁

A bacterium belonging to the genus Bacillus capable of forming hypoxanthine, preferably Bacillus sp. 206-4B (FERM P-20005) is cultured in an adenine-containing culture medium, preferably in a medium containing the minimum adenine adjusted to pH 6-8 to form and accumulate hypoxanthine and the hypoxanthine is collected.例文帳に追加

ヒポキサンチンを生成せしめる能力を有するバチルス属に属する微生物、好ましくはバチルス sp. 206-4B（FERM P-20005）を、アデニン添加培地、好ましくはpHを6〜8に調整したアデニン添加最少培地において培養することによりヒポキサンチンを生成蓄積せしめ、これを採取する。 - 特許庁

Also, the discharge plasma P simultaneously forms the hollow discharge plasma Ph and the glow discharge Pg, and the substrate 14 is synchronously etched.例文帳に追加

しかも、放電プラズマＰはホロー放電プラズマＰｈとグロー放電プラズマＰｇを同時に形成し、同時進行で基板１４をエッチングする。 - 特許庁

A processing face 14a of the substrate 14 is deeply dug by the hollow discharge plasma Ph formed at the central part of the discharge plasma P.例文帳に追加

放電プラズマＰの中心部に形成されたホロー放電プラズマＰｈにて、基板１４の処理面１４ａを深堀加工する。 - 特許庁