plane horizontal formとは 意味・読み方・使い方

For example, a plurality of transparent protrusions 1 are arranged on the light emitting surface, its side wall face 1a forms the vertical plane, and its upper end face 1b and gap face 1c form the horizontal plane.例文帳に追加

例えば、複数の透明な突起部１が光出射面に配列され、その側壁面１ａが上記垂直面となり、上端面１ｂおよび間隙面１ｃが上記水平面となる。 - 特許庁

The patch antenna 12 is arranged so that the plane of the patch antenna 12 may form an angle of 45 degrees or more to a horizontal surface when the imaging apparatus is held so that a photographing optical axis may be horizontal in the most basic photographing posture.例文帳に追加

撮像装置を最も基本的な撮影姿勢で撮影光軸が水平になるように構えたとき、パッチアンテナ１２の平面が水平面に対して４５度以上の角度をなすようにパッチアンテナ１２が配置される。 - 特許庁

The image output plane is produced by arranging a plurality of pixels each comprising one end of an optical fiber in the horizontal direction H to form a pixel line and then arranging a plurality of pixel lines in the direction V perpendicular to the horizontal direction H.例文帳に追加

光ファイバの一方端部から成る画素を水平方向Ｈに複数個配列して成る画素列を、水平方向Ｈに直交する方向Ｖに複数本配列して画像出力面を構成する。 - 特許庁

To provide a counterweight for an elevator free to set in an elevator shaft large in an area on a horizontal plane of projection and of narrow inner size dimensions on the elevator in a form without a machine room.例文帳に追加

水平投影面における面積が大きく、機械室なし形態のエレベーターでの狭い内法寸法の昇降路に設置できるエレベーター用つり合おもりを得る。 - 特許庁

A GaN layer 31 is etched to form islands in a spotty pattern, a stripe pattern, or a lattice pattern in such a way that the horizontal cross sectional area approaches zero as the cross section moves far from the substrate plane.例文帳に追加

GaN層３１を基板面から遠ざかるにしたがってその水平断面積が０に近づくよう、点状、ストライプ状又は格子状等の島状態にエッチングする。 - 特許庁

A diameter-reduced side end of the levee side surface forming body 24 is equipped with an approximately cylindrical rotatable levee top surface forming body 25 that compacts soil and so as to form a horizontal plane-like levee top surface.例文帳に追加

畦側面形成体24の縮径側端部には、土を締め固めて水平面状の畦上面を形成する略円筒状の回転可能な畦上面形成体25を設ける。 - 特許庁

A desired ion species is selected by a mass spectrometry slit 118, put into an angle correction apparatus 120, changed into a w_2 width ribbon form ion beam parallel in a horizontal plane (xz plane), and ion implantation is carried out to a workpiece 124 in an end station 122.例文帳に追加

所望のイオン種を質量分析スリット１１８で選別し、角度補正装置１２０に入れ、水平面（ｘｚ面）内で平行な幅w_2のリボン形イオンビームに変換して、エンドステーション１２２内の加工物１２４にイオン注入する。 - 特許庁

An insulating film to be etched to form the contact hole 10 is less in amount than an insulating film to be etched to form the contact hole 11, and the part of the insulating film over the gate interconnection 3 is inclined to a horizontal plane.例文帳に追加

コンタクトホール１０の形成のためにエッチングされる絶縁膜の量は、コンタクトホール１１の形成のためにエッチングされる絶縁膜の量より多く、絶縁膜のうちゲート配線３の上部の絶縁膜は、水平面に対し傾斜している。 - 特許庁