plasma position controlとは 意味・読み方・使い方

To prevent the wasteful consumption of high-frequency power and control plasma density distribution without the limitation of the connecting position of a phase control circuit in a plasma processor unifying the plasma density distribution in a chamber by adjusting the phase of the high-frequency power applied to a plasma generating electrode with the phase control circuit.例文帳に追加

プラズマ生成用電極に加える高周波電力の位相を位相制御回路で調整して、チャンバ内のプラズマ密度分布を均一化するプラズマ処理装置において、高周波電力消費の無駄をなくし、かつ位相制御回路の接続箇所の制約を伴うことなく、プラズマ密度分布の制御を可能とする。 - 特許庁

The relative magnetic permeability of the ferrite constructing the magnetic field shielding member 80 is smaller than the relative magnetic permeability of the core 30a, and the magnetic field shielding member 80 functions as a plasma position control means for controlling the position of plasma that is generated in the bulb 10.例文帳に追加

磁場遮蔽部材８０を構成するフェライトの比透磁率は、コア３０ａの比透磁率よりも小さく、磁場遮蔽部材８０は、バルブ１０内に発生するプラズマの位置を制御するプラズマ位置制御手段として機能する。 - 特許庁

To provide an ICP-MS device and method which can control a position and a shape of plasma face and reduce a desensitizing or sensitizing by a matrix effect.例文帳に追加

プラズマ面の位置及び形状を制御可能で、マトリックス効果による減感又は増感を低減可能なICP-MS装置及び方法の提供。 - 特許庁

The bonding device comprises a discharge device which forms a free air ball at the tip of a wire, a bonding tool which bonds the free air ball formed at the tip of a wire to a first bonding position, a plasma irradiation device which cleans the bonding tool by irradiating plasma, and a control unit which controls the discharge device, the bonding tool, and the plasma irradiation device.例文帳に追加

ワイヤの先端にフリーエアーボールを形成する放電装置、ワイヤの先端に形成されたフリーエアーボールを第１ボンディング位置にボンディングするボンディングツール、プラズマを照射してボンディングツールを洗浄するプラズマ照射装置、放電装置、ボンディングツール、およびプラズマ照射装置を制御する制御装置を備える。 - 特許庁

Further, by controlling a flow of the above gas, a position control of a region in which an EUV light with a wavelength of 13.5 nm is irradiated in the high-density high-temperature plasma can be carried out in high accuracy.例文帳に追加

また、上記ガスの流量を調整することにより高密度高温プラズマにおいて波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光を放射する領域の位置制御を高精度に行うことが可能となる。 - 特許庁

The plasma display device has LUTs 11A to 11D where pixel data and pixel drive data representing sub-fields are made to correspond to each other and a sequence control circuit 12 which generates a control pattern where four kinds of pieces of specification information are arranged, decides which position on the control pattern the input pixel data correspond to, and selects a LUT specified with specification information at the decided position.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置は、画素データとサブフィールドを表す画素駆動データとを対応させたＬＵＴ１１Ａ〜１１Ｄと、４種類の指定情報を配置した制御パターンを生成し、入力画素データが制御パターン上のどの位置に対応するかを判別し、判別した位置の指定情報で指定されるＬＵＴを選択するシーケンス制御回路１２を有する。 - 特許庁

Before film deposition, a plasma density distribution in the vicinity of the surface of a target is measured; the optimum position of erosion and TS (target-substrate) distance are decided by preliminarily set data bases and simulators as for the position of erosion, TS distance and film thickness distribution; and optimization is attained by respective control means.例文帳に追加

成膜前にターゲット表面近傍のプラズマ密度分布を測定し、予め設定されたエロージョンの位置及びＴＳ距離と膜厚分布に関するデータベースやシミュレータにより、最適なエロージョンの位置とＴＳ距離を決定し、それぞれの調整手段により最適化を図る。 - 特許庁