poly- siliconとは 意味・読み方・使い方

In addition, a second poly-silicon layer 8 is used as an upper layer electrode 10.例文帳に追加

また、上層電極１０として第２のポリシリコン層８を用いている。 - 特許庁

MANUFACTURE OF POLY-CRYSTAL SILICON LAYER AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

多結晶シリコン層の製造方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

MULTI-LAYER HIGH QUALITY GATE DIELECTRIC FOR LOW-TEMPERATURE POLY-SILICON TFT例文帳に追加

低温ポリシリコンＴＦＴのための多層高品質ゲート誘電体 - 特許庁

This TFT is utilized for a LCD of the TFT made of poly-silicon.例文帳に追加

本発明は、ポリシリコンのＴＦＴのＬＣＤに利用されるものである。 - 特許庁

METHOD OF FORMING LOW TEMPERATURE POLY SILICON TFT GATE OXIDE FILM例文帳に追加

低温ポリシリコンＴＦＴゲート酸化膜の形成方法 - 特許庁

To form a poly-silicon film which has very high quality and contains less impurities.例文帳に追加

極めて高品質で不純物の少ないｐｏｌｙ−ｓｉ膜を形成する。 - 特許庁

A stacked poly silicon film 7 is formed by continually depositing a first poly silicon film 7a having no impurity and a second poly silicon film 7b for determining a resistance value through one manufacturing process without exposing the films 7a and 7b to the atmosphere.例文帳に追加

不純物を含有しない第１のポリシリコン膜７ａと、抵抗値を決定するための第２のポリシリコン膜７ｂを大気への曝露なく１回の製造工程により連続して堆積させて積層ポリシリコン膜７を形成する。 - 特許庁

To provide a polishing agent for a silicon oxide capable of polishing a silicon oxide film on a poly-silicon film at high speed and suppressing polish proceeds of the poly-silicon film when the poly-silicon film is exposed, in the method for manufacturing a semiconductor device, and the polishing method using the polishing agent.例文帳に追加

半導体製造方法において、ポリシリコン膜上の酸化ケイ素膜を高速で研磨でき、かつ、ポリシリコン膜の露出時にポリシリコン膜の研磨の進行を抑えることができる酸化ケイ素用研磨剤とそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁