projective systemとは 意味・読み方・使い方

Moreover, this exposure has a photosensitive sensor 3 on a wafer stage 15 so as to monitor the state of contamination of the projective optical system 12, and decides whether to clean the projective optical system, based on the detection result of the photoelectric sensor 3.例文帳に追加

また、投影光学系１２のコンタミネーションの状態をモニタするためにウエハステージ１５上に光電センサ３を有し、光電センサ３の検出結果に基づいて投影光学系のクリーニングの可否を決定する。 - 特許庁

This is an aligner which projects and transfers the image of the pattern of a mask 1 on a substrate 2 through a projective optical system 3.例文帳に追加

マスク１のパターンの像を投影光学系３を介して基板２上に投影転写する露光装置である。 - 特許庁

To enhance an NA to the vicinity of a refractive index of a glass material used in a final lens in an immersion optical system suitable as a projective optical system of a scanning photolithography machine.例文帳に追加

走査型露光装置の投影光学系として好適な液浸光学系において、ＮＡを最終レンズに用いられる硝材の屈折率の屈折率近傍以上まで高める。 - 特許庁

A lens shift control means 10 shifts a projective lens of a projection optical system together with the area sensor in a prescribed direction to adjust the position of the projected image.例文帳に追加

レンズシフト制御手段１０は、投映光学系の投映レンズを前記エリアセンサとともに所定方向にシフトさせて投映画像の位置を調整する。 - 特許庁

This aligner is provided continually with a calibration plate 1 which serves for dose control, etc., and a plate 2 which serves to diffuse the light to irradiate the diffusion plate for cleaning or the projection system, on a reticle stage 11, and light is applied evenly into the projective optical system 12 by applying exposure light at need thereby desorbing the contamination within the projective optical system 12.例文帳に追加

本発明の露光装置は、レチクルステージ１１上にドーズコントロール用等の役目を持つキャリブレーションプレート１と、クリーニング用の拡散板もしくは投影光学系を照射する光を拡散させる役目を持つプレート２を常設し、必要に応じて露光光を照射して投影光学系１２内に万遍なく光を照射し、投影光学系１２内のコンタミネーションを脱離させる。 - 特許庁

In doing so, a focal position of a projective lens 6 and a focal position of the light reception lens 4 are determined so that the focus of an imaging optical system aligns with an image focus location of the pattern 3.例文帳に追加

このとき、二次元格子パターン３の結像位置に、撮像光学系の焦点が合うように、投影レンズ６の焦点位置と、受光レンズ４の焦点位置とが決定される。 - 特許庁

To provide a projection aligner, etc., which can illuminate the desired region on a reticle plate accurately even if a visual field stopping projective optical system has an aberration or an error in manufacture.例文帳に追加

視野絞り投影光学系が収差、製造誤差を有していても、レチクル原板上の所望の領域を正確に照明することができる投影露光装置等を提供すること。 - 特許庁

Under the exposure light IL in a vacuum ultraviolet ray region, the image of the pattern of a reticle 12 is projected on the wafer 1 7a on the wafer stage 18a within a wafer chamber 24 through a projective optical system PL.例文帳に追加

真空紫外域の露光光ＩＬのもとで、レチクル１２のパターンの像が投影光学系ＰＬを介して、ウエハ室２４内のウエハステージ１８ａ上のウエハ１７ａに投影される。 - 特許庁