「projective system」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a mask exposure system which improves the heat stability of a permeable mask for a projective lithography system, and its method.例文帳に追加

投影リソグラフィシステム用の透過マスクの熱安定性が改善されたマスク露光システム及び方法を提供する。 - 特許庁

A parallel flat board 47 is arranged capably of exchange between a projective optical system PL and a wafer W.例文帳に追加

投影光学系ＰＬとウエハＷとの間に平行平面板４７を交換可能に配設する。 - 特許庁

Moreover, this exposure has a photosensitive sensor 3 on a wafer stage 15 so as to monitor the state of contamination of the projective optical system 12, and decides whether to clean the projective optical system, based on the detection result of the photoelectric sensor 3.例文帳に追加

また、投影光学系１２のコンタミネーションの状態をモニタするためにウエハステージ１５上に光電センサ３を有し、光電センサ３の検出結果に基づいて投影光学系のクリーニングの可否を決定する。 - 特許庁

This is an aligner which projects and transfers the image of the pattern of a mask 1 on a substrate 2 through a projective optical system 3.例文帳に追加

マスク１のパターンの像を投影光学系３を介して基板２上に投影転写する露光装置である。 - 特許庁

To enhance an NA to the vicinity of a refractive index of a glass material used in a final lens in an immersion optical system suitable as a projective optical system of a scanning photolithography machine.例文帳に追加

走査型露光装置の投影光学系として好適な液浸光学系において、ＮＡを最終レンズに用いられる硝材の屈折率の屈折率近傍以上まで高める。 - 特許庁

A lens shift control means 10 shifts a projective lens of a projection optical system together with the area sensor in a prescribed direction to adjust the position of the projected image.例文帳に追加

レンズシフト制御手段１０は、投映光学系の投映レンズを前記エリアセンサとともに所定方向にシフトさせて投映画像の位置を調整する。 - 特許庁

This aligner is provided continually with a calibration plate 1 which serves for dose control, etc., and a plate 2 which serves to diffuse the light to irradiate the diffusion plate for cleaning or the projection system, on a reticle stage 11, and light is applied evenly into the projective optical system 12 by applying exposure light at need thereby desorbing the contamination within the projective optical system 12.例文帳に追加

本発明の露光装置は、レチクルステージ１１上にドーズコントロール用等の役目を持つキャリブレーションプレート１と、クリーニング用の拡散板もしくは投影光学系を照射する光を拡散させる役目を持つプレート２を常設し、必要に応じて露光光を照射して投影光学系１２内に万遍なく光を照射し、投影光学系１２内のコンタミネーションを脱離させる。 - 特許庁

In doing so, a focal position of a projective lens 6 and a focal position of the light reception lens 4 are determined so that the focus of an imaging optical system aligns with an image focus location of the pattern 3.例文帳に追加

このとき、二次元格子パターン３の結像位置に、撮像光学系の焦点が合うように、投影レンズ６の焦点位置と、受光レンズ４の焦点位置とが決定される。 - 特許庁

To provide a projection aligner, etc., which can illuminate the desired region on a reticle plate accurately even if a visual field stopping projective optical system has an aberration or an error in manufacture.例文帳に追加

視野絞り投影光学系が収差、製造誤差を有していても、レチクル原板上の所望の領域を正確に照明することができる投影露光装置等を提供すること。 - 特許庁

Under the exposure light IL in a vacuum ultraviolet ray region, the image of the pattern of a reticle 12 is projected on the wafer 1 7a on the wafer stage 18a within a wafer chamber 24 through a projective optical system PL.例文帳に追加

真空紫外域の露光光ＩＬのもとで、レチクル１２のパターンの像が投影光学系ＰＬを介して、ウエハ室２４内のウエハステージ１８ａ上のウエハ１７ａに投影される。 - 特許庁

To provide a means of grasping the state of the deposit on a projective optical system accurately and grasping the situation in the middle of cleaning accurately, too, and also to provide an aligner which cleans the projection optical system efficiently in a short time.例文帳に追加

投影光学系の付着物の状態を正確に把握し、クリーニングの途中における状況も正確に把握する手段を提供するとともに、短時間で効率良く投影光学系をクリーニングする露光装置を提供する。 - 特許庁

An imaging means 11b converts into image data an optical image obtained from a picture taken over a view field of 360° around through an optical system 11a capable of performing central projective transformation.例文帳に追加

周囲３６０度の視野領域における映像が得られ、その映像に対して中心射影変換が可能な光学系１１ａを通して得られる光学像を撮像手段１１ｂにて画像データに変換する。 - 特許庁

While a photosensitive substrate 16 placed on a substrate stage 17 is moved stepwise for a projective optical system 15, a pattern image of a mask 14 in which a required pattern is formed is successively exposed on each exposure region of the photosensitive substrate.例文帳に追加

基板ステージ（１７）上に載置された感光性基板（１６）を投影光学系（１５）に対してステッピング移動させつつ、所定のパターンが形成されたマスク（１４）のパターンの像を感光性基板上の各露光領域に順次露光する。 - 特許庁

This invention relates to the catadioptric projective optical system provided with a 1 having a rectangular object field, a physical beam splitter 1000, a concave reflecting mirror 18, an image surface 1034, a first optical system component 100 installed between the object plane 1 and the physical beam splitter, a second optical system component 200 and a third optical system component 300.例文帳に追加

本発明は、矩形状のオブジェクトフィールドを有する物体面１と、物理的ビームスプリッタ１０００と、凹面反射鏡１８と、像面１０３４と、物体面１と物理的ビームスプリッタとの間に設けられた第１の光学系構成部１００と、第２の光学系構成部２００と、第３の光学系構成部３００とを有している反射屈折投影光学系に関するものである。 - 特許庁

In order to substantially control a change of the optical characteristics of each of the projective optical units due to irradiation with light, the illumination system has an intensity distribution setting means to set the intensity distribution of light of the secondary light source as an intensity distribution in which the intensity in the periphery is higher than that in the center.例文帳に追加

照明系は、光照射による各投影光学ユニットの光学特性の変動を実質的に制御するために、二次光源の光強度分布を、中心よりも周辺において実質的に強度の高い光強度分布に設定するための強度分布設定手段（９）を備えている。 - 特許庁

In the projective display device constituted of three-plate system, ITO whose light absorbing coefficient with respect to light whose wavelength is 410 nm is not more than 2,000 cm-1 is used for a pixel electrode 9a formed positioned in the lower layer of the alignment layer 16 of the liquid crystal device 961B which optically modulates at least blue.例文帳に追加

３板方式からなる投射型表示装置にあって、少なくとも青色を光変調する液晶装置９６１Ｂの配向膜１６の下層に位置して形成される画素電極９ａに、波長４１０ｎｍの光に対する光吸収係数が２０００ｃｍ^-1以下のＩＴＯが用いられることを特徴とする。 - 特許庁