reactive evaporationとは 意味・読み方・使い方

The catalyst 4 with the dendritic structure is formed by a vacuum evaporation method like reactive sputter, reactive electron beam evaporation, or ion plating.例文帳に追加

樹枝状構造の触媒４は、反応性スパッタ、反応性電子ビーム蒸着、イオンプレーティング等の真空蒸着法により形成する。 - 特許庁

The inside of the vacuum chamber is provided with a rotary type evaporation source, a heating means heating the evaporation material of the evaporation source, a substrate confronting the evaporating source and a reactive gas introducing port, and the upper part of the evaporation source is provided with the metallic deposition preventive board preventing the scattering of the evaporation material going toward the directions other than the direction of the substrate.例文帳に追加

真空室内に、回転式の蒸発源、蒸発源の蒸発材料を加熱する加熱手段、蒸発源に対向した基板、及び反応性ガス導入口を設け、該蒸発源の上方に、該基板の方向以外へ向かう蒸発物の飛散を防止する金属製の防着板を設けた装置構成とする。 - 特許庁

The selective patterning method includes a DC heating evaporation method, an ion beam evaporation method, a reactive ion beam evaporation method, a two-pole sputtering method, a magnetron sputtering method, a reactive sputtering method, a three-pole sputtering method, an ion beam sputtering method, an ion plating method, a hollow cathode beam method, an ion beam injection method and a plasma CVD method and the like.例文帳に追加

選択的パターニング方法は、直流加熱蒸着法、イオンビーム蒸着法、反応性イオンビーム蒸着法、２極スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、反応性スパッタ法、３極スパッタ法、イオンビームスパッタ法、イオンプレーティング法、ホローカソードビーム法、イオンビーム注入法及びプラズマＣＶＤ法などである。 - 特許庁

The steam barrier film is composed of two types of oxides, and formed by a co-evaporation method in which an evaporation material composed of a first oxide (X) and an evaporation material composed of a second oxide (Y) are used and simultaneously evaporated by reactive plasma evaporation.例文帳に追加

第１酸化物（Ｘ）からなる蒸着材と第２酸化物（Ｙ）からなる蒸着材を用い、反応性プラズマ蒸着法によって同時に蒸着する共蒸着法で成膜した、２種類の酸化物から構成された水蒸気バリア膜であって、バリア膜の膜厚が３０〜５００ｎｍの範囲内であるとき、θ×ΔＢ≧５０（但し、５０°≦θ≦１２５°、ΔＢ＞０．４）を満たすことを特徴とする。 - 特許庁

The respective metal oxide layers composing the compound layer are formed by using one and the same evaporation source, and the adjacent layers are formed under conditions having different reactive gaseous oxide partial pressures.例文帳に追加

前記複合層を構成する各金属酸化物層は、同一の蒸発源を用い、かつ隣接する層同士は、反応性酸素ガス分圧が異なる条件下で蒸着することで形成されることを含む。 - 特許庁

To provide an electron beam gun reducing an arc under an operation pressure of the order of 10-3 Torrs used for a reactive and oxide evaporation and having a filament emitter not deteriorated by a reaction with oxygen.例文帳に追加

反応性及び酸化物蒸着で用いられる１０^-3トール程度の操作圧力におけるアークを低減し、フィラメントエミッタが酸素との反応により劣化しない電子ビーム銃を提供する。 - 特許庁

Titanium is fused and evaporated by an electron beam, and titanium oxide is produced by an ARE (activated reactive evaporation) process to form the colored titanium compound layer 4 consisting of titanium oxide of 0.3 to 0.5 μm thickness.例文帳に追加

電子ビームによりチタンを融解・気化させ、ＡＲＥ法により酸化チタンを生成し、０．３〜０．５μｍの酸化チタンからなる有色チタン化合物層４を形成する。 - 特許庁