scratches outとは 意味・読み方・使い方

To provide an optical disk apparatus for preventing that when the apparatus is returned from out of focus, an objective lens collides with a disk surface and scratches it, while focus setting can be performed quickly and accurately.例文帳に追加

フォーカス外れから復帰する際に対物レンズがディスク面に衝突してディスクを傷付けることを防止するとともに、フォーカス引き込みを迅速かつ正確に行うことを可能とする光ディスク装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for packing tapes which packs tapes without damages/scratches, and by which the tapes is smoothly takes out without tangle with a simple structure.例文帳に追加

テープ類の損傷のない梱包ができるとともに、テープ類のもつれのない円滑な引き出しが簡単な構成でできるテープ類の梱包方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a sheet like material that efficiently utilizes abrasive grain when used as an abrasive cloth, carries out polishing with extremely few defects such as scratches etc., and is useful as an abrasive cloth having an excellent smoothness.例文帳に追加

研磨布として用いた場合に砥粒を効率よく利用できると同時に、スクラッチなどの欠点の非常に少ない研磨を行うことができる、平滑性に優れた研磨布として有用なシート状物を得る。 - 特許庁

To provide a temper rolling method of a steel sheet by which mill stop is carried out or a weld zone is passed through a mill without generating scratches on a rolling roll.例文帳に追加

圧延ロールに疵を発生させることなく、ミル停止を行うことができる、あるいは溶接部をミル通過させることができる、鋼板の調質圧延方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal treatment jig and a thermal treatment method capable of effectively suppressing occurenses of scratches or slips even if thermal treatment is carried out at high tmperatures of not less than 1,000°C.例文帳に追加

ウエーハを特に１０００℃以上となるような高温で熱処理する場合でも、キズやスリップの発生を効果的に抑制することができる熱処理用治具および熱処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a CMP device having a polish monitoring window on a platen, wherein it is prevented that slurry is solidified by infiltrating into a gap in a window mounting part, and a solidified substance scratches a polished surface by flowing out onto a pad.例文帳に追加

プラテンに研磨モニタ窓を設けたCMP装置において、窓の取付け部の隙間へスラリーが浸入して固化し、固化物がパッド上へ流出して研磨面にスクラッチを及ぼすことを防止する。 - 特許庁

For this reason, as a rough machining polishing operation and a finishing polishing operation can be carried out by a set of platen, it is possible to prevent scratches on the surface of the material to be polished without lowering the throughput in the CMP process.例文帳に追加

このため、１台のプラテン上で粗削り研磨と仕上げ研磨とを行うことができるので、ＣＭＰ工程におけるスループットを低下させることなく、被研磨材の表面に生ずるスクラッチを防ぐことができるようになっている。 - 特許庁

To provide a polishing material and a polishing method for composite films comprising a magnetic metal membrane and an insulating material film and able to carry out a CMP treatment without generating defects such as scratches and the like on the magnetic metal membrane.例文帳に追加

磁性金属膜上にスクラッチ等の欠陥を生じることなくＣＭＰ処理が可能な磁性金属膜および絶縁材料膜の複合材料膜用研磨材及び研磨方法を提供する。 - 特許庁