second-set reactionとは 意味・読み方・使い方

In this way, the reaction product mixture into the wafer is controlled in the manufacturing step of the second set of wafer group, while damages on the protecting membrane are suppressed.例文帳に追加

これにより、保護部材の受ける損傷を抑制しつつ、第２組目のウェハ群の製造工程において、ウェハへの反応生成物の混入が抑制される。 - 特許庁

Thus, a period exceeding the reaction time that a first sensor can react when the player brings one hand close to the second target area is set as a determination reference period of operation input presence/absence.例文帳に追加

このため、遊技者が第２目標領域に片手を近接させる場合に第１センサが反応しうる反応時間を超える期間を操作入力有無の判定基準期間として設定している。 - 特許庁

When the rotating speed of the follower disk 200 is changed, a reaction force is transmitted to a second planetary gear set 620 with the inertia moment of the follower disk 200.例文帳に追加

従動円盤２００の回転速度が変化すると、従動円盤２００の慣性モーメントにより、第２の遊星ギアセット６２０に対して反力が伝えられる。 - 特許庁

The electric heating coil 54 is controlled in operation on the basis of the detection signal from the temperature sensor 61 provided in the second reactor 60 to set the temperature of the reaction gas guided into the common piping 53 to 400°C.例文帳に追加

電熱コイル５４は、第２反応器６０内に設けられた温度センサ６１からの検出信号に基づいて作動制御され、共通配管５３内を導かれる反応ガスの温度を４００℃とする。 - 特許庁

When a plurality of wafers are successively subjected to etching for forming multilayered film gates formed of metal and poly-Si different from each other in reactivity, the amount of an Si reaction product is properly regulated in an etching condition that is just previously set, by which a dimensional shift is restrained from occurring between a first wafer and a second wafer in an etching process.例文帳に追加

金属とPoly−Ｓｉといったような反応性の異なる多層積膜ゲートを複数枚連続でエッチングする場合、直前のエージング条件でＳｉの反応生成物の量を適量に調節することで、エッチング工程の１枚目、２枚目の寸法シフト異常をなくすることが出来る。 - 特許庁

The control gain g2 at the time of calculating the reaction force component based upon the yawrate is set on the basis of the addition gain obtained by adding together the first control gain μb calculated in a relatively short processing time and the second control gain μc calculated with a relatively high calculation accuracy.例文帳に追加

ヨーレートに基づく反力成分を算出する際の制御ゲインｇ２を、相対的に短い処理時間で算出される第１制御ゲインμｂと、相対的に高い演算精度で算出される第２制御ゲインμｃとを加算して得た加算ゲインｇｓに基づき設定した。 - 特許庁

Thereafter, in the dry etching process of the second stage, a mixture gas of CF_4 and O_2 is used, a bottom part 4R of the hole 4a is removed in a state where pressure in the reaction chamber is set to 50-1,000 Pa, and the upper surface of the carbon nanotube layer 3 is exposed.例文帳に追加

その後、第２段階のドライエッチング工程においては、ＣＦ_4およびＯ_2の混合ガスが用いられ、反応室内圧力が５０以上１０００Ｐａ以下に設定されている状態で、ホール４ａの底面部４Ｒが除去され、カーボンナノチューブ層３の上面が露出する。 - 特許庁

The biochemical autoanalyzer is equipped with a reaction tank to which a plurality of disposable cuvets are set, a dispensing part for dispensing a first reagent, a specimen and a second reagent to the cuvets, a photometric part for throwing light on the cuvets to measure the absorbance thereof and a CPU for operating the measured value of the photometric part.例文帳に追加

複数のディスポーザブル式のキュベットをセット可能な反応槽と、キュベットに第１試薬、検体、及び第２試薬を分注する分注部と、キュベットに光を当ててその吸光度を測定する測光部と、測光部の測定値を演算するＣＰＵと、を備える。 - 特許庁