solvent exposureとは 意味・読み方・使い方

There is used as the immersion liquid of the liquid immersion exposure a liquid constituted out of a fluorine-based solvent which is transparent to an exposure light used for the liquid immersion lithography process and has a boiling point of 70-270 °C.例文帳に追加

露光プロセスに用いる露光光に対して透明で、その沸点が７０〜２７０℃であるフッ素系溶剤から構成した液体を、液浸露光の浸漬液として使用する。 - 特許庁

The resist composition comprises a resin component (A) the alkali solubility of which is changed by an effect of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, both dissolved in an organic solvent (S), where the organic solvent (S) contains an aromatic organic solvent (S1).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記有機溶剤（Ｓ）は芳香族系有機溶剤（Ｓ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition for liquid immersion exposure contains: (A) a resin the solubility of which with an alkali developing solution increases by the effect of an acid; (B) a photoacid generating agent; and (C) a mixture solvent containing at least one kind selected from the following solvent group α and at least one kind selected from the following solvent group β.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂 （Ｂ）光酸発生剤 （Ｃ）下記溶媒α群から選択される少なくとも１種と下記溶剤β群から選択される少なくとも１種を含有する混合溶剤。 - 特許庁

Cleaning liquid which contains (a) surfactant and (b) lactone solvent and whose content of (b) lactone solvent is not less than 60 wt.% is used as that for cleaning a liquid immersion exposure device filling a space between an optical lens part and an object of exposure, which is placed on a wafer stage, with a liquid immersion medium and performing exposure.例文帳に追加

光学レンズ部とウェーハステージ上に載置した露光対象物との間を液浸媒体で満たして露光を行う液浸露光装置の洗浄に使用される洗浄液として、（ａ）界面活性剤、及び（ｂ）ラクトン系溶剤を含有し、（ｂ）ラクトン系溶剤の含有量が６０質量％以上である洗浄液を用いる。 - 特許庁

The manufacturing process of the polymer compound for photoresists for immersion exposure comprises precipitating, using an organic solvent, a polymer containing a monomer unit having a group part of which is eliminated with an acid to show alkaline solubility and re-precipitating, rinsing or re-pulping it using an aqueous solvent.例文帳に追加

液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物の製造法は、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性機能を発現する基を有するモノマー単位を含むポリマーを有機溶媒による沈殿に付した後、さらに水性溶媒による再沈殿、リンス又はリパルプ操作に付すことを特徴とする。 - 特許庁

After dissolving non-substituted phthalocyanine and phthalocyanine which has a substituent in an acid, a complex which has been obtained by being deposited in a poor solvent, is made a fine particle, then is applied on a substrate, the exposure of an organic solvent steam is performed on the substrate.例文帳に追加

無置換フタロシアニン及び置換基を有するフタロシアニンとを酸に溶解させた後に、貧溶媒に析出させて得られた複合体を、微粒子化した後、基板上に塗布し、基板上で有機溶媒蒸気の暴露を行うことによる。 - 特許庁

The production of a solution is described in which a binder resin is dissolved in a solvent to a level where there is no problem with continuous ejection stability in use in an inkjet head, and the dissolution is effected by ultrasound exposure or media dispersion after the solvent and the binder resin are mixed.例文帳に追加

溶剤とバインダ樹脂を混合後、超音波の照射又はメディア分散することでインクジェットヘッドによる連続吐出安定性に問題とならないレベルにまで、バインダ樹脂を溶剤に溶解した溶液を製造する。 - 特許庁

subsequently, the resist film 11, from which the solvent is evaporated, is selectively irradiated in a vacuum by extreme ultraviolet rays 14 to effect pattern exposure, and, thereafter, the resist film 11 exposed through pattern exposure is developed to form a resist pattern 16.例文帳に追加

次に、溶媒が揮発したレジスト膜１１に対して真空中において極紫外線１４を選択的に照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像してレジストパターン１６を形成する。 - 特許庁