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source targetとは 意味・読み方・使い方
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Weblio例文辞書での「source target」に類似した例文 |
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source target
a mark
the target
the objective case
the intended purpose
故意に.
「source target」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1499件
Source and Target発音を聞く 例文帳に追加
ソースとターゲット - NetBeans
Or, a move was attempted, while target is a descendant of source .発音を聞く 例文帳に追加
または、targetがsourceの子孫なのに移動が要求された。 - JM
TARGET FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE例文帳に追加
極端紫外光源用ターゲット - 特許庁
TARGET FOR SPUTTERING SOURCE例文帳に追加
スパッター源用ターゲット - 特許庁
Return true if source exists and is more recently modified than target, or if source exists and target doesn't.Return false if both exist and target is the same age or newer than source.Raise DistutilsFileError if source does not exist.例文帳に追加
sourceが存在して、targetより最近変更されている、またはsourceが存在して、targetが存在していない場合は真を返します。 両方が存在していて、targetのほうがsourceより新しいか同じ場合には偽を返します。 - Python
source specifies an existing mount point and target specifies the new location.発音を聞く 例文帳に追加
sourceにはすでに存在するマウントポイントを指定し、targetには新しい場所を指定する。 - JM
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「source target」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1499件
The Source eNB 200 executes an establishing procedure of the X2 interface between the Target eNB 200 and itself based on the instruction.例文帳に追加
Source eNB200はこの指示に基づいてTarget eNB200との間で、X2インタフェースの確立手順を実行する。 - 特許庁
NUCLEAR SPALLATION NEUTRON SOURCE FACILITY AND TARGET VESSEL FOR NUCLEAR SPALLATION NEUTRON SOURCE例文帳に追加
核破砕中性子源施設と核破砕中性子源用ターゲット容器 - 特許庁
LIQUID METAL TARGET FOR NEUTRON SOURCE例文帳に追加
中性子源用液体金属ターゲット - 特許庁
X-RAY SOURCE HAVING LIQUID-METAL TARGET例文帳に追加
液体金属ターゲットを有するX線源 - 特許庁
PLASMA SPUTTER TYPE MULTI-TARGET NEGATIVE ION SOURCE例文帳に追加
プラズマスパッタ型マルチターゲット負イオン源 - 特許庁
EUV PLASMA SOURCE TARGET DELIVERY SYSTEM例文帳に追加
EUVプラズマ源ターゲット供給システム - 特許庁
X-RAY SOURCE PROVIDED WITH LIQUID METAL TARGET例文帳に追加
液体金属ターゲットを備えたX線源 - 特許庁
Upon the occurrence of a handover request from a Source eNB 200 housed by the own device to a Target eNB 200, the SAE 100 instructs the Source eNB 200 to establish an X2 interface between the Source eNB 200 and the Target eNB 200 when the number of occurrence of handovers between both the eNBs 200 is increased.例文帳に追加
共に自装置が収容するSource eNB200からTarget eNB200へのハンドオーバ要求の発生時に、SAE100は、両eNB200間のハンドオーバの発生数が増加したら、Source eNB200とTarget eNB200間のX2インタフェースの確立指示を、Source eNB200に指示する。 - 特許庁
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