supersonic streamとは 意味・読み方・使い方

To effectively reduce noise of a supersonic jet by a simple structure without increasing gas consumption by making resistance to a jet stream small.例文帳に追加

簡易な構造で、しかも噴流に対する抵抗を小さくして、ガス消費量を増加させることなく、超音速噴流の騒音を効果的に低減することにある。 - 特許庁

To reduce pressure fluctuation included in a supersonic airflow by paying attention to the operation efficiency of a compressor in a low Mach number zone requiring a large flow rate, and reduce the pressure fluctuation in an air course in a circular stream type supersonic wind tunnel for acquiring a necessary Mach number.例文帳に追加

大流量を必要とする低いマッハ数域において、圧縮機の運転効率に着目して、超音速気流内に含まれる圧力変動を減少させる一方で、必要なマッハ数を得る回流式超音速風洞での風路内圧力変動の低減を図る。 - 特許庁

An aggregate of microcapsules each consisting of a core material and a polyurea-based wall film covering the core material is dissociated to individual microcapsules by colliding the aggregates with one another in a supersonic stream.例文帳に追加

芯材と、これを被覆するポリウレア系壁膜とからなるマイクロカプセルが凝集してなるマイクロカプセル凝集体を、超音速流中で該凝集体同士を衝突させ凝集を解く。 - 特許庁

A second oxidizing agent with an oxygen content equal to or more than 85 wt.% is supplied through a lance (206) arranged on a side wall (201) into the furnace in the form of jet stream (207) at an supersonic speed, and is allowed to pass through ceiling burner arrays (205a, 205b) parallel within a horizontal plane over the heating target object.例文帳に追加

側壁(201)に配置したランス(206)を通して酸素含有率が85重量％以上の第２の酸化剤を音速以上のジェット流(207)の形態で炉内に供給し、加熱対象物よりも上方の水平面内で天井バーナーの列(205a,205b)と平行に通過させる。 - 特許庁

The rubber composition for tires comprises (A) a diene rubber and 1-30 pts.mass (B) fine particles based on 100 pts.mass of the diene rubber (A), wherein the fine particles are prepared by pulverizing shells by a supersonic and high temperature gas jet stream, and have 0.1-30 μm average particle size and contain ≥98 mass% purity calcium carbonate.例文帳に追加

（Ａ）ジエン系ゴム及び（Ｂ）ジエン系ゴム（Ａ）１００質量部に対して１〜３０質量部の、超音速および高温のガスジェット流により貝殻を粉砕することにより得られた平均粒径０．１〜３０μｍおよび炭酸カルシウム純度９８質量％以上の微粉末を含むタイヤ用ゴム組成物。 - 特許庁

The surface treatment method wherein a resist film formed on a semiconductor substrate is eliminated is provided with: a process wherein the resist film is eliminated by treatment liquid containing sulfuric acid and oxygenated water; a process wherein the semiconductor substrate is left in ammonia atmosphere; and a process wherein ultrapure water of high pressure water stream which carries out supersonic vibration is made to hit against the semiconductor substrate and cleaning is performed.例文帳に追加

半導体基板上に形成されたレジスト膜を除去する表面処理方法において、硫酸と過酸化水素水とを含む処理液によりレジスト膜を除去する工程と、半導体基板をアンモニア雰囲気中に放置する工程と、超音波振動している高圧水流の超純水を半導体基板に当てて洗浄する工程とを備えている。 - 特許庁