tetramethyl ammonium hydroxideとは 意味・読み方・使い方

A cleaning agent is used for cleaning plastics, which is composed of an aqueous solution, like tetramethyl ammonium hydroxide, containing chaotropic ions of thiocyanic acid, sodium iodide, etc., and having a pH of not less than 10.例文帳に追加

水酸化テトラメチルアンモニウムのようなｐＨが１０以上の水溶液に、チオシアン酸ナトリウムまたはヨウ化ナトリウムのようなカオトロピックイオンを添加した水溶液をプラスチック用洗浄剤として使用する。 - 特許庁

The aqueous solution for non-chemical mechanical polishing does not contain abrasive grain and has an electric conductivity of 0.5-5,000 μS/cm (aqueous solution of citric acid, tetramethyl ammonium hydroxide, and the like).例文帳に追加

本化学機械研磨用水溶液は、砥粒を含有せず、電気伝導度が０．５〜５０００μＳ／ｃｍである（クエン酸水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液等）。 - 特許庁

Next, by wet-etching using a tetramethyl ammonium hydroxide aqueous solution, a recessed part 12 is formed on the undersurface of the wafer 1, the recessed part 11 is formed into a through-hole 10, and a thin part 1A is formed.例文帳に追加

次に、テトラメチル水酸化アンモニウム水溶液を用いたウエットエッチングにより、ウエハ１の下面に凹部１２を形成し、凹部１１を貫通穴１０とするとともに、薄肉部分１Ａを形成する。 - 特許庁

Preferably, the electrolytic solution comprises one of a potassium carbonate, a sodium carbonate, ammonia and a tetramethyl ammonium hydroxide, or two of them.例文帳に追加

電解質溶液としては、少なくとも炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドのいずれか一又は二以上を含有するのが好適である。 - 特許庁

The developing solution for photoresist containing a specific quarternary ammonium salt (for example, tetramethyl ammonium hydroxide) and a specific alkylamine (for example, octylamine) is used for developing, especially, the photoresist on the molybdenum oxide.例文帳に追加

特定の第四級アンモニウム塩（例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム等）と、特定のアルキルアミン（例えば、オクチルアミン等）とを含有するフォトレジスト用現像液を、特にモリブデン酸化物層上のフォトレジストの現像に用いる。 - 特許庁

An aqueous solution prepared by adding cyclodextrin such as β-cyclodextrin or hydroxylpropyl-β-cyclodextrin to an aqueous solution of pH ≥10 such as tetramethyl ammonium hydroxide is used as the cleaning agent for plastics.例文帳に追加

水酸化テトラメチルアンモニウムのようなｐＨが１０以上の水溶液に、β−シクロデキストリンまたはヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリンのようなシクロデキストリンを添加した水溶液をプラスチック用洗浄剤として使用する。 - 特許庁

Preferably, the formulation comprises tetramethyl ammonium hydroxide by 1 to 15 mass%, tolyltriazole by 1 to 5 mass%, propylene glycol by 5 to 15 mass%, 2-aminobenzothiazole by 1 to 10 mass%, dipropylene glycol monomethylether by 20 to 45 mass%, and remainder water.例文帳に追加

好ましくは１〜１５質量％の水酸化テトラメチルアンモニウム、１〜５質量％のトリルトリアゾール、５〜１５質量％のプロピレングリコール、１〜１０質量％の２−アミノベンゾチアゾール、２０〜４５質量％のジプロピレングリコールモノメチルエーテル、残余水を含む。 - 特許庁

The post-CMP treating liquid includes water, polyphenol, an anionic surfactant, ethylene diamine tetraacetic acid, resin particles having carboxylic group and sulfonyl group on their surfaces, a primary particle diameter thereof ranging from 10 to 60 nm, and tetramethyl ammonium hydroxide.例文帳に追加

水と、ポリフェノールと、陰イオン性界面活性剤と、エチレンジアミン四酢酸と、表面にカルボキシル基およびスルホニル基を有し、一次粒子径が１０ｎｍ以上６０ｎｍ以下の樹脂粒子と、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドとを含有する処理液である。 - 特許庁