under-exposureとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 露光不足
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「under-exposure」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 603件
To perform photographing under a proper exposure condition by preventing under exposure or overexposure.例文帳に追加
露出不足や露出過度を防止して適正な露出条件の下での撮影を行う。 - 特許庁
To enable DP exposure even under conditions under which DP exposure is conventionally impossible.例文帳に追加
従来DP露光が不可能であった条件下であってもDP露光を可能にする。 - 特許庁
The system has exposure positions under the mask 20 and load/unload positions a, b provided separately from the exposure positions.例文帳に追加
マスク20の下の露光位置と、露光位置とは別に設けたロード/アンロード位置a,bとを有する。 - 特許庁
To provide an exposure apparatus having excellent imaging performance and capable of carrying out an exposure process with high throughput even under high load exposure conditions.例文帳に追加
高負荷の露光条件であっても結像性能が優れかつスループットの高い露光処理を行える露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide an imaging device that can know exposure state under exposure in a long second exposure.例文帳に追加
長秒露光における露光中の露光状態を知ることができる撮像装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
As for the frame image, the area where the number of the filled under exposure pixels or over exposure pixels is larger than a threshold ψ is set as an under exposure area or over exposure area.例文帳に追加
そして、上記コマ画像について、充填されているアンダー露光画素またはオーバー露光画素の数が閾値ψより多い領域をアンダー露光領域またはオーバー露光領域に設定する。 - 特許庁
To provide an image exposure apparatus and an image exposure method by which image exposure can be performed under synchronism of an image exposure period with a pulse repetition period of laser light used for exposure by a simple configuration without using a complex apparatus.例文帳に追加
複雑な装置を用いることなく、簡単な構成で、画像露光周期と、露光に用いるレーザ光のパルス繰返し周期とを同期させて画像露光することができる画像露光装置および画像露光方法を提供する。 - 特許庁
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「under-exposure」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 603件
A plurality of exposure patterns are formed with a kind of light shielding member by generating the phenomenon such as over exposure and/or under exposure in the pre-exposure and post-exposure processes.例文帳に追加
先の露光工程と後の露光工程において、オーバー露光及び/又はアンダー露光等の現象を生じさせることによって、一種類の遮光部材で複数の露光パターンを実現する。 - 特許庁
The exposure apparatus includes: moving to an exposure position by mechanical operations of a light-shielding mask or a substrate stage on the basis of the information about a medium to be exposed by referring to a position set by a single alignment; stopping at the set exposure position; and carrying out exposure, after moving to the exposure position, under exposure conditions calculated by an exposure condition calculating mechanism.例文帳に追加
被媒体情報をもとに、1回のアライメントで設定した位置を基準として、遮光マスク又は基板ステージの機械動作によって露光位置へ移動し、設定した露光位置で停止し、露光位置に移動した後、露光条件算出機構で算出された露光条件をもとに露光を行う。 - 特許庁
At first, his health was ruined by exposure to the wind and rain under the poor conditions of the prison.発音を聞く 例文帳に追加
当初、牢が貧弱で風雨にさらされたので、健康を害した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
PHOTOCATALYST SHOWING HIGH ACTIVITY UNDER EXPOSURE TO WHITE FLUORESCENT LIGHTING例文帳に追加
白色蛍光灯の照射により高活性を示す光触媒 - 特許庁
To perform exposure processing under a state where the optical system is stabilized thermally.例文帳に追加
光学系が熱的に安定した状態での露光処理を可能にする。 - 特許庁
To improve precision of aligning to the pattern under multiple exposure.例文帳に追加
多重露光されたパターンへの位置合わせ精度を向上させる。 - 特許庁
The image pickup operation is performed a plurality of times under different exposure conditions.例文帳に追加
撮像動作は、露光条件の異なる状態で、複数回行われる。 - 特許庁
Therefore, DP exposure can be performed under optimal exposure conditions even under conditions under which DP exposure is conventionally difficult (combination of resist sensitivity and movement distance of the substrate in the direction of the optical axis).例文帳に追加
従って、従来、DP露光が困難であった条件下(レジスト感度及び、基板の光軸方向移動幅の組み合わせ)でも、最適露光条件でのDP露光が可能になる。 - 特許庁
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