vent wireとは 意味・読み方・使い方

On the stepped faces 214b and 215b of the diameter enlarging part 214, the outer peripheries of partitions 23 and 24 consisting of wire nets having a large number of vent holes are placed, and the carbonized sludge M having larger grain diameters than the vent holes are stacked with a prescribed thickness on the partitions 23 and 24.例文帳に追加

拡径部２１４の段付き面２１４ｂ，２１５ｂ上に多数の通気孔を有する金網製の仕切板２３，２４の外周を載置して、仕切板２３，２４上にその通気孔よりも粒径の大きい炭化汚泥Ｍを所定厚さで積層する。 - 特許庁

The silencing device 17b includes: a peripheral wall 35; an end wall 36 in which a vent hole 38 is formed; an attachment section 37; and a sound absorbing material 40 of a wire mesh, a porous metal or the like.例文帳に追加

消音装置１７ｂは、周壁３５と、通気孔３８が形成された端壁３６と、取付け部３７と、ワイヤメッシュ、多孔質金属などの吸音材４０とを含む。 - 特許庁

One end of the metal bar 2 is wire-connected with a ground, and the static electricity energy intruding from the vent 3 of the case 1 is made to escape to the ground with a grounding means by catching it with the metal bar 2.例文帳に追加

この金属棒２の一方をグラウンドに結線し、筐体１の通風孔３から進入する静電気エネルギーを、金属棒２でつかまえて接地手段によりグラウンドに逃がす。 - 特許庁

An exhaust passage 35 between the muffler 32 and exhaust pipe 31 has a mesh-like member 34 including a lot of vent holes and made of a wire gauze or steel wool.例文帳に追加

消音器３２と排気管３１と間の排気通路３５には、多数の通気孔を有する編み目状部材３４が装着されており、この編み目状部材３４は、金網またはスチールウールにより形成されている。 - 特許庁

A third cylindrical insertion member 264 disposed inside the vent hole 58 is formed almost in a shape of a cylinder with one rear end part 264c thereof closed and the other end thereof closed while a wire comprising a metal material is arranged in a mesh to form the whole thereof.例文帳に追加

また、通気孔５８の内部に配置される第３筒状挿入部材２６４は、一方の後端部２６４ｃが閉塞し、他端が開口した略円筒形状に形成されるとともに、金属材料からなる線材を網目状に配置して全体が形成されている。 - 特許庁

When manufacturing the semiconductor device, having the hollow structure by etching of sacrificial layer, a vent hole for ventilating etching gas is formed in the sacrificial layer, and with the sacrificial layer left in a hollow part, a dicing process of a wafer, a dice bond process and a wire bond process are executed, and then the sacrificial layer is removed by etching.例文帳に追加

犠牲層エッチングによって中空構造を有する半導体装置を製造するに際して、犠牲層にエッチングガスを通気するための通気孔を形成し、中空部分に犠牲層を残したまま、ウエハのダイシング工程、ダイスボンド工程、ワイヤーボンド工程を実行した後に、犠牲層をエッチングによって除去する。 - 特許庁