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x-patternとは 意味・読み方・使い方

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Weblio例文辞書での「x-pattern」に類似した例文

x-pattern

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「x-pattern」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 704



例文

x Exchange the contents of the hold and pattern spaces.発音を聞く 例文帳に追加

xホールドスペースとパターンスペースの内容を交換する。 - JM

A pattern density distribution ρ(x, y) and a dose amount distribution D(x, y) calculated by using the pattern density distribution ρ(x, y) are multiplied to calculate an irradiation amount distribution E(x, y) (S104).例文帳に追加

パターン密度分布ρ(x,y)と、このパターン密度分布ρ(x,y)を用いて算出したドーズ量分布D(x,y)とを乗算して照射量分布E(x,y)を算出する(S104)。 - 特許庁

X-RAY POWDER DIFFRACTION PATTERN SCREENING METHOD例文帳に追加

X線粉末回折パターンスクリーニング法 - 特許庁

X-RAY DIFFRACTION APPARATUS AND MEASURING METHOD OF X-RAY DIFFRACTION PATTERN例文帳に追加

X線回折装置およびX線回折パターンの測定方法 - 特許庁

The length in the X-direction of a stripe pattern L1 is larger than the length in the X-direction of a stripe pattern L2.例文帳に追加

ストライプパターンL1のX方向の長さは、ストライプパターンL2のX方向の長さよりも大きい。 - 特許庁

X-RAY EXPOSURE METHOD, X-RAY EXPOSURE APPARATUS, FINE PATTERN STRUCTURE AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

X線露光方法、X線露光装置、微細構造および半導体装置 - 特許庁

例文

In an embodiment, an X-ray scattering device is integrated with a correction device formed to calculate automatically an aberration correction output X-ray pattern, using a Fourier expression F_inst (H, 2θ) of the aberration depending on a scattered angle 2θ, and Fourier transformation of a measured X-ray scattered pattern F_exp (H), and formed to output the X-ray pattern.例文帳に追加

例では、X線散乱装置は、散乱角2θと、測定X線散乱パターンF_exp(H)のフーリエ変換とに依存する、収差のフーリエ表現F_inst(H,2θ)を用いて、収差補正出力X線パターンを自動的に算出し、出力するよう形成される補正装置を統合化する。 - 特許庁

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「x-pattern」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 704



例文

A Fraunhofer X-ray diffraction pattern is generally photographed about 50 to 150 mm behind the specimen under a condition where there is no lens to focus the X-rays.発音を聞く 例文帳に追加

X線を集束するレンズがない条件下では、試料の約50〜150mm後ろでフランホーファーX線回折図形が一般的に撮影される。 - 科学技術論文動詞集

The patterns are classified to: a pattern (pattern P) of which the sweep data x(n+1) become larger with respect to sweep data x(n); a pattern (pattern N) of which the sweep data x(n+1) become smaller with respect to the sweep data x(n); and patterns (patterns Z) other than said patterns.例文帳に追加

スイープデータx(n)に対して、スイープデータx(n+1)が大きくなるパターン(パターンP)、スイープデータx(n)に対して、スイープデータx(n+1)が小さくなるパターン(パターンN)、それ以外のパターン(パターンZ)に分類する。 - 特許庁

Each of the new forms is differentiated by a unique powder X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

この新たな結晶形の各々は特異な粉末X線回折パターンにより識別する。 - 特許庁

PATTERN DRAWING METHOD AND MASK FOR CONTACT X-RAY LITHOGRAPHY例文帳に追加

近接X線リソグラフィのパターン描画方法およびマスク - 特許庁

A computer 20 attaches a previously created texture of a prescribed pattern to the three-dimensional model, renders it, analyzes an already rendered image obtained as a bitmap image, and sets a correspondence relation between coordinates (x, y) of the already rendered image and coordinates (Xt(x, y), Yt(x, y)) of the texture, a gain Gc, t(x, y) and a bias Bc, t(x, y).例文帳に追加

コンピューター20は、予め作成した所定パターンのテクスチャーを3次元モデルに貼り付けてレンダリングし、ビットマップ画像として得られたレンダリング済み画像を解析してレンダリング済み画像の座標(x,y)とテクスチャーの座標(Xt(x,y),Yt(x,y))との対応関係やゲインGc,t(x,y),バイアスBc,t(x,y)を設定する。 - 特許庁

For example, the interference is determined when the change pattern between noted sweep data x(n) and previous sweep data x(n-1) is the pattern P and the change pattern between the noted sweep data and subsequent sweep data x(n+1) is the pattern N.例文帳に追加

例えば、注目スイープデータx(n)の1つ前のスイープデータx(n−1)との変化パターンがパターンPであり、1つ後のスイープデータx(n+1)との変化パターンがパターンNである場合、干渉であると判定する。 - 特許庁

For instance, when a change pattern with the sweep data x(n-1) one before the remarkable sweep data x(n) is the pattern N and a change pattern with the sweep data x(n+1) one later is the pattern P, the discrimination is concluded as missing.例文帳に追加

例えば、注目スイープデータx(n)の1つ前のスイープデータx(n−1)との変化パターンがパターンNであり、1つ後のスイープデータx(n+1)との変化パターンがパターンPである場合、ミッシングであると判定する。 - 特許庁

例文

An n+ base layer 15 has a line pattern extending in the X direction.例文帳に追加

n^+ベース層15をX方向に延びるラインパターンとする。 - 特許庁

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