基板チルトの英語

基板１１，１２間には、強誘電性を示し、チルト角θが２２．５°以上の液晶１８が封止されている。例文帳に追加

Between the substrate 11 and 12, the liquid crystal 18 showing the ferroelectric whose tilt angle θ is 22.5° or more is sealed. - 特許庁

チルト角を持つ位相差板は光学補償において重要であるが、本発明によれば、液晶チルト配向能を有する配向基板を用いることにより製造できる。例文帳に追加

The retardation plate having a tilt angle is important in terms of optical compensation, and is manufactured by using the oriented board having liquid crystal tilt orientation ability. - 特許庁

撮像ユニットのパン・チルト駆動によりフレキシブル基板が断線しにくい高信頼性のパン・チルトカメラを提供する。例文帳に追加

To provide a pan and tilt camera with high reliability which hardly has its flexible substrate broken by the pan and tilt driving of an imaging unit. - 特許庁

カセット１０の搬送過程でカセットを傾斜させるチルト機能を有するカセット搬送部５３を具備する基板処理装置である。例文帳に追加

A substrate processor has a cassette-carrying portion 53 having a tilting function for tilting a cassette in the carrying process of a cassette 10. - 特許庁

本発明に係る貫通電極基板及びその製造方法は、貫通孔のチルト発生に伴う不具合を防止する貫通電極基板及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a through-hole electrode substrate that prevents trouble caused by tilting of a through-hole, and to provide a method of manufacturing the through-hole electrode substrate. - 特許庁

基板の両面を同時に保持することにより、保持面積の拡大、保持力の向上を図ると共に、基板受け渡し面のチルト補正の容易化、基板の面精度の維持を可能にし、装置全体の基板搬送スループット向上、および搬送精度の向上を実現する。例文帳に追加

To retain both faces of a substrate simultaneously, thereby intending to enlarge a retaining area and enhance a retaining force, also to facilitate a tilt correction of a substrate transfer face, maintain the face accuracy of the substrate, enhance a substrate conveying throughput of the overall device, and materialize the enhancement of the conveying accuracy. - 特許庁

基板の両面を同時に保持することにより、保持面積の拡大、保持力の向上を図ると共に、基板受け渡し面のチルト補正の容易化、基板の面精度の維持を可能にし、装置全体の基板搬送スループット向上、および搬送精度の向上を実現する。例文帳に追加

To achieve the improvement of the substrate transport throughput of the entire apparatus and the improvement of the transport precision by making it easy to correct the tilt of a substrate delivery plane and by enabling the maintenance of the planar precision of the substrate as well as making an attempt to increase the retaining area and improve the retaining force by retaining both surfaces of the substrate at the same time. - 特許庁

この発明は、２枚目以降の露光基板については、大型露光基板の割付けられた少なくとも１枚の被割付基板に対して行うだけで済み、残りの被割付基板は、平行出し処理をすることなく、単位、チルト機構の高さ位置に応じたギャップ設定の位置決めをするだけで露光処理に入ることができる。例文帳に追加

For 2nd and succeeding exposed substrates, only one allocated substrate of a large-sized exposed substrate is performed and the remaining allocated substrates are only positioned for gap setting corresponding to units and the height position of a tilt mechanism to start exposure processing. - 特許庁