温原下の英語

原子炉熱出力の増加に際して給水温度を下げて運転する原子力発電プラントの運転方法において、原子炉の炉心特性上適切な給水温度の低下範囲を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a lowered range of supply water temperature proper for core characteristic of a reactor in an operation method for a nuclear power plant operated by lowering the supply water temperature during increasing a reactor thermal power. - 特許庁

油脂原料を予熱する油脂原料予熱器３ａ、アルコールを臨界温度以下の温度に予熱するアルコール予熱器３ｂ、油脂原料とアルコールを液相状態で混合させながら反応温度にまで昇温する混合昇温器３ｃを設ける。例文帳に追加

The plant is provided with a preheater 3a to preheat the fat and oil raw material, an alcohol preheater 3b to preheat the alcohol at a temperature lower than the critical temperature, and mixing warm-up equipment 3c to raise a temperature up to a reaction temperature while the fat and oil raw material and the alcohol are mixed in the liquid-phase state. - 特許庁

液晶組成物のΔｎの温度特性が原因で起こるコントラストの低下を低減する。例文帳に追加

To reduce decrease in the contrast caused by the temperature characteristics of Δn of the liquid crystal composition. - 特許庁

また、初期活性が高いため、原則として、高温、高圧下での活性化処理は必要ない。例文帳に追加

In principle, neither high-temperature nor high-pressure activation is required, because it exhibits a high initial activity. - 特許庁

次いでフラックスおよびＩＩＩ属原料を含む融液を飽和温度以下に再冷却する。例文帳に追加

After that, the melt containing the flux and the group III raw material is recooled to a temperature not higher than the saturated temperature. - 特許庁

高温プラズマ原料２１を例えば滴下しレーザビーム２３を照射して気化させる。例文帳に追加

A high-temperature plasma raw material 21 is, for instance, dropped to be put under laser beam 23 irradiation to evaporate. - 特許庁

また、初期活性が高いため、原則として、高温、高圧下での活性化処理は必要ない。例文帳に追加

And also, since its initial activity is high, it is unnecessary to be activated at a high temperature and under high pressure in principle. - 特許庁

該応力発光材料は、上記酸化物の原料とＥｕ^２＋の原料とを混合し、酸化雰囲気下で仮焼成後、還元雰囲気下で仮焼成時の温度以上１４００℃以下の温度で本焼成することにより製造される。例文帳に追加

The stress-luminescent material is manufactured by mixing the raw material of the oxide with the raw material of Eu^2+, calcining the mixture under an oxidative atmosphere and sintering it at a temperature of ≥a calcination temperature and ≤1,400°C under a reducing atmosphere. - 特許庁