みぞれ和えの英語

スプライン溝にかかる応力集中をこれまで以上に緩和できてスプライン軸を備えたトランスミッションを提供する。例文帳に追加

To provide a transmission having a spline shaft capable of relieving a stress concentration applied to a spline groove by a quantity more than before. - 特許庁

この応力緩和溝８は、場合によって、渦流れを低減するためのカバーと、溝の加熱を抑えるための装置または能動冷却するための装置とを有する。例文帳に追加

The stress relaxation groove 8 includes a cover reducing swirling currents and a device suppressing heating of the groove or a device actively cooling the groove. - 特許庁

電極基板４には、電極基板４の応力を緩和するための応力緩和溝６が絶縁部材５２が埋め込まれた裏面４ｂ側から形成されている。例文帳に追加

In the electrode substrate 4, a stress relaxation groove 6 to relax the stress of the electrode substrate 4 is formed from the rear surface 4b side where the insulation member 52 is embedded. - 特許庁

下記式等で表される化合物、並びにその水和物、溶媒和物、薬剤的に許容可能な塩類、プロドラッグ、及び錯体、並びにラセミ及びスカレミック混合物、そのジアステレオマー及び鏡像異性体。例文帳に追加

This invention relates to a compound represented by a formula as indicated, its hydrate, its solvate, its pharmaceutically allowable salt, its prodrug, its complex, a racemic and scalemic mixture, its diastereomer and its enantiomer. - 特許庁

特定の配列からなる、クラスＩＭＨＣペプチドの結合溝に対して親和性を有する単離ペプチドもしくはクラスＩＭＨＣ／ペプチド複合体。例文帳に追加

The present invention provides an isolated peptide composed of a specific sequence and having affinity for binding groove of class I MHC peptide or class I MHC/peptide complex. - 特許庁

本発明は化合物(386)〜(557)から選択される、 一般式(I)の化合物、これらの互変異性体、ジアステレオマー、鏡像体、水和物、及びこれらの塩、並びにこれらの塩の水和物、これらの化合物を含む薬物、これらの使用並びにこれらの製造方法に関する。例文帳に追加

There are provided compounds of general formula (I) selected from compounds (386)-(557), their tautomers, diastereomers, enantiomers and hydrates, salts thereof, hydrates of these salts, medicines containing these compounds, use thereof and production method therefor. - 特許庁

式（Ｉ）によって表される化合物、ならびに薬学的に許容されるその塩、立体異性体、鏡像異性体、プロドラッグ及び溶媒和物。例文帳に追加

The derivative represented by formula (I), and pharmaceutically acceptable salts, stereoisomers, enantiomers, prodrugs and solvates thereof, are provided. - 特許庁

応力緩和層５の形成に使用されるメタルマスク１１Ａとして、開口部１２の周囲の片面に、凹溝１３Ａが形成されたものを用いる。例文帳に追加

A mask in which a recessed trench 13A is formed on one surface in the periphery of an opening 12 is used as the metal mask 11A used for forming the stress relaxation layer 5. - 特許庁