「"基板温度"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

基板温度制御装置例文帳に追加

SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROLLER - 特許庁

基板温度計測装置及び基板温度計測方法例文帳に追加

SUBSTRATE TEMPERATURE MEASURING APPARATUS AND SUBSTRATE TEMPERATURE MEASUREMENT METHOD - 特許庁

基板温度調整装置および基板温度調整方法例文帳に追加

SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROLLER AND METHOD OF CONTROLLING SUBSTRATE TEMPERATURE - 特許庁

基板温度制御装置用ステージ例文帳に追加

STAGE FOR SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROL DEVICE - 特許庁

基板温度測定のための装置例文帳に追加

DEVICE FOR MEASURING TEMPERATURE OF SUBSTRATE - 特許庁

基板温度制御装置用ステージ例文帳に追加

STAGE FOR SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROLLER - 特許庁

基板保持台、基板温度制御装置及び基板温度制御方法例文帳に追加

SUBSTRATE HOLDER, SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROLLER, AND SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROL METHOD - 特許庁

基板温度制御プレート及びそれを備える基板温度制御装置例文帳に追加

BASE BOARD TEMPERATURE CONTROL PLATE AND CONTROLLING DEVICE FITTED WITH THE SAME - 特許庁

基板温度検出装置、その製造方法及び基板温度検出方法例文帳に追加

SUBSTRATE TEMPERATURE DETECTION DEVICE, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR DETECTING TEMPERATURE OF SUBSTRATE - 特許庁

基板温度を高精度に計測可能な基板温度計測装置及び基板温度計測方法を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate temperature measuring apparatus and a substrate temperature measurement method for highly accurately measuring a substrate temperature. - 特許庁

基板温度検知方法および基板温度検知装置ならびにそれを用いた基板処理装置例文帳に追加

SUBSTRATE TEMPERATURE DETECTING METHOD, SUBSTRATE TEMPERATURE DETECTING DEVICE, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS PROVIDED THEREWITH - 特許庁

基板温度推定装置及び方法、並びにそれを用いた基板温度制御装置例文帳に追加

SUBSTRATE TEMPERATURE ESTIMATING APPARATUS AND ITS METHOD AND SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROLLER USING THE SAME - 特許庁

基板温度表示装置およびこれを具備するリフロー炉、リフロー炉における基板温度確認方法例文帳に追加

SUBSTRATE TEMPERATURE DISPLAY DEVICE, REFLOW FURNACE COMPRISING THE SAME, AND SUBSTRATE TEMPERATURE CONFIRMING METHOD IN REFLOW FURNACE - 特許庁

イオンミリング時における基板温度は約１００℃である。例文帳に追加

A substrate temperature is 100°C, when ion milling. - 特許庁

基板温度制御機構及び真空処理装置例文帳に追加

SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROL MECHANISM AND VACUUM PROCESSING APPARATUS - 特許庁

基板温度制御方法及びプラズマ処理装置例文帳に追加

SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROL METHOD AND PLASMA PROCESSING APPARATUS - 特許庁

基板温度制御装置および半導体検査装置例文帳に追加

SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROLLER, AND SEMICONDUCTOR INSPECTION APPARATUS - 特許庁

露光方法及び装置、並びに基板温度調整装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR EXPOSURE, AND SUBSTRATE TEMPERATURE REGULATOR - 特許庁

時刻ｔ５で基板温度が摂氏１０８０度に到達する。例文帳に追加

At time t5, the substrate temperature reaches 1,080°C. - 特許庁

基板保持装置及び基板温度制御方法例文帳に追加

SUBSTRATE SUPPORTING DEVICE AND SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROL METHOD - 特許庁

リフロー加熱工程時の基板温度予測方法例文帳に追加

METHOD FOR PREDICTING SUBSTRATE TEMPERATURE AT REFLOW HEATING - 特許庁

基板熱処理装置および基板温度測定方法例文帳に追加

SUBSTRATE HEAT TREATMENT APPARATUS AND SUBSTRATE TEMPERATURE MEASURING METHOD - 特許庁

熱処理装置および基板温度計測方法例文帳に追加

HEAT TREATMENT APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING TEMPERATURE OF SUBSTRATE - 特許庁

基板温度制御装置及びそのコントローラ例文帳に追加

SUBSTRATE TEMPERATURE-CONTROLLING DEVICE AND ITS CONTROLLER - 特許庁

気相成長装置および基板温度測定方法例文帳に追加

VAPOR PHASE EPITAXIAL GROWTH SYSTEM AND SUBSTRATE TEMPERATURE MEASURING METHOD - 特許庁

熱処理装置および基板温度測定方法例文帳に追加

THERMAL PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TEMPERATURE MEASUREMENT METHOD - 特許庁

基板処理装置および基板温度計測方法例文帳に追加

SUBSTRATE PROCESSOR AND SUBSTRATE TEMPERATURE MEASUREMENT - 特許庁

その後、基板温度を室温まで戻す。例文帳に追加

Thereafter, a substrate temperature is returned to a room temperature. - 特許庁

基板載置装置及び基板温度調整方法例文帳に追加

SUBSTRATE MOUNTING DEVICE AND SUBSTRATE TEMPERATURE ADJUSTING METHOD - 特許庁

そして、基板温度センサ異常検出手段が検出した基板温度センサ異常が所定時間以上継続するまで、基板温度センサの基準値として記憶した基板温度センサの前回値を、基板温度の推定演算に使用する。例文帳に追加

The previous value of the substrate temperature sensor stored as a referential value of the substrate temperature sensor is employed for estimation operation of the substrate temperature until an abnormality of the substrate temperature sensor detected by a substrate temperature sensor abnormality detection means continues a predetermined time or longer. - 特許庁

２００〜５００℃の温度範囲で、高速かつ高精度に基板温度を制御可能な基板温度制御を提供する。例文帳に追加

To provide a method for controlling a substrate temperature, which can control the substrate temperature in the temperature range of 200-500°C, at high speed and with high accuracy. - 特許庁

この際、基板温度が極小値をとるように温度制御した後、基板温度を光導電層条件へと変化させる。例文帳に追加

At this time, temperature control is performed in such a manner that the substrate temperature attains a minimal value and thereafter the substrate temperature is changed to photoconductive layer conditions. - 特許庁

温度設定用基板、温度設定装置、リフロー炉、及び温度設定システム例文帳に追加

TEMPERATURE SETTING SUBSTRATE, TEMPERATURE SETTING DEVICE, REFLOW FURNACE, AND TEMPERATURE SETTING SYSTEM - 特許庁

Ｓ４では、基板温度センサ６９によりセンサ基板の温度を検出する。例文帳に追加

In S4, a substrate temperature sensor 69 detects the temperature of a sensor substrate. - 特許庁

半導体製造装置及び基板温度調整方法及び半導体装置例文帳に追加

SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, SUBSTRATE TEMPERATURE ADJUSTMENT METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

真空成膜装置での基板温度測定方法、及び真空成膜装置例文帳に追加

METHOD FOR MEASURING SUBSTRATE TEMPERATURE BY VACUUM FILM DEPOSITION SYSTEM AND VACUUM FILM DEPOSITION SYSTEM - 特許庁

アモルファスシリコン膜は、約５００℃以下の基板温度で堆積される。例文帳に追加

The amorphous silicon film is deposited at a substrate temperature of approximately 50°C or less. - 特許庁

これにより、シャッターを開いても基板温度の変動を抑制できる。例文帳に追加

Thus, even when the shutter is opened, any variation of the substrate temperature can be suppressed. - 特許庁

インクジェットヘッドの基板温度の測定精度を向上させること。例文帳に追加

To increase the measurement accuracy for the board temperature of an inkjet head. - 特許庁

基板温度は、第１温度から第２温度への変更がなされる。例文帳に追加

The substrate temperature is changed from the first temperature to the second temperature. - 特許庁

基板温度データの演算方法および気相成長装置例文帳に追加

METHOD FOR CALCULATING SUBSTRATE TEMPERATURE DATA AND VAPOR PHASE GROWTH APPARATUS - 特許庁

薄膜の膜厚モニタリング方法及び基板温度測定方法例文帳に追加

METHOD FOR MONITORING THIN-FILM THICKNESS AND METHOD FOR MEASURING SUBSTRATE TEMPERATURE - 特許庁

基板温度センサの今回値と前回値の差を絶えず検出し、基板温度センサの今回値が前回値に比較して大きく変化したときには、大きく変化する前の前回値を基板温度センサの基準値として記憶する。例文帳に追加

The system always detects a difference between the current value and previous value of a substrate temperature sensor and stores the previous value before large change as a referential value of the substrate temperature sensor when the current value of the sensor largely changes as compared with the previous value. - 特許庁

プレート、これを有する基板温度調節装置及びこれを有する基板処理装置。例文帳に追加

PLATE, DEVICE FOR ADJUSTING TEMPERATURE OF SUBSTRATE HAVING THE PLATE AND APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE HAVING THE DEVICE - 特許庁

ゲートバルブ１６を開く直前に、非接触温度計１７により基板温度を測定する。例文帳に追加

The substrate temperature is measured by a contactless thermometer 17 just before a gate valve 16 is opened. - 特許庁