例文 (29件) |
"負イオン源"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 29件
負イオン源例文帳に追加
NEGATIVE ION SOURCE - 特許庁
大面積負イオン源例文帳に追加
LARGE-AREA NEGATIVE ION SOURCE - 特許庁
高周波負イオン源例文帳に追加
HIGH-FREQUENCY NEGATIVE ION SOURCE - 特許庁
負イオン源用セシウムオーブン例文帳に追加
CESIUM OVEN FOR NEGATIVE ION SOURCE - 特許庁
サイクロトロン用内部負イオン源例文帳に追加
INTERNAL NEGATIVE ION SOURCE FOR CYCLOTRON - 特許庁
負イオン源電源供給機構例文帳に追加
負イオン源中のプラズマから一様な負イオンビームを発生させる負イオン源例文帳に追加
NEGATIVE ION SOURCE GENERATING UNIFORM NEGATIVE ION BEAM FROM PLASMA IN NEGATIVE ION SOURCE - 特許庁
カーボンナノチューブを用いた負イオン源例文帳に追加
負イオン源および負イオンビーム発生方法例文帳に追加
NEGATIVE ION SOURCE AND METHOD FOR GENERATING NEGATIVE ION BEAM - 特許庁
中性子発生管用PIG型負イオン源例文帳に追加
PIG TYPE NEGATIVE ION SOURCE FOR NEUTRON GENERATION TUBE - 特許庁
プラズマスパッタ型マルチターゲット負イオン源例文帳に追加
負イオンNBI装置の負イオン源において、負イオンを生成させるための負イオン源へのフィラメントの加熱電力を制御することにより、負イオン源からの負イオンビーム電流の時間的変化と電流値の減少を防止することに関する。例文帳に追加
To prevent negative ion beam current from changing with time and from decreasing in current value from a negative ion source by controlling heating power of a filament to the negative ion source to generate negative ions, in the negative ion source of a negative ion NBI device. - 特許庁
負イオン源、イオンビーム分析装置、エッチング装置、酸素ラジカル発生装置及び排ガス処理装置例文帳に追加
NEGATIVE ION SOURCE, ION BEAM ANALYSIS DEVICE, ETCHING DEVICE, OXYGEN RADICAL GENERATION DEVICE AND WASTE GAS PROCESSOR - 特許庁
負イオン源における引き出し部及び初段加速部と負イオン源外部との真空境界を構成する絶縁管を大口径とし、ビーム通過領域と絶縁管の間に大きなガス排気経路を用意することによって、ビーム通過領域のガス圧を低減し、高い電流密度の負イオンを高効率で生成する負イオン源。例文帳に追加
By making in a large caliber an insulating tube constituting a vacuum boundary of the draw-out part and the initial-step accelerating part in a negative ion source against an outside of the negative ion source, and preparing a large gas exhaust channel between the beam passage area and the insulating tube, gas pressure in the beam passage area is lowered and the negative ion of high current density is generated in high efficiency. - 特許庁
プラズマ源,それを用いた高周波イオン源,負イオン源,イオンビーム処理装置,核融合用中性粒子ビーム入射装置例文帳に追加
PLASMA SOURCE, HIGH FREQUENCY ION SOURCE USING IT, NEGATIVE ION SOURCE, ION BEAM PROCESSOR, NEUTRAL PARTICLE BEAM INCIDENT DEVICE FOR NUCLEAR FUSION - 特許庁
ビーム通過領域のガス圧を低減し、高い電流密度の負イオンを高効率で生成する負イオン源例文帳に追加
NEGATIVE ION SOURCE FORMING NEGATIVE ION OF HIGH CURRENT DENSITY IN HIGH EFFICIENCY BY REDUCING GAS PRESSURE OF BEAM PASSAGE REGION - 特許庁
中性粒子入射装置の負イオン源におけるセシウムオーブン中のセシウム量を測定検出する方法及び装置例文帳に追加
METHOD AND DEVICE FOR MEASURING AND DETECTING QUANTITY OF CESIUM IN CESIUM OVEN IN NEGATIVE ION SOURCE OF NEUTRAL BEAM INJECTION DEVICE - 特許庁
プラズマスパッタ型負イオン源において、チャンバ1の真空状態を維持したまま、複数のイオン種を切り替える。例文帳に追加
To switch a plurality of ion species while maintaining a vacuum condition of a chamber 1 in a plasma sputter type negative ion source. - 特許庁
負イオン源のプラズマ電極表面をカーボンナノチューブで覆うことにより、イオン生成用のソースプラズマのシース電圧でカーボンナノチューブから電子が放出されて等価的に仕事関数が低下した電極表面状態となり負イオン生成反応が増強された負イオン源。例文帳に追加
By covering the plasma electrode surface of the negative ion source with carbon nanotubes, electrons are emitted from the carbon nanotubes at a sheath voltage of source plasma for ion generation and the electrode surface is brought into a state that the work function is equivalently lowered to intensify a negative ion generation reaction. - 特許庁
PIG型負イオン源より負イオンと同時に加速される電子を除去するため、直交する磁場をもつ1組のダイポール磁界又はそれぞれが90°づつずれた直交する4個のダイポール磁石6をPIG負イオン源の下流に配設し、負イオンのみを加速して中性子の発生効率を向上する。例文帳に追加
In order to remove electrons accelerated simultaneously with the negative ions from the PIG type negative ion source, a pair of dipole magnetic fields having orthogonal magnetic fields or four orthogonal dipole magnets 6 shifted by 90° one by one are disposed on the downstream of the PIG negative ion source, and only the negative ions are accelerated to improve neutron generation efficiency. - 特許庁
核融合装置の中性粒子入射装置における負イオン源用セシウムオーブン装置からのセシウムガスの流量を制御する開閉操作装置例文帳に追加
SWITCHING CONTROL DEVICE FOR CONTROLLING FLOW RATE OF CESIUM GAS FROM CESIUM OVEN DEVICE FOR NEGATIVE ION SOURCE IN NEUTRON INCIDENCE DEVICE OF FUSION DEVICE - 特許庁
PIG型負イオン源から発生する負イオンを加速し、ターゲット5を正極性の高電位にすることで、ファラデーカップ15の汚れによるターゲットからの重元素イオン放出を防止する。例文帳に追加
Negative ions generated from this PIG type negative ion source are accelerated, and a target 5 is set to have a positive-polarity high potential, to thereby prevent heavy element ion emission from the target caused by dirt on a Faraday cup 15. - 特許庁
加速電子の発生量を抑制して高エネルギの負イオンビームを生成するとともに、このビームに良好な収束性を付与して高エネルギで長距離の輸送が可能な、高い効率と信頼性を有する負イオン源を提供する。例文帳に追加
To provide a highly efficient and reliable negative ion source which suppresses generated quantity of accelerated electrons, generates high-energy negative ion beams, and allows the high-energy and long-distance transport by imparting favorably converged beams. - 特許庁
放電管の内部表面でのプラズマ損失を低減できるプラズマ源,それを用いた高周波イオン源,負イオン源,イオンビーム処理装置,核融合用中性粒子ビーム入射装置を提供することにある。例文帳に追加
To reduce plasma loss on the inner surface of a discharge tube. - 特許庁
正イオン源1により生成した正イオンビームと負イオン源2により生成した負イオンビームとを前段加速器4,5において同時に加速し、前段加速器4,5によって加速された正イオンビーム及び負イオンビームをRI製造用照射装置8と加速器システム9とで共用する。例文帳に追加
Positive ion beam generated by a positive ion source 1 and negative ion beam generated by negative ion source 2 are accelerated together at the same time in front stage accelerators 4, 5, and then the accelerated positive and negative ion beams are commonly utilized in irradiation equipment for RI manufacturing and an accelerator system 9. - 特許庁
ダイヤモンドを半導体と捉えて、ダイヤモンド半導体デバイス構造を利用して、面的な負イオン生成を実現することにより、大きなイオン電流を実現することができる負イオン源、イオンビーム分析装置、エッチング装置、酸素ラジカル発生装置及び排ガス処理装置を提供する。例文帳に追加
To provide a negative ion source, an ion beam analysis device, an etching device, an oxygen radical generation device and an waste gas processor which can attain a large ion current by generating a surface-like negative ions by utilization of diamond semi-conductor device structure, with a diamond serving as a semi-conductor. - 特許庁
負イオン源10は、引き出された負イオンの経路中に設けられ、複数のスリット36をそれぞれ有する複数の負イオン加速電極29、30と、この負イオン加速電極29、30間に電界を形成させることにより負イオンを加速させて負イオンビームYを生成する加速電源とを具備する。例文帳に追加
This negative ion source 10 is installed on the route of drawn out negative ions and comprises a plurality of negative ion acceleration electrodes 29, 30 respectively having a plurality of slits 36, and an acceleration power source accelerating the negative ions and generating the negative ion beam Y by forming electric field between the negative ion acceleration electrodes 29, 30. - 特許庁
気密チャンバ1中にプラズマ13を発生させ、該プラズマ13によりスパッタターゲット6をスパッタリングし、ターゲット原子のイオンを射出するプラズマスパッタ型負イオン源において、気密チャンバ1内に、所定の目的元素を含むスパッタターゲット6が複数種類配置され、複数種類のスパッタターゲット6の中から選択された一つのスパッタターゲットにプラズマ13中の正イオンを誘導する。例文帳に追加
In this plasma sputter type negative ion source generating plasma 13 inside the hermetic chamber 1, sputtering a sputter target 6 by the plasma 13, and emitting ions of a target atom, multiple kinds of sputter targets 6 including a predetermined target element are arranged inside the hermetic chamber 1, and positive ions inside the plasma 13 are guided to one target selected from multiple kinds of sputter targets 6. - 特許庁
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