「"Vacuum Evaporation System"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The vacuum evaporation system of the invention is provided with the pierce-type electron gun of the invention.例文帳に追加

また、本発明の真空蒸着装置は、本発明のピアス式電子銃を備えることを特徴とする。 - 特許庁

VACUUM EVAPORATION SYSTEM AND METHOD FOR MANUFACTURING EVAPORATED FILM-APPLIED PRODUCT例文帳に追加

真空蒸着装置及び方法並びに蒸着膜応用製品の製造方法 - 特許庁

To provide a vacuum evaporation system which can stabilize film-forming speed and thin film characteristic, and to provide an optical element film-formed by using the vacuum evaporation system, an optical-system, a projection aligner, and a method for producing a device.例文帳に追加

成膜速度や薄膜特性を安定させることが可能となる真空蒸着装置、および該真空蒸着装置を用いて成膜した光学素子、光学系、投影露光装置、デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a flake like fullerene crystal at a low cost without necessitating an apparatus such as a vacuum evaporation system.例文帳に追加

本発明は真空蒸着装置のような装置を必要とせずに低コストで薄片状のフラーレン結晶を得る。 - 特許庁

PIERCE-TYPE ELECTRON GUN, VACUUM EVAPORATION SYSTEM PROVIDED WITH THE SAME AND METHOD FOR PREVENTING ABNORMAL DISCHARGE OF PIERCE-TYPE ELECTRON GUN例文帳に追加

ピアス式電子銃、これを備えた真空蒸着装置およびピアス式電子銃の異常放電防止方法 - 特許庁

To provide a vacuum evaporation system and method for controlling a vapor deposition rate without using a quartz oscillator.例文帳に追加

この発明は、水晶振動子を用いることなく蒸着速度を制御する真空蒸着装置及び方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

By using such vacuum evaporation system, the change of film thickness caused by the opening and shuttering of a shutter is reduced, and the film thickness can be made uniform over the whole.例文帳に追加

このような真空蒸着装置を用いることで、シャッタの開閉が原因の膜厚の変化が少なく、膜厚が全体に渡って一様とすることができた。 - 特許庁

Then, after having set the pressure in the vacuum evaporation system at 20 hPa, the ageing process is performed by heating the organic electroluminescence apparatus 100 during the manufacture at a predetermined heating temperature for a predetermined heating time using a heater.例文帳に追加

そして、真空蒸着装置内の圧力を２０ｈＰａとした後、ヒータにより、作製途中の有機ＥＬ装置１００を所定の加熱時間の間、所定の加熱温度に加熱することによりエージング処理を行う。 - 特許庁

To provide a vapor deposited film with stable film quality in the width direction when depositing an inorganic compound layer on a base material comprising a polymer film by an electron beam vacuum evaporation system that deposits an oxidized silicon as an evaporation source.例文帳に追加

酸化ケイ素を蒸発源とした電子ビーム式の真空蒸着装置にて高分子フィルムからなる基材上に無機化合物層を成膜する場合において、巾方向での膜質が安定した蒸着フィルムを提供する。 - 特許庁

In a vacuum evaporation system used for this producing method, the inside of a vacuum tank 2 is provided with an evaporation source 5, a shutter 3 on the evaporation source side and a shutter 4b on the substrate side.例文帳に追加

本製造方法に用いる真空蒸着装置は真空槽２内に、蒸発源５と、蒸発源側シャッタ３と、基板側シャッタ４ｂとを備える。 - 特許庁

To provide a pierce-type electron gun capable of stably and uniformly generating an electron beam without causing abnormal discharge for a long time, and to provide a vacuum evaporation system provided with this and a method for preventing abnormal discharge of the pierce-type electron gun.例文帳に追加

長時間にわたって異常放電を引き起こすことなく電子ビームを安定かつ一定に発生させることができるピアス式電子銃、これを備えた真空蒸着装置およびピアス式電子銃の異常放電防止方法を提供すること。 - 特許庁

Between the place on a stage 30 in a working chamber 23 of the focused ion beam device and a holder 38 of a film-formation chamber 34 of a vacuum evaporation system 23, a target 31 for manufacturing a semiconductor element is moved with a transportation mechanism (a first transportation mechanism 48, an elevating table 64 and a second transportation mechanism 58) through the transportation mechanism chamber 47.例文帳に追加

集束イオンビーム装置の加工室２３のステージ３０上と真空蒸着装置２３の成膜チャンバー３４のホルダー３８との間で、半導体素子製作用ターゲット３１を、搬送機構室４７を介して搬送機構（第１搬送機構４８，昇降テーブル６４及び第２搬送機構５８）により移動させる様に成す。 - 特許庁

To provide a multi-vacuum evaporation system in which the transmission of the heat generated from a heated evaporation source to an adjacent evaporation source is prevented and the efficiency of preheating is increased by controlling the rotation of the evaporation sources while a normal heating position and a preheating position are located adjacently to each other, and a method for controlling the system.例文帳に追加

加熱される蒸発源から発生した熱が隣接した蒸発源に伝達される現象が防止されて、本加熱位置と予備加熱位置が相互近接するように位置されるようにしながら蒸発源の回転を制御して予備加熱の効率性を上昇するようしたマルチ真空蒸着装置及び制御方法を提供する。 - 特許庁

The vacuum evaporation system for forming the film by vaporizing the evaporating material 6 on a heating boat 1 and depositing the vapor on a substrate is provided with: a vapor source heating mechanism for heating the evaporating material 6 on the heating boat 1 for forming the film on the substrate; and a vapor source forcibly heating mechanism for reheating and vaporizing the remaining evaporating material 6 on the heating boat 1 after completing the film formation on the substrate.例文帳に追加

加熱ボート１上の蒸着材料６を蒸発させ、蒸気を基板に付着させて成膜を行う真空蒸着装置において、基板への成膜を行うために加熱ボート１上の蒸着材料６を加熱する成膜用蒸発源加熱機構と、基板への成膜を終了させた後に加熱ボート１上に残された蒸着材料５を再度加熱して蒸発させる蒸発源強制加熱機構とを持たせた。 - 特許庁