「"WET-CLEANING"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

WET CLEANING DEVICE AND WET CLEANING METHOD例文帳に追加

ウェット洗浄処理装置およびウェット洗浄処理方法 - 特許庁

WET CLEANING METHOD例文帳に追加

ウェットクリーニング方法 - 特許庁

PORTABLE WARMING WET CLEANING PAPER例文帳に追加

携帯用加温湿式清拭紙 - 特許庁

WET CLEANING DEVICE, WET CLEANING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

湿式洗浄装置及び湿式洗浄方法、並びに磁気記録媒体用基板の製造方法 - 特許庁

CYCLONE DUST COLLECTING APPARATUS FOR WET CLEANING VACUUM CLEANER例文帳に追加

水掃除真空掃除機用のサイクロン集塵装置 - 特許庁

WET CLEANING METHOD FOR LAYING FIBER FLOOR MATERIAL例文帳に追加

敷設繊維床材の湿式清掃方法 - 特許庁

WET CLEANING INDICATOR FOR AUTOMATIC ENDOSCOPE CLEANER例文帳に追加

自動内視鏡洗浄装置の湿式洗浄インジケータ - 特許庁

METHOD FOR WET-CLEANING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板のウェット洗浄方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR WET CLEANING OF SUBSTRATE例文帳に追加

基板の湿式洗浄方法及び装置 - 特許庁

WET CLEANING METHOD FOR PZT CAPACITOR例文帳に追加

ＰＺＴコンデンサのための湿式洗浄法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR WET CLEANING OF SUBSTRATE例文帳に追加

基板の湿式洗浄方法および湿式洗浄装置 - 特許庁

WET CLEANING METHOD FOR SILICON CARBIDE SINTERED COMPACT例文帳に追加

炭化ケイ素焼結体の湿式洗浄方法 - 特許庁

VACUUM CLEANER PROVIDED WITH WET CLEANING FUNCTION例文帳に追加

水掃除機能を備えた真空掃除機 - 特許庁

WET CLEANING DEVICE AND NOZZLE USED THEREFOR例文帳に追加

湿式洗浄装置及びそれに用いるノズル - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR WET CLEANING例文帳に追加

湿式洗浄装置および湿式洗浄方法 - 特許庁

DRY WET CLEANING METHOD AND WASHING MAT例文帳に追加

ドライウェットクリーニング方法および洗浄マット - 特許庁

WET-CLEANING APPARATUS AND WET-ETCHING METHOD例文帳に追加

ウェット洗浄装置およびウェットエッチング方法 - 特許庁

WET CLEANING APPARATUS FOR CONTAMINATED GAS REMOVING APPARATUS例文帳に追加

湿式汚染ガス除去装置の洗浄装置 - 特許庁

WET-CLEANING METHOD FOR SILICON-CARBIDE SINTERED BODY例文帳に追加

炭化ケイ素焼結体の湿式洗浄方法 - 特許庁

WET CLEANING APPARATUS, AND SYSTEM FOR CLEANING SUBSTRATE例文帳に追加

ウエット洗浄装置および基板洗浄システム - 特許庁

PLASMA-CLEANING METHOD AND WET CLEANING METHOD例文帳に追加

プラズマクリーニング方法及びウエットクリーニング方法 - 特許庁

To provide a wet cleaning device and a wet cleaning method in which the take-out amount of a liquid chemical for cleaning is reduced and throughput is improved.例文帳に追加

洗浄用薬液の持ち出し量を減らし、処理能力を向上させた湿式洗浄装置および湿式洗浄方法を提供する。 - 特許庁

PROCESSING AND CLEANING AGENT FOR WET CLEANING OF TEXTILE PRODUCT, AND PROCESSING METHOD例文帳に追加

ウェットクリーニング用繊維製品処理剤・洗浄剤及び処理方法 - 特許庁

WET CLEANING APPARATUS USING LAUNDRY CLEANING DEVICE例文帳に追加

ランドリー・クリニーング装置利用ウエット・クリーニング装置 - 特許庁

METHOD OF WET CLEANING AND MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置のウェット洗浄方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, BY WHICH ATTACK BY WET CLEANING CAN BE PREVENTED例文帳に追加

湿式洗浄によるアタックを防止できる半導体装置の製造方法 - 特許庁

COMBINATION OF SUCTION NOZZLE AND CLEANING SHEET, CLEANING SHEET, AND WET CLEANING METHOD OF FLOOR例文帳に追加

吸込みノズルと掃除シートとの組み合わせ、及び掃除シート、並びに床の水拭掃除方法 - 特許庁

EQUIPMENT AND METHOD FOR WET-CLEANING OR WET-ETCHING FLAT SUBSTRATE例文帳に追加

平坦な基材を湿式でクリーニングまたはエッチングするための装置および方法 - 特許庁

To provide equipment and a method for wet-cleaning or wet-etching a flat substrate.例文帳に追加

平坦な基材を湿式でクリーニングまたはエッチングする装置及び方法を提供する。 - 特許庁

TREATING AGENT AND DETERGENT FOR TEXTILE PRODUCT FOR WET CLEANING AND METHOD FOR TREATING例文帳に追加

ウェットクリーニング用繊維製品処理剤・洗浄剤及び処理方法 - 特許庁

SPECIFICALLY PATTERNED NONWOVEN FABRIC SHEET FOR DRY OR WET CLEANING WIPER AND PROCESSED PRODUCT例文帳に追加

ドライ又はウェット清掃ワイパー用特定パターン不織布シートと加工製品 - 特許庁

To clean main surfaces of a substrate at both sides in which the one main surface is not fit for wet cleaning.例文帳に追加

一方の主面がウェット洗浄に向かない基板の両側の主面を同時に洗浄する。 - 特許庁

The substrate cleaning system 10 is designed for cleaning the surface of the substrate to be treated and has wet cleaning equipment 11 and ultraviolet ray (UV) cleaning equipment 12 arranged behind the wet cleaning equipment 11.例文帳に追加

基板洗浄システム１０は、処理対象となる基板の表面を洗浄するためのものであり、湿式洗浄装置１１と、湿式洗浄装置１１の後段に配置された紫外線（ＵＶ）洗浄装置１２とを有している。 - 特許庁

To provide a vacuum cleaner provided with a wet cleaning function capable of simultaneously sucking contaminants and water with a simple structure, thereby shortening a wet cleaning period.例文帳に追加

本発明は、構造が簡単で、且つゴミと水を同時に吸入できるため、水掃除時間が短縮される水掃除機能を備えた真空掃除機を提供する。 - 特許庁

Equipment 1 for wet-cleaning or wet-etching a substrate 9 includes a tank 3 having an inlet 5 and an outlet 7 for the substrate 9.例文帳に追加

基材９の導入口５及び導出口７を有するタンク３を含み、前記基材９を湿式クリーニングまたはエッチングするための装置１。 - 特許庁

In the method for forming the shallow trench separating structure 84, those voids are formed in a wet cleaning process after forming the dielectric material 56 in the trench.例文帳に追加

これらのボイドは、誘電体材料をトレンチ内に形成した後、ウエット洗浄プロセス中に形成されることがある。 - 特許庁

In this method of forming a thin film, the semiconductor substrate is first subjected to wet-cleaning in cleaning equipment 1 (process A1) and dried (process A2).例文帳に追加

洗浄装置１内で半導体基板のウェット洗浄を行い（プロセスＡ１）、次に乾燥させる（プロセスＡ２）。 - 特許庁

The electronic material cleaning system includes a liquid chemical cleaning device 1, a wet cleaning device 2, and a sheet type cleaning apparatus 3.例文帳に追加

電子材料洗浄システムは、薬液洗浄手段１とウエット洗浄手段２と枚葉式洗浄装置３とを備える。 - 特許庁

To provide a method for forming silicide wherein silicide can be formed at lower temperatures without increasing the wet cleaning process.例文帳に追加

ウェット洗浄工程を増加させることなく、かつ、より低温でシリサイドを形成することが可能なシリサイドの形成方法を提供すること。 - 特許庁

After wet cleaning, the low-pressure annealing of limited duration is performed at a high temperature to satisfactorily remove the absorbed components prior to metal deposition.例文帳に追加

湿式クリーニング後で、金属堆積前に、行われる高温での限られた時間の低圧アニールにより、吸収された成分は充分除去される。 - 特許庁

To provide cleaning equipment capable of removing microparticles efficiently and surely in wet cleaning.例文帳に追加

ウエット洗浄において、効率よく、かつ確実に微小パーティクルを除去し得る洗浄装置を提供する。 - 特許庁

WET CLEANING METHOD OF MATERIAL SURFACE AND MANUFACTURING PROCESS OF ELECTRONIC, OPTICAL OR OPTOELECTRONIC DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

材料表面の湿式洗浄方法及びこれを用いた電子、光学、または光電子デバイスの作製プロセス - 特許庁

Fine powder adherent to the surfaces of the resin granules subjected to dry cleaning treatment is preferably removed by pneumatic cleaning treatment or wet cleaning treatment.例文帳に追加

乾式洗浄処理された樹脂粒状物は、風力洗浄処理又は湿式洗浄処理により、表面に付着した微粉を除去することがよい。 - 特許庁

Deposition of a metal oxide film which cannot be removed by the dry cleaning or the like is prevented, and the frequency of the wet cleaning work is reduced.例文帳に追加

これにより、例えばドライクリーニングでは除去し得ない金属酸化膜の付着を防止し、ウエットクリーニング作業の頻度を少なくする。 - 特許庁

Thus, it is possible to reduce the amounts of the reaction products remaining in the etching chambers 15a, and to extend a wet cleaning cycle.例文帳に追加

これにより、エッチングチャンバ１５ａ内に残留する反応生成物の量を低減し、ウエットクリーニングサイクルを延長する。 - 特許庁