| 例文 |
"developing-solution"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 961件
The resist composition is obtained by dissolving a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, in an organic solvent (S).例文帳に追加
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、−ＳＯ_２−を含む環式基が側鎖に存在する構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、有機溶剤（Ｓ）が５〜７員環を有する環式ケトン若しくは一般式：［式中、Ｒ^４は炭素数１〜５のアルキル基、Ｒ^５は炭素数１〜３のアルキル基、ｎは０〜２の整数である。 - 特許庁
The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a compound generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation, (B) a resin showing an increase in dissolution rate with an alkali developing solution by an action of an acid, and (C) a hydrophobic resin.例文帳に追加
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、（Ｃ）疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（１）で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁
A planographic printing original plate with a photosensitive composition layer containing at least a phohothermal conversion material which absorbs light and converts it to heat and an alkali-soluble organic high-molecular substance on the substrate is produced by following steps, (a) imagewise exposure, (b) developing with an alkaline developing solution and (c) washing with water containing a chelate forming material.例文帳に追加
支持体上に、光を吸収して熱に変換する光熱変換物質、およびアルカリ可溶性有機高分子物質を少なくとも含有する感光性組成物層を具備する平版印刷版の製版方法において、前記製版方法が少なくとも(a) 画像様露光工程、(b) アルカリ性現像液を用いた現像工程及び、(c) 水洗工程を含み、かつ、前記水洗工程で用いる水洗水がキレート形成性物質を含有することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁
The photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing repeating units corresponding to hydroxystyrene and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether propionate and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether and ethoxyethyl propionate.例文帳に追加
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ヒドロキシスチレンに相当する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増加する樹脂、並びにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive material superior in sensitivity, developability, etching endurance, heat resistance, and adhesion to a substrate and developable with an aqueous alkaline developing solution and usable for a positive resist for manufacturing the semiconductor integrated circuit and the like by using a copolymer composed essentially of repeating units derived from specified monomers.例文帳に追加
半導体集積回路、液晶表示素子用ＴＦＴ回路等の回路製造用のポジ型レジストとして、アルカリ水溶液からなる現像液によって現像でき、感度、現像性、残膜率、耐熱性、基板との密着性等に優れた感放射線性材料、さらに層間絶縁膜、カラーフィルター保護膜、回路保護膜等の永久膜として、耐熱性、基板との密着性、可視光領域における透明性、耐薬品性、寸法安定性等に優れた感放射線性材料を提供する。 - 特許庁
At least, one of a developing solution and a development replenisher solution as processing solutions for a silver halide photographic sensitive material used in a developing step when developing, fixing, washing (stabilizing) and drying steps for the sensitive material are carried out using an automatic processing machine is prepared by diluting a powdery developing composition vacuum-sealed in two layers of powdery materials in a packaging material with water.例文帳に追加
ハロゲン化銀写真感光材料を自動現像機を用いて現像、定着、水洗（安定化）及び乾燥工程を行う際、現像工程で用いるハロゲン化銀写真感光材料の処理液である現像液及び現像補充液の少なくとも一方が、粉状の原材料が２層で構成されており、かつ、包装材料に封入され、空気を排気し、封入された粉状の現像組成物を水で希釈して作製したことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理液。 - 特許庁
The original plate has an underlayer containing a water-insoluble and alkali-soluble resin and an upper heat sensitive layer containing a water- insoluble and alkali-soluble resin and an IR absorbing dye and having solubility in an alkaline aqueous solution increased by heating in order on a hydrophilic support, both the underlayer and upper heat sensitive layer separately contain different IR absorbing dyes and the original plate is imagewise exposed and then developed with an alkali developing solution.例文帳に追加
親水性支持体上に、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含む下層と、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収染料を含有し、加熱によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大する上部感熱層とを、順次積層して有し、前記下層及び上部感熱層の両方にそれぞれ異なる赤外線吸収染料を含有することを特徴とし、画像様に露光した後、アルカリ現像液で現像することを特徴とする。 - 特許庁
The resist composition contains a base material component (A), which generates an acid by exposure and the solubility to a developing solution is changed by an action of an acid.例文帳に追加
露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される基を有する構成単位（ａ０−１）と、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁
The resist composition includes: a base component (A) the solubility of which with a developing solution changes by an action of an acid; and an acid generator component (B) which generates an acid by exposure, the acid generator component (B) including an acid generator (B1) having a group expressed by the formula (b1-1) in a cationic moiety.例文帳に追加
酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）は、式（ｂ１−１）で表される基をカチオン部に有する酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒ’は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基又はシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基であり、ｐは０〜４の整数である。 - 特許庁
In this processing method, at least one of a developing solution in the developing tank of the processing machine and a fixing solution in the fixing tank is circulated in 2.0-10.0 l/min circulation rate.例文帳に追加
支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を有し、該ハロゲン化銀乳剤層またはその他の非感光性親水性コロイド層に少なくとも一種のヒドラジン誘導体を含有し、且つ色素添加量が１０ｍｇ／ｍ^2以下のハロゲン化銀乳剤層を有する側のＧｅｌ量が３ｇ／ｍ^2以下であるハロゲン化銀写真感光材料をイメージセッターで露光し、その後自動現像機で処理する方法において、該自動現像機の現像槽中の現像液、或いは、定着槽中の定着液の少なくともいずれか一方の液が循環しており、かつ該循環量が２．０ｌ／ｍｉｎ以上１０．０ｌ／ｍｉｎ以下であることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁
The positive resist composition contains a base material component (A') which has high solubility against alkali developing solution by action of acid and generates acid by exposure.例文帳に追加
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ、露光により酸を発生する基材成分（Ａ’）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ’）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）と、露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物［式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であり、Ｒ^２は２価の連結基であり、Ｒ^３は、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基である。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
検索履歴を保存できる！
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
