「"developing-solution"」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive lithographic printing plate material which excels in sensitivity and developability (image forming ability and development start time) even in development processing with a developing solution of low pH, therefore excels also in work efficiency, safety and environmental fitness.例文帳に追加

本発明の目的は、低ｐＨの現像液での現像処理でも、感度、現像性（画像形成能力、現像開始時間）に優れた、従って、作業性、安全性、環境適性にも優れた、ポジ型平版印刷版材料およびポジ型平版印刷版の画像形成方法を提供することにある。 - 特許庁

The positive resist composition includes a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under an action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有し、前記基材成分（Ａ）は、一般式−Ｒ^２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^１［式中、Ｒ^１は酸解離性溶解抑制基、Ｒ^２は２価の炭化水素基である。 - 特許庁

The base-reactive, surface-modifying agent is reactive to hydroxide and increases the surface hydrophobicity of a pattern formed in a layer of the radiation-sensitive composition upon treatment with a basic developing solution during lithographic processing of a substrate.例文帳に追加

塩基に反応性の表面を改質する薬剤は、水酸化物に対して反応性のものであると共に基体のリソグラフィーの加工をする間に塩基性の現像する溶液での処理の際に放射に敏感な組成物の層に形成されたパターンの表面の疎水性を増加させる。 - 特許庁

In a method for making a planographic printing plate, a planographic printing plate precursor having an image forming layer on a support having a hydrophilic surface in which a hydrophilic graft polymer chain exists is imagewise exposed and developed with an alkaline developing solution containing at least one chelating agent.例文帳に追加

親水性グラフトポリマー鎖が存在する親水性表面を有する支持体上に、画像形成層を有する平版印刷版用原版を、画像露光後、少なくとも一種のキレート剤を含有するアルカリ性現像液を用いて現像処理することを含む平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) two resins each having an alicyclic hydrocarbon group in a side chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂として２種類の樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The upper layer film-forming composition to be used for forming an upper layer film on the surface of a photoresist film contains: a resin component (A) that dissolves in a developing solution for developing the photoresist film; and an amide group-containing compound (B).例文帳に追加

フォトレジスト膜の表面上に上層膜を形成するために用いられる上層膜形成組成物であって、該組成物は、前記フォトレジスト膜を現像する現像液に溶解する樹脂成分（Ａ）とアミド基含有化合物（Ｂ）とを含有する上層膜形成組成物である。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定混合溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a dissolution rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified dissolution inhibiting compound.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定の溶解阻止化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and an organic solvent which dissolves the above components.例文帳に追加

特定の構造の繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物および上記成分を溶解する有機溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains a compound which generates a sulfonic acid of formula (X) when irradiated with active light or radiation and a resin having a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and having solubility in an alkali developing solution increased when decomposed by the action of the acid.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により式（Ｘ）のスルホン酸を発生する化合物と、単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂とを含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and repeating units each having a specified acid decomposable group and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiation with active light or radiation.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の酸分解性基を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

Each of the positive type photoresist compositions contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active rays or radiation, a resin having a specified structure and a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid and a specified mixed solvent.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び特定の混合溶剤を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains: a blend of two or more resins each having a specified lactone monomer unit and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid; and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定のラクトンモノマー単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂の２種以上のブレンドと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains: a resin having a plurality of specified lactone monomer units as constitutional units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid; and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定のラクトンモノマー単位の複数種を構成単位として有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

In the method for manufacturing a printing machine plate, the original plate is irradiated with active energy beams to form an image, and optionally after heating, the original plate is developed with an alkaline developing solution, washed, gummed and dried.例文帳に追加

第二の構成は、得られた平版印刷版原版に活性エネルギー線照射により画像形成し、必要に応じ加熱処理した後、アルカリ性現像液による現像処理、水洗、ガム処理、乾燥を経て印刷刷版を作製することを特徴とする印刷刷版作製方法。 - 特許庁

The positive radiation-sensitive composition contains (A) at least one compound having a specified structure which generates an acid when irradiated with active light and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of the acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線の照射により酸を発生する特定の構造の化合物少なくとも１種、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

To provide a positive-type resist composition which is usable for forming patterns by using a high-energy ray having a wave length of 300 nm or shorter or an electron beam and can solve a problem of the occurrence of pattern exfoliation or pattern falling-down due to the penetration of a developing solution into an interface between the resist film and a substrate.例文帳に追加

３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成する際に使用できるレジスト組成物であって、レジスト膜と基板との界面に現像液が入り込み、パターンはがれやパターン倒れが生じるという問題を解決する。 - 特許庁

In the processing method, a silver halide photographic sensitive material having a hydrophilic colloidal layer on at least one side of the support and also having a layer containing compounds of formulae 1-4 (where W is an electron withdrawing group; D is an electron donative group; and H is a hydrogen atom) is processed with a developing solution containing reductones.例文帳に追加

支持体の少なくとも一方の側に親水性コロイド層を有し、かつ一般式（１）〜（４）の化合物を含有する層を有するハロゲン化銀写真感光材料を、レダクトン類を含有する現像液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

A developing solution 38 contains a light shielding dye and titanium dioxide and is spread between the 1st sheet 3 and the 2nd sheet 5 after exposure to shield the photosensitive layer 25 from light, After development, the light shielding dye is made transparent by pH lowering and a white ground is formed by the titanium dioxide.例文帳に追加

現像処理液３８は遮光染料と二酸化チタンを含有し、露光終了後に第１シート３と第２シート５との間に展開されて感光層２５を遮光し、現像終了後は遮光染料がpH低下で透明化し、二酸化チタンによって白地になる。 - 特許庁

To obtain color paper which does not cause surface stain, unevenness in processing and the deterioration of photographic characteristics (lowering of the color density and color mixture) due to the inclusion of a bleach fixing solution in a color developing solution and gives a print of satisfactory quality even when development time is considerably shortened.例文帳に追加

現像時間を大幅に短縮しても、白地汚れ、処理むら及び漂白定着液のカラー現像液への混入による写真特性の低下（発色濃度、混色など）がなく、十分な品質のプリントが得られるカラーペーパー及びその現像処理方法を提供する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has at least one kind of a recursive unit having at least one radical of a particular structure, and has solubility to an alkaline developing solution increased by the action of acid and (B) a compound that generates acid by the action of active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の基を少なくとも１つ有する繰り返し単位を少なくとも１種有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has two kinds of repeating units each with a specified structure by at least one each and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の２種類の繰り返し単位を各々少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A visible light sensitive resin film layer (A), a sheet layer (B) transparent to visible light, a visible light shielding layer (C) capable of forming a pattern with a developing solution and an energy beam sensitive film layer (D) are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

The moving speed V2 of the rinse liquid feed nozzle 40 is set higher than the moving speed V1 of the developing solution feed nozzle 20 to thereby reduce the actual developing time on an area (scanning direction A downside) apt to accelerate developing reaction due to the influence of a fluctuation resulting from rinse liquid dripping.例文帳に追加

リンス液供給ノズル４０の移動速度Ｖ２を、現像液供給ノズル２０の移動速度Ｖ１よりも速くすることにより、リンス液滴下によるゆらぎの影響で現像反応が促進され易い部位（走査方向Ａ下流側）では、実際の現像時間を短くする。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a norbornene-based repeating unit having a specified norbornane structure in the side chain and which increases the solubility with an alkali developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖に特定のノルボルナン構造をもったノルボルネン系繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

In the method for producing a planographic printing plate, a planographic printing plate obtained by disposing a photosensitive layer or a heat sensitive layer on an aluminum substrate treated with an aqueous solution containing nitrous acid or a nitrite after anodic oxidation is developed with a developing solution not containing a silicate.例文帳に追加

陽極酸化した後、亜硝酸または亜硝酸塩を含む水溶液で処理したアルミニウム支持体に型感光層または感熱層を設けた平版印刷版を、珪酸塩を含まない現像液で現像処理することを特徴とする平版印刷版の製造方法。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation and (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin having repeating structural units with a specified structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound having a specified structure and generating the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し構造単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）特定の構造の活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which increases the solubility with an alkali developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound of a specified structure which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）特定構造の、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a method of producing a master plate for planographic printing plate which can utilize the conventional processing unit and printer as they are, attains direct plate making from digital information of a computer or the like and has a photosensitive layer capable of forming a wholly uniform image and having a wide electric conductivity latitude of a developing solution.例文帳に追加

従来の処理装置や印刷装置をそのまま利用でき、コンピューター等のデジタル情報から直接製版可能であり、全体に均一な画像を形成し得る、現像液の電導度ラチチュードが広い感光層を有する平版印刷版原版の製造方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) resin which has a specified structural unit, specified molecular weight and a protection rate and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkaline developing solution; and (B) a compound which generates an acid by irradiation with active radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造単位を有し、特定の分子量・保護率を持つ、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a base paper for a support of a support for a photographic printing paper having superior re-disaggregation property, and ensuring slight infiltration of a developing solution from a cut section of a photographic printing paper, having high rigidity and superior suitability to high-speed processing in an automatic developing machine when used as the photographic printing paper.例文帳に追加

優れた再離解性を有し、写真印画紙として用いる際に、写真印画紙切断面からの現像液の浸透が小さく、剛度が高く、自動現像機における高速処理適性に優れた写真印画紙用支持体の支持体用原紙を提供する。 - 特許庁

The alkali developing solution for a color photosensitive composition contains: (A) a nonionic surfactant containing (A-1) polyoxyalkylene monostyrylphenylether and (A-2) polyoxyalkylene distyrylphenylether, in a mass ratio [(A-1)/{(A-1)+(A-2)}] of 0.2 to 0.9; and (B) a basic composition containing (B-1) potassium hydroxide.例文帳に追加

(A-1)ポリオキシアルキレンモノスチリルフェニルエーテルと、(A-2)ポリオキシアルキレンジスチリルフェニルエーテルとを、質量比［（A-1)／〔(A-1)＋(A-2)〕］が０．２から０．９の範囲で含む（Ａ）非イオン性界面活性剤、及び、(B-1)水酸化カリウムを含む（Ｂ）塩基性組成物、を含有する着色感光性組成物用アルカリ現像液。 - 特許庁

The chemically amplified resist composition contains: (A) a resin which has a specified structure and which is decomposed by the effect of an acid to increase its solubility with an alkaline developing solution; (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; and (C) a component having a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）特定構造を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定構造を有する成分、を含有する化学増幅型レジスト組成物により達成される。 - 特許庁

To provide a photosensitive CTP flexographic printing original plate in which a photosensitive resin layer has excellent workability and a cured body has excellent transparency and elasticity at low temperature, an IR ablation layer has high sensitivity, and both the layers can be developed with water or a water-base liquid as a developing solution.例文帳に追加

感光性樹脂層が加工性や硬化物の透明性及び低温時の弾性などに優れ、ＩＲアブレーション層が高感度であり、且つ両層が水又は水系液体の現像液で現像可能な感光性ＣＴＰフレキソ印刷用原版を提供すること。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates and acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin which has a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a polymer which has repeating units having specific two kinds of acetal structures and undergoes an increase in solubility in an alkaline developing solution by being decomposed under the action of an acid, a compound which generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation and a solvent.例文帳に追加

特定の２種のアセタール構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によって分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、および溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

A positive resist composition is provided which comprises (A) a specified compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a resin having a specified repeating unit and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定の化合物、（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity and developing solution resistance, from which an interlayer insulating film excellent in solvent resistance, heat resistance and transparency can be formed, and to provide an interlayer insulating film formed of the radiation-sensitive resin composition and a method for forming the interlayer insulating film.例文帳に追加

耐溶媒性、耐熱性及び透明性に優れた層間絶縁膜を形成可能であり、かつ感度及び耐現像液性に優れた感放射線性樹脂組成物、この感放射線性樹脂組成物から形成される層間絶縁膜並びに層間絶縁膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a recording material capable of high sensitivity image recording using not only ultraviolet light but also visible light to infrared light in a thoroughly dry processing system in which the use of a developing solution, etc., is not necessary and no waste is generated and capable of forming a clear high-contrast black-and-white or color image.例文帳に追加

現像液等の使用が不要で、且つ、廃棄物の発生のない完全ドライの処理系において、紫外光のみならず、可視光〜赤外光を用いた高感度な画像記録が可能で、鮮明で、高コントラストな白黒又はカラーの画像を形成し得る記録材料を提供する。 - 特許庁

In this case, a developing process is carried out without being affected by a flow of ambient air, so that the substrate can be subjected to a developing process with uniformity through its surface, and moreover a developing solution feeding nozzle or the like and an area for installing it are not required to be provided above the substrate, so that the processing device can be reduced in size.例文帳に追加

この場合、周囲の気流の影響を受けずに現像処理を行えるので面内均一な現像処理をすることができ、かつ基板の上方側に例えば現像液供給ノズルおよびその設置領域を必要としないので装置の小型化を図ることができる。 - 特許庁

A developing solution nozzle 101, included in a developing machine has a discharge exhaust 102 composed of a plurality of small holes, opening downward at the bottom of the nozzle 101 facing a resist coated surface 2a and a spherical body 103 in the lower neighborhood of the discharging exhaust 102.例文帳に追加

本発明の現像装置が備える現像液ノズル１０１は、レジスト塗布面２ａに対向するノズル１０１底面に下向きに開口された複数の小孔から成る吐出口１０２を有し、吐出口１０２の下方近傍に球状体１０３を配置している。 - 特許庁

The radiation sensitive resist composition contains a silicon (Si)-containing resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a photo-acid generating agent, a solvent and a basic compound having ≥5 repeating units with a specified structure as an average number (n) of repeating units.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加するケイ素（Ｓｉ）を含有する樹脂と、光酸発生剤と、溶剤と、特定構造の繰り返し単位を平均繰り返し単位数（ｎ）で５個以上有する塩基性化合物とを含有してなる感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a photopolymerization type photosensitive phosphor paste composition using pure water as a developing solution, ensuring a low baking temperature after the formation of a fluorescent membrane and capable of easily regulating the line width and sharpness of a fluorescent membrane pattern and to provide a method for forming a fluorescent membrane using the composition.例文帳に追加

純水を現像液として使用し、蛍光膜の形成後、焼成温度が低く、且つ蛍光膜パターンの線幅及びシャープネスを容易に調節することのできる光重合型の感光性蛍光体ペースト組成物及びこれを用いた蛍光膜の形成方法を提供する。 - 特許庁