「"developing-solution"」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive resist composition includes a base component (A) of which the solubility in an alkali developing solution increases under the action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the base component (A) includes a polymer compound (A1) having a constitutional unit (a0) represented by general formula (a0-1).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: a resin which has at least one repeating unit selected from units expressed by general formulae (I) to (III) and increases the solubility with an alkaline developing solution by the effect of an acid; and a compound which generates an acid by the effect of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）下記の一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）から選択される少なくとも１つの繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a printing method by which easy plate making is attained without requiring an alkaline developing solution, practical printed image quality and printing resistance are ensured while improving discrimination between the image area and non-image area of a printing surface and good image quality can be provided even when the resulting planographic printing plate is repeatedly regenerated and used.例文帳に追加

アルカリ性現像液を必要とせず、簡易に製版できて、かつ印刷面の画像部と非画像部の識別性が更に改良された実用レベルの印刷画質及び耐刷性を有し、さらに平版印刷版を繰り返し再生して使用しても良好な画質を提供することのできる印刷方法を提供すること。 - 特許庁

The method for developing a planographic printing plate having physical developing nuclei between an anodically oxidized aluminum support and a silver halide emulsion layer and applying a silver complex salt diffusion transfer process, is characterized in that the plate surface of the planographic printing plate is coated with an amino acid-containing developing solution.例文帳に追加

陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版の現像処理方法において、アミノ酸を含有する現像液を前記平版印刷版の版面上に塗布する事を特徴とする平版印刷版の現像処理方法。 - 特許庁

To provide a development device used for manufacturing a color filter capable of performing development processing which resolves fluctuation of a developing time exposed to a developing solution due to location of the substrate, hardly causes fluctuation of in-plane dimensions of the substrate, gives uniform thickness and stable pattern shape, and is excellent in reproducibility; and to provide a method of manufacturing color filter using the development device.例文帳に追加

基板の場所による現像液に曝される現像時間の変動を解消し、基板の面内の寸法バラツキの少ない、均一な厚さ、パターン形状が安定した再現性の優れた現像処理するカラーフィルタの製造に用いる現像装置及びこれを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a resist material, of a chemically amplified type in particular, for use in lithography with a high-energy light source in particular, having a practically sufficient level of etching resistance, excellent in adhesion to a substrate and in affinity with the developing solution, much higher than conventional materials in sensitivity and in resolution performance, and swelling less during the developing process.例文帳に追加

特に高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、実用レベルのエッチング耐性を有し、基板密着性及び現像液親和性に優れ、従来品を大きく上回る感度と解像性を有し、加えて現像時の膨潤の小さいレジスト材料、特に化学増幅型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide an easy evaluation method for easily judging the platemaking conditions of a positive lithographic printing original plate for IR laser for direct plate making, in particular, for judging the activity state of a developing solution, and to provide a quality control method for keeping the quality of the lithographic printing plate constant by using the evaluation result as a feedback to the exposure/development process.例文帳に追加

ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版の製版条件、特に、現像液の活性状態を容易に判定する簡易な評価方法及び、その結果を露光／現像工程にフィードバックして、平版印刷版の品質を一定に保つための品質管理方法とを提供する。 - 特許庁

To provide an antireflection film forming composition, having high power to absorb reflected light and capable of forming an antireflection film which has full resistance, even with respect to a developing solution on which a resist pattern excellent in shape can easily be formed at a high etching rate, even if the antireflection film is made thick and difference in level on a substrate is planarized.例文帳に追加

反射光に対して吸収能が高く、エッチングレートが高く反射防止膜を厚膜にし基板上の段差を平坦化しても形状に優れたレジストパターンが容易に形成でき、かつ現像液に対しても充分な耐性を有する反射防止膜を形成できる反射防止膜形成用組成物を提供すること。 - 特許庁

An original plate of a planographic printing plate having a hydrophilic layer comprising a high molecular compound bonded directly chemically to the surface of the support and has a hydrophilic functional group and an image forming layer in order on the support is imagewise exposed and developed with a developing solution which is an aqueous solution containing an alkali agent, an organic solvent and an anionic surfactant.例文帳に追加

支持体上に、支持体表面と直接化学的に結合しかつ親水性官能基を有する高分子化合物からなる親水性層と画像形成層とを順に有する平版印刷版原版を画像露光後、アルカリ剤、有機溶剤、及びアニオン界面活性剤を含む水溶液である現像液で現像処理する。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and (B) a resin comprising a repeating unit having a partial structure represented by formula (X) on a side chain and a repeating unit having a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｂ）下記の一般式（Ｘ）で表される部分構造を側鎖に有する繰り返し単位及び特定構造の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition includes a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein the acid-generator component (B) includes an acid generator (B1) composed of a compound having a base dissociable group within a cation moiety.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、カチオン部に塩基解離性基を有する化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

The positive-acting photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, an onium salt compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and at least one of a fluorine- and/or silicon-containing surfactant and a nonionic surfactant.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生するオニウム塩化合物及びフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤、及びノニオン系界面活性剤のうち少なくとも１種を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type pbotoresist composition contains (A) a sulfonic acid generating compound represented by a specified structure and (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表されるスルホン酸を発生する化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a color developer composition for a silver halide color photographic sensitive material which prevents deterioration of a color developing solution by air oxidation in a color developing process and ensures stable processing property over a prolonged period of time, and to provide a processing method for a silver halide color photographic sensitive material using the composition.例文帳に追加

本発明の目的は、発色現像プロセスにおいて発色現像液の空気酸化による劣化を防止し、長期間にわたって安定した処理特性が得られるハロゲン化銀カラー写真感光材料の発色現像剤組成物とそれを用いたハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that can give a resist coating showing a high dynamic contact angle during exposure in an immersion exposure process, thereby showing excellent draining capability on the surface of the resist coating as well as high solubility with an alkali developing solution and with a rinsing liquid, and suppressing occurrence of a development defect.例文帳に追加

液浸露光プロセスにおいて、露光時には高い動的接触角を示すことにより、レジスト被膜表面が優れた水切れ性を示す一方で、アルカリ現像液及びリンス液に対する高い溶解性を示し、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト被膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In the method for making a planographic printing plate, a photopolymerizable photosensitive planographic printing plate obtained by disposing a photopolymerizable photosensitive layer comprising a compound having an addition polymerizable ethylenically unsaturated bond, a titanocene photopolymerization initiator and a coloring pigment on a support is exposed and developed with a developing solution containing soybean polysaccharide.例文帳に追加

付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物、チタノセン系光重合開始剤及び着色顔料を含有する光重合性感光層を支持体上に設けた光重合型感光性平版印刷版を、露光後、大豆多糖類を含有する現像液で現像処理することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

An image forming method comprises a process for preparing the image forming member containing catalyst center and a water- permeable matrix, but not containing substantially photosensitive silver halide and a process for applying at least one kind of soluble coloring matter-forming coupler solution and a developing solution in the image formed on the image forming member.例文帳に追加

本発明による画像形成方法は、触媒中心と透水性マトリックスとを含む層を少なくとも一層含むが、実質的に感光性ハロゲン化銀を含まない画像形成部材を用意する工程と、前記画像形成部材に、少なくとも一種の可溶性色素生成性カプラーの溶液と現像液とを像様適用する工程とを含んで成る。 - 特許庁

The method for forming an image is carried out by using the above photoresist in steps of forming a photoresist layer on a substrate, irradiating the photoresist layer with light through a mask corresponding to a specified pattern, developing the photoresist film with a developing solution containing an alkali and removing the exposed part to form a positive image.例文帳に追加

更に、本発明によれば、基材上にフォトレジスト層を形成し、所望のパターンに対応するマスクを介して上記フォトレジスト層に光照射した後、得られたフォトレジスト膜をアルカリを含む現像液で現像し、露光部を除去して、ボジ型画像を形成する画像形成方法において、上記フォトレジストを用いる方法が提供される。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a resin containing repeating structural units each having a specified bridged alicyclic structure and repeating structural units each having a specified acetal structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の有橋式脂環式構造を有する繰り返し構造単位および特定のアセタール構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

In a photomechanical process in which a planographic printing plate having physical developing nuclei between an anodically oxidized aluminum substrate and a silver halide emulsion layer and utilizing a silver complex salt diffusion transfer process is subjected to at least development after exposure, an amino acid and glycerol or its polymer or saccharides are contained in a developing solution used.例文帳に追加

陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版を露光後少なくとも現像処理する製版方法において、該現像液中にアミノ酸と、グリセリンもしくはその多量体、又は糖類を含有する事を特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

The positive type radiation sensitive resin composition contains at least (a) a resin having a group which is decomposed by the action of an acid and increases solubility in an alkali developing solution, (b) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, (c) an organic carboxylic acid compound, (d) a basic compound and (e) a solvent.例文帳に追加

（ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、（ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（ｃ）有機カルボン酸化合物、（ｄ）塩基性化合物、及び（ｅ）溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

In a waste liquid treatment method where waste developing solution is vacuum evaporated at 2-5 kPa and at <30°C to be separated into an unexposed resin component and a condensate, the residual moisture content in the waste developer after the evaporation is concentrated to 10-20%, and then taken out to be discarded as fluid waste.例文帳に追加

現像廃液を気圧が２〜５ｋＰａ、且つ温度が３０℃未満で減圧蒸発せしめて、未露光部の樹脂成分と凝縮液とに分離する廃液処理方法であって、蒸発後の現像廃液中の残存水分率を１０〜２０％の間に濃縮した後に取り出して流動性廃棄物として廃棄することを特徴とする。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) resin which has a specified structural unit and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkaline developing solution; and (B) a compound which has a cationic moiety having at least one phenolic hydroxyl group and a specified anionic moiety and which generates an acid by irradiation with active radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）フェノール性ヒドロキシ基を少なくともひとつ有するカチオン部と特定のアニオン部とを有する活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, (C) a basic compound of formula (I) and (D) an organic solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）下記一般式（Ｉ）で表される塩基性化合物、及び（Ｄ）有機溶剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition includes: a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under the action of an acid; an acid-generator component (B) which generates an acid upon exposure; and a polymeric compound (F1) having a structural unit (f1) containing a base dissociable group and a sulfamoyloxyadamantyl methacrylate structural unit (f2).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）およびスルファモイルオキシアダマンチルメタクリレート構成単位（ｆ２）を有する高分子化合物（Ｆ１）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) an acid generating compound represented by a specified structure, (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and (C) a specified solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表される酸を発生する化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、（Ｃ）特定の溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition comprises: a base component (A) that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid; and an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, wherein the base component (A) contains a polymer compound (A1) having a structural unit (a0) represented by general formula (a0-1).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains (A) a resin which has a partial structure having a hydroxyl group replaced with a hydrocarbon group, has 120 to 180°C glass transition temperature, is decomposed by an acid and has its dissolution rate in an alkaline developing solution increased, (B) a compound which generates an acid by irradiation with an active ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）水酸基が脂肪族環状炭化水素基に置換した部分構造を有し、ガラス転移温度が１２０℃〜１８０℃である、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition or a transfer material being developable with a low alkaline developing solution even in the case of any of positive type and negative type photosensitive resin compositions or a photosensitive resin layer transfer material, having high resolution giving a pattern having excellent removing solution resistance after heat curing and exhibiting excellent aging stability of a photosensitive material.例文帳に追加

ポジ型、ネガ型の何れの感光性樹脂組成物、又は感光性樹脂層転写材料においても弱アルカリ性現像液による現像が可能で、解像度が高く、熱硬化処理後の剥離液耐性に優れたパターンが得られ、かつ感材の経時安定性にも優れた感光性樹脂組成物或いは転写材料を提供する。 - 特許庁

To obtain the positive silicone-containing photosensitive composition high in sensitivity and resolution, especially in manufacture of semiconductor devices by incorporating a specified polymer insoluble in water and soluble in alkaline solutions and polymer or the like having the property that the solubility in an alkaline developing solution is increased by action of acids.例文帳に追加

Ｄｅｅｐ−ＵＶ領域での光吸収が小さく、短波長光源に対応し得る感光性組成物を提供することであり、詳しくは高感度で且つ高い解像力を有し、更に、特に０．２μｍ以下の微細パターンに於ける現像処理後の膜減りが少なく、矩形形状を与える感光性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

A negative photoresist is obtained through steps of: providing a photoresist layer containing a polycarbonate resin having a specified structure and a photoacid generator such as diazonaphthoquinone on a substrate; masking the layer with a desired pattern; irradiating the pattern surface with UV rays; and then developing the resist by using a developing solution comprising a tetra-substituted ammonium hydroxide, a low molecular weight alcohol, and a solvent containing water.例文帳に追加

基板上に、特定構造のポリカーボネート樹脂及びジアゾナフトキノンなどの光酸発生剤を含むフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクし、このパターン面に紫外線を照射したのち、テトラ置換アンモニウムヒドロキシド、低分子アルコール及び水を含む溶媒から成る現像液を用いて現像することによりネガ型のフォトレジストを得る。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which has a specified repeating unit expressed by general formula (I) and a specified repeating unit and the solubility of which with an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｂ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｃ）溶済を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

A first metal film 13 that is thinner is formed on a surface on which an electrode pattern of a piezoelectric substrate 11 is formed, and a second metal film 15 which is hard to be etched by photoresist developing solution is formed on the first metal film 13 and then developed to thereby make a substrate digging amount of the piezoelectric substrate 11 small, suppressing a variation in the excitation center frequency.例文帳に追加

圧電基板１１の電極パターンを形成する方の面に薄い方の第１の金属膜１３を形成し、その上にフォトレジストの現像液にエッチングされにくい第２の金属膜１５を形成した後に現像することにより、圧電基板１１の基板掘れ量を小さくし、励振中心周波数のバラツキを抑制する。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) a resin containing specified silicon-containing repeating units and repeating units each having a specified alicyclic structure in the principal chain and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、主査に特定の脂環式構造を有する繰り返し単位とを含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）特定の構造の活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The composition contains: (A) a fluorine atom-containing resin which has a fluorine atom and which decomposes by the effect of an acid to increase the solubility to an alkali developing solution; (B) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation; (C) an ammonium salt which does not decompose by irradiation with active rays or radiation; and (D) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を有し、且つ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大するフッ素原子含有樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により分解しないアンモニウム塩及び（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a treating method for a photosensitive planographic printing plate which prevents occurrence of fine spots on a non-image area when a printing machine is stopped once and printing is restarted in continuous treatment and diminishes sludge and slime deposited in a developing tank in long- term continuous treatment and to provide a developing solution used in the treatment method.例文帳に追加

本発明の目的は、連続処理において、一旦印刷機を停止した後に印刷を再開した時、非画像部に発生する微点状汚れを防止し、かつ長期間連続処理をした時、現像槽に蓄積するスラッジヘドロを低減した感光性平版印刷版の処理方法及びそれに用いる現像液を提供することにある。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin having repeating units with a specified alicyclic lactone structure, further having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and at least two specified compounds which generate acids when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の脂環ラクトン構造を有する繰り返し単位、及び他に脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、特定の構造の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を少なくとも２種、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, and (C) a compound represented by a specified structure and containing a sulfonimide structure in its molecule.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定の構造で表される分子内にスルホンイミド構造を含む化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin having a specified repeating unit having a norbornane lactone structure and having the solubility with an alkaline developing solution increased by the effect of an acid; (B) a compound which generates specified sulfonic acid by irradiation of active rays or radiation; and (C) solvent.例文帳に追加

（Ａ）ノルボルナンラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive lithographic printing plate which can be made easily without needing an alkaline developing solution, has practical printed image quality and printing resistance with discrimination of the image part and non-image part of a printing surface improved, and can provide good image quality even when regenerated and used repeatedly and a printing method using the printing plate.例文帳に追加

アルカリ性現像液を必要とせず、簡易に製版できて、かつ印刷面の画像部と非画像部の識別性が更に改良された実用レベルの印刷画質及び耐刷性を有し、さらに繰り返し再生して使用しても良好な画質を提供することのできる感光性平版印刷版及びそれを用いた印刷方法を提供すること。 - 特許庁

The resist composition for the liquid immersion lithography includes a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure to light, wherein a cationic component of the acid-generator component (B) has a 1-octanol/water distribution coefficient of 7.0 to 9.5.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分（Ｂ）のカチオン成分の１−オクタノール／水分配係数が７．０〜９．５であることを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which has a mono-or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure in the principal chain or in a side chain, is decomposed by the action of the acid and increases its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound represented by a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を、主鎖または側鎖に有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）特定の構造で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A method for producing the top coat film for lithography comprises: dissolving a polymer having one or more kinds selected from fluorocarbinol group which may be protected, sulfonic group, fluoroalkyl sulfonic group, and carboxylic group in its molecule and dissolving in an alkali developing solution, in an organic solvent containing an alkane hydrocarbon solvent in an amount of ≥40 wt.%; and then applying the resulting solution onto the photoresist film.例文帳に追加

保護しても良いフルオロカルビノール基、スルホン酸基、フルオロアルキルスルホン酸基、カルボキシル基を一種以上分子内に有し、かつアルカリ現像液に溶解する高分子を、アルカン類炭化水素溶媒が４０重量％以上含有される有機溶媒に溶解し、フォトレジスト膜上に塗布するリソグラフィー用トップコート膜の製造方法。 - 特許庁

The radiation sensitive positive type resist composition contains a resin having a rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, a solvent and a compound having a bond which is cleaved by irradiation with the active light or radiation to generate a basic compound and an ionic compound.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤及び活性光線又は放射線の照射により結合が開裂して、塩基性化合物とイオン性化合物を発生する化合物を含有する感放射線性ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a lithographic printing plate material, which can be favorably applied to a CTP necessitating no special developing solution and can fix with no positional deviation on the plate cylinder of a printing machine even having a thin film flexible substrate and is especially suitable for a DI printing machine, and a fixing method to a printing equipment.例文帳に追加

特別な現像液が不要であるＣＴＰに好ましく適用可能で、薄膜の可撓性基材を有する平版印刷版材料であっても、印刷機の版胴上に位置ずれすることなく固定することが可能であり、特にＤＩ印刷機に適した、平版印刷版材料およびその印刷装置への固定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁