「"developing-solution"」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

Each of the radiation sensitive resist compositions contains a resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a photo-acid generating agent, a solvent and a specified alicyclic or aromatic compound.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が変化する樹脂、光酸発生剤、溶剤、及び、特定の脂環式又は芳香環式化合物を含有してなることを特徴とする感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁

A liquid including the test material, an aqueous developing solution capable of dissolving the water-soluble salt of the benzidine derivative, and a liquid including an enzyme marker carrier are dropped and developed on the inspection piece for the enzyme immuno-chromatograph, to detect the test material.例文帳に追加

酵素免疫クロマトグラフ用検査片上に、被検物質を含有する液、ベンジジン誘導体の水溶性塩を溶解しうる水性展開液、酵素標識担体含有液を滴下、展開し、被検物質を検出する。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and an N,N-dialkylcarboxylic acid amide.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及びＮ，Ｎ−ジアルキルカルボン酸アミドを含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

This resist film 11 is patternwise exposed by irradiation with F2 excimer laser light 13 having 157 nm wavelength through a mask 12 and the patternwise exposed resist film 11 is developed with a developing solution to form the objective resist pattern 14.例文帳に追加

レジスト膜１１に対してマスク１２を介して、１５７ｎｍ帯の波長を持つＦ_2 エキシマレーザ１３を照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像液により現像してレジストパターン１４を形成する - 特許庁

This resist film 11 is patternwise exposed by irradiation with F2 excimer laser light 13 having 157 nm wavelength through a mask 12 and the patternwise exposed resist film 11 is developed with a developing solution to form the objective resist pattern 14.例文帳に追加

レジスト膜１１に対してマスク１２を介して、１５７ｎｍ帯の波長を持つＦ_2 エキシマレーザ１３を照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像液により現像してレジストパターン１４を形成する。 - 特許庁

To provide a a photosensitive resin composition for a flexographic plate which can be developed with water without adding additives such as a surfactant and alkaline metal salt into a developing solution, provides good image reproducibility, and can form particularly fine images.例文帳に追加

現像液中に界面活性剤やアルカリ金属塩などの添加剤を加えることなく水現像でき、画像再現性の良好な、特に微細な画像を形成することができるフレキソ版用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition containing nanoparticles excelling in dispersibility in both resin and a developing solution and having excellent transmissivity and patterning property, and to provide a photosensitive element using the photosensitive resin composition, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

樹脂中及び現像液中の双方でナノ粒子の分散性が良く、透過率、パターニング性に優れるナノ粒子を含有した感光性樹脂組成物及び、それを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide the method for developing and processing the silver halide photographic sensitive material restrained from deposition and crystallization of a developing solution and prevented from occurrence of imaging trouble and damage of parts, and improved in graininess and in the storage stability of a concentrated kit.例文帳に追加

現像液の析出・結晶化を抑制し、画像故障の防止・部品破損の防止、粒状性の向上、更に濃縮キットの保存性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法を提供する。 - 特許庁

By the heating process, deposits that are adhered on the substrate W after the supply of the developing solution are dried, and are easily washed out from the substrate by the second rinsing process, which is carried out for the substrate W immediately after the heating process.例文帳に追加

この加熱処理により、現像液供給後の基板Ｗ上に付着している付着物が乾燥し、直後に行われる基板Ｗに対する第２のリンス処理によって基板上から容易に洗い流される。 - 特許庁

The resist composition contains: a base component (A) whose solubility in developing solution is changed by action of acid; an acid generator component (B) generating acid by light exposure; and a nitrogen-containing organic compound (D1) represented by the general formula (d1).例文帳に追加

酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、一般式（ｄ１）で表される含窒素有機化合物（Ｄ１）とを含有するレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material which ensures such satisfactory sensitivity as to cause no unevenness in density and can rapidly be processed even in a processing system in which a developing solution is replenished by a small amount and to provide a processing method for the material.例文帳に追加

現像液の補充量の少ない処理システムにおいても濃度ムラのない十分な感度が得られ、同時に迅速処理可能なハロゲン化銀写真感光材料、及びその現像処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for infrared laser beams to be used for directly forming a positive printing plate hardly soluble in unexposed parts even in the case of using a developing solution high in development activity and enhanceable in image discrimination and good in development latitude.例文帳に追加

現像液活性の強い現像液を用いても、非露光部が溶解され難く、画像のディスクリミネーションを向上でき、現像ラチチュードの良好なダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物の提供。 - 特許庁

Successively, pure water is supplied from a pure water discharging nozzle for stopping the developing reaction (S103) and, at the same time, the substrate is rotated while part of the developing solution piled up on the surface of the substrate is caused to remain on the surface (S104).例文帳に追加

続いて、現像反応を停止させるために純水吐出ノズルから純水を供給するとともに（Ｓ１０３）、基板の表面に液盛りされた現像液の一部を残留させつつ基板を回転させる（Ｓ１０４）。 - 特許庁

To provide a method for developing a black-and-white silver halide photographic sensitive material in which photographic performance is hardly varied even under slight replenishment, little unevenness is caused even in exposure with an image setter and a developing solution is hardly contaminated.例文帳に追加

補充量が少なくても写真性能の変動が少なく、イメージセッターで露光してもムラを生じにくく、現像液の汚れの発生も少ない黒白ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法を提供すること。 - 特許庁

To produce a composition for the underlayer film of a resist excellent in the reproducibility and resolution of a resist pattern when the composition is kept warm over a long period of time and excellent also in adhesion to the resist and resistance to a developing solution used after the exposure of the resist.例文帳に追加

組成物を長期保温した場合のレジストパターンの再現性や解像度に優れ、レジストとの密着性に優れ、レジストを露光した後に使用する現像液に対する耐性に優れたレジスト下層膜用組成物に関する。 - 特許庁

The resist pattern 3 and the coating layer 4 are heat treated to form a modified layer 5 insoluble with a developing solution on the surface of the resist pattern 3, and then developed to obtain a pattern having the modified layer 5 on the resist pattern surface.例文帳に追加

レジストパターン３及び被覆層４を加熱処理することにより、レジストパターン３の表面に現像液不溶性の変性層５を形成し、現像することによりレジストパターン表面に変性層５を有するパターンを得る。 - 特許庁

When the resist film 102 is developed with an alkaline developing solution after post-baking is performed on the resist film 102 exposed to the pattern, a resist pattern 106 composed of the unexposed sections 102b of the film 102 and having an excellent shape is obtained.例文帳に追加

パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対して、ポストベークを行なった後、アルカリ性現像液により現像を行なうと、レジスト膜１０２の未露光部１０２ｂよりなり良好な形状を持つレジストパターン１０６が得られる。 - 特許庁

The non-chemical amplification main chain degradation positive-type resist composition contains a base resin component (A) of which main chain is degraded by exposure, increasing solubility to a developing solution, and a naphthoquinone diazidesulfonate ester compound (B).例文帳に追加

露光により主鎖が分解して現像液に対する溶解性が増大するベース樹脂成分（Ａ）と、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物（Ｂ）を含有することを特徴とする非化学増幅主鎖分解型ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and an acetylene alcohol derivative.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及びアセチレンアルコール誘導体を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

On the other hand, when a monomer having no functions of becoming alkali-soluble by leaving a protective group of an ester by an acid is used, the homopolymer included in the monomer causes a scum (an insoluble material) in an alkali developing solution to provide the insufficient resolution.例文帳に追加

一方、酸によりエステルの保護基が脱離しアルカリ可溶になる機能を持たないモノマーを使用した場合、そのモノマーに含まれるホモポリマーはアルカリ現像液でのスカム（不溶解物）発生により十分な解像度が得られない。 - 特許庁

The photosensitive resin composition contains (A) an alkali-soluble resin, (B) a photothermal converting agent and (C) a polymer compound having a lactone group, and the resin increases the solubility with an alkali developing solution by exposure.例文帳に追加

本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）光熱変換剤と、（Ｃ）ラクトン基を有する高分子化合物と、を含有し、露光によりアルカリ現像液への溶解性が増大することを特徴とする。 - 特許庁

In a color development section 10, a film 2 coated with a developing solution is heated with a rubber heater 16 while being conveyed in such a way that the film 2 curves downward along the conveyance direction between a pair of turn rollers 13, 14.例文帳に追加

発色現像部１０において、現像液が塗布されたフィルム２が、ターンローラ対１３、１４の間でその搬送方向に沿って下方に湾曲するように搬送されつつ、ラバーヒータ１６により加熱されるようにする。 - 特許庁

To provide a processing method free of occurrence of black stops and capable of stably giving a high contrast image even when processing is carried out in the field of the graphic arts using a developing solution less liable to affect the environment under a small amount of replenishment.例文帳に追加

グラフィック・アーツ分野で、環境に対して問題の少ない現像液を用いて低補充量で処理を行っても、黒ポツの発生もなく安定に硬調な画像を得ることができる処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive material development apparatus capable of changing only development time while keeping fixing time and washing time regular by adjusting immersion time in a developing solution by switching a conveyance path.例文帳に追加

搬送経路を切り替えることで現像液に浸漬される時間を調整することで、定着処理時間や水洗処理時間を一定に維持しつつ現像処理時間のみを変更可能な感光材料現像装置を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a substrate component with the solubility to an alkaline developing solution increased by function of an acid, (B) an acid forming agent component for generating an acid by exposure, and (G) a benzodioxol or a derivative thereof.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、およびベンゾジオキソールまたはその誘導体（Ｇ）を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide base paper for photographic printing paper capable of suppressing the permeation of a developing solution from a cut section with productivity enhanced by the improvement of water drip on wires in a producing step.例文帳に追加

切断面端部からの現像液の浸透を著しく低減させることができると共に、写真印画紙用原紙の製造工程におけるワイヤー上での水切れを改善することによって生産性を挙げるのに好適な写真印画紙用原紙の提供。 - 特許庁

To provide a processing method for a silver halide photographic sensitive material which ensures high running stability of a developing solution and a fixing solution, stable sensitivity and γ, gives an image nearly free from residual color and unevenness in development, requires low replenishment and attains high safety.例文帳に追加

現像液及び定着液のランニング安定性が高く、感度及びγが安定し、残色、現像ムラの少ない画像を与え、かつ、低補充でしかも安全性の高いハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供する。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT OR MULTIPLE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, DEVELOPING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像若しくは多重現像用レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液、及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁

To provide a quality control method for easily keeping the quality of a planographic printing plate constant by evaluating the activity of a developing solution for an image forming material for an IR laser for direct plate making and feeding back the result to a developing step.例文帳に追加

ダイレクト製版用の赤外線レーザ用画像形成材料の現像液の活性度を評価し、その結果を現像工程にフィードバックして、容易に平版印刷版の品質を一定に保つための品質管理方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a polymer having a narrow molecular weight distribution, and exhibiting excellent solubility in a developing solution of the polymer, resolution of a resist composition and depth of focus, when used for a resist composition.例文帳に追加

分子量分布が狭い重合体の製造方法を提供することを目的とし、レジスト組成物に用いた場合に重合体の現像液への溶解性並びにレジスト組成物の解像度および焦点深度に優れた性能を発揮できるようにする。 - 特許庁

The developing method for photoresist film 3 includes a potoresist film forming process of forming a photoresist film 3 on a board 2, an exposure process of exposing the photoresist film 3 to light, and a developing process of developing the exposed photoresist film 3 with a developing solution 7.例文帳に追加

基板２上にレジスト膜３を形成するレジスト膜形成工程と、レジスト膜３を露光する露光処理工程と、露光処理後のレジスト膜３を現像液７で現像する現像処理工程と、を備えたレジスト膜３の現像方法である。 - 特許庁

The first resist frame 6 is formed by means of washing the developing solution with a cleaning liquid, and the minute pattern formation material 8 including a material corsslinking with an existence of an acid, is applied on a substrate 1, on which the cleaning liquid 7 is forced to stick.例文帳に追加

現像液を洗浄液で洗浄して第１のレジストフレーム６を形成し、洗浄液７を基板１上に付着させた状態で基板１上に酸の存在で架橋する材料を含む微細パターン形成材料８を塗布する。 - 特許庁

To provide a copolymer for lithography excellent in lithography properties such as a maximum rate (Rmax) at which a lithographic thin film is dissolved in an alkali developing solution and development contrast in chemically amplified positive lithography and to provide a composition containing the copolymer.例文帳に追加

化学増幅型ポジ型リソグラフィーにおいて、リソグラフィー薄膜のアルカリ現像液に対する最高溶解速度（Ｒｍａｘ）や現像コントラスト等のリソグラフィー特性に優れた、リソグラフィー用共重合体と該共重合体を含む組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a coating agent for a resist pattern, which is excellent in performance (curing performance) of insolubilizing and curing a resist pattern, and allows an insoluble resist pattern which is sufficiently stable against a subsequent exposure process, a developing solution and a positive radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

レジストパターンを不溶化して硬化させる性能（硬化性能）に優れ、その後の露光処理、現像液、及びポジ型感放射線性樹脂組成物に対して十分に安定な不溶化レジストパターンとすることが可能なレジストパターンコーティング剤を提供する。 - 特許庁

To provide a photo development apparatus which maximizes productivity even with a minimum number of photo backup apparatuses, by unifying the developing solution to be used for a photo development apparatus for a color filter substrate, and to provide a method for fabricating a color filter substrate by using the apparatus.例文帳に追加

カラーフィルター基板のフォト装備に利用される現像液を一元化することにより、最小限のフォトバックアップ装備でも生産力の極大化が可能であるフォト装備及びこれを利用したカラーフィルター基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The resist composition contains: a base material component (A) of which the solubility in an alkali developing solution varies by an action of an acid; a fluoro-alkyl-substituted sulfonium salt type photo-acid generator (B); and a compound (D) expressed by general formula (d1) or general formula (d2).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、フッ素アルキル置換スルホニウム塩型光酸発生剤（Ｂ）、一般式（ｄ１）又は一般式（ｄ２）で表される化合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a development processing method and development processing apparatus for uniformizing development processing, reducing a pattern collapse by developing solution or generation of a development loading effect, and capable of acquiring a high-quality substrate without variations in size in the surface to be processed.例文帳に追加

現像処理を均一化し、現像液によるパターン倒れや現像ローディング効果の発生を低減し、処理面内おける寸法ばらつきのない高品質な基板を得ることが可能な現像処理方法及び現像処理装置を提供する。 - 特許庁

The resist film 11 is then developed with an alkaline developing solution 14 and an alkaline rinsing solution 17 is supplied onto the resist film 11 to form the objective resist pattern comprising the unexposed regions 11b of the resist film 11.例文帳に追加

次に、レジスト膜１１に対してアルカリ性現像液１４を用いて現像を行なった後、レジスト膜１１に対して、アルカリ性リンス液１７をレジスト膜１１上に供給して、レジスト膜１１の未露光部１１ｂからなるレジストパターンを形成する。 - 特許庁

To obtain a positive type resist composition having high sensitivity and high resolving power, giving a rectangular photoresist, having good wettability with a developing solution, nearly free from development defects and ensuring a slight dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

高感度及び高解像力で、矩形形状を有するフォトレジストを与え、現像液への濡れ性が良好で現像欠陥が少なく、更に酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写時に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を得る。 - 特許庁

To provide a photosensitive transfer material capable of suppressing uneven development by shortening the development time of a thermoplastic resin layer by improving the solubility of the thermoplastic resin layer in a developing solution and to provide an image forming method using the same.例文帳に追加

熱可塑性樹脂層の現像液溶解性を向上させて熱可塑性樹脂層の現像時間の短縮化を図ることにより、現像むらを抑制することのできる感光性転写材料及びこれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

At this point, the cleaning nozzle 102 discharges or blows out a cleaning solution A108 (e.g. ozone aqueous solution), high-pressure air 109 (e.g. high- pressure dry air), and a cleaning solution B110 (e.g. hydrogen aqueous solution) to the developing solution 107 in this order in the scanning direction.例文帳に追加

このとき、スキャン方向に沿って、洗浄用ノズル１０２は、現像液１０７に、洗浄液Ａ１０８（例：オゾン水）、高圧エアー１０９（例：高圧のドライエアー）、及び洗浄液Ｂ１１０（例：水素水）の順に吐出、或いは、吹き付けを行う。 - 特許庁

To provide the photosensitive resin developing solution for attaining dissolution development capable of enhancing an yield by using an aqueous alkaline solution containing a specified compound.例文帳に追加

一般的に樹脂ブラックマトリクス又はカラーフィルター製造に用いられる顔料分散樹脂を現像する際に、非画線部を平均粒径で０．１μｍ以下の微粒として分散溶解する、いわば溶解現像の形態を呈する感光性樹脂現像液を提供する。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material which ensures high contrast using a stable developing solution and achieves improvement in defective conveyance in an exposure machine by automatic conveyance, such as an image setter, and in adhesion of dirt during development in an automatic processing machine.例文帳に追加

安定な現像液を用いて、極めて硬調で、イメージセッター等の自動搬送による露光機での搬送不良や、自動現像機での現像処理における汚れ付着が著しく改良されたハロゲン化銀写真感光材料を提供する。 - 特許庁

To suppress the occurrence of an insoluble material by the reaction of a polyvalent metal ion in a developing solution with an IR absorber and to carry out stable development over a long period of time.例文帳に追加

現像処理液中の多価金属イオンが赤外線吸収剤と反応して生ずる不溶物の発生を抑制し、長期間安定に現像しうる平版印刷版用アルカリ現像処理液及び平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁