「"developing-solution"」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a high-quality stable lithographic printing original plate free of adhesion of scum onto the plate even if a developing solution is repeatedly used over a prolonged period of time, causing neither molding nor precipitation of calcium carbonate in piping and a tank, and free of stain of a non-image area after printing.例文帳に追加

現像液を長期間繰り返し使用しても版上にカス付着がなく、また、配管や槽内にカビ発生、炭酸カルシウムの析出がなく、かつ、印刷したときに非画像部に汚れがない、高品質で安定な平版印刷版原版を提供すること。 - 特許庁

To provide a liquid treatment device capable of preventing a phenomenon or so called a loading effect, wherein the production amount of resolution products or the concentration of a developing solution becomes different locally and an etching speed or the like is changed, and capable of uniformly developing a photo mask such as a reticle or the like.例文帳に追加

溶解生成物の生成量や現像液の濃度が局所的に異なり、エッチング速度等が変化するローディング効果と呼ばれる現象を防止し、レチクル等のフォトマスクに対する均一な現像処理が可能な液処理装置を提供すること。 - 特許庁

To conduct a plurality of utilization methods in each of which a required image maintenance time is different from one another concerning a sheet which can make a record of the image by making a developing solution adhere and used repeatedly, using a smaller number of kinds of developing solutions smaller than the number of the plurality of the methods.例文帳に追加

顕像液を付着させることで画像の記録ができかつ繰り返し利用可能なシートについて、必要な画像維持時間が互いに異なる複数の利用方法に対してその数よりも少ない種類の顕像液で対応することである。 - 特許庁

To provide an original plate of a planographic printing plate having superior uniformity of an image forming layer and a satisfactory hydrophobic property of the surface of an image area, excellent in resistance to a developing solution, ink receptivity and printing resistance, excellent also in removability of a non-image area and capable of ensuring favorable characteristics.例文帳に追加

画像形成層の均一性にすぐれ、画像部分の表面が十分に疎水的で、現像液耐性、着肉性、耐刷性に優れ、かつ非画像部の除去性に優れた、好ましい特性を兼ね備えることができる平版印刷版原版を提供すること。 - 特許庁

The positive type radiation sensitive composition contains (A) a specified acid generator of formula (I) which generates an acid when irradiated with active light and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of the acid and increases solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

(Ａ）活性光線の照射により酸を発生する（Ｉ）で示される特定の酸発生剤、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の混合溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

A thermic ray sensitive resin film layer (A), a sheet layer (B) transparent to thermic rays, a thermic ray shielding layer (C) capable of forming a pattern with a developing solution and an energy beam sensitive film layer (D) are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面に感熱線性樹脂被膜層（Ａ）、熱線を透過するシート層（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な熱線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

To provide a processing method for a photosensitive planographic printing plate material, the method excellent in contamination preventing property on a non-image portion during printing and excellent in preventing sludge production in a developing solution when a great number of photosensitive planographic printing plates are processed.例文帳に追加

本発明の目的は、印刷時の非画像部の汚れ防止性に優れ、多数枚感光性平版印刷版を処理した場合の現像液中のスラッジ発生防止性に優れる感光性平版印刷版材料の処理方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition capable of forming a resist pattern good in sensitivity and resolution at the time of using an exposure light of ≤250 nm, especially, ≤220 nm, and by using a specified resin which has repeated units and is decomposed by acid to increase solubility to alkaline developing solution.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特に２２０ｎｍ以下の露光光源の使用時に、良好な感度及び解像度で、密着性に優れた現像欠陥の少ないレジストパターンを与え、更に充分な耐ドライエッチング性を示すポジ型感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

The developing solution for photoresist contains 80-95% aliphatic hydrocarbon mixture containing ≥80% n-heptane and 5-20% monocyclic aromatic hydrocarbon mixture containing ≥80% 9C alkylbenzene.例文帳に追加

フォトレジスト用現像液として、ｎ−ヘプタンを８０％以上含有する脂肪族炭化水素混合物を８０％以上９５％以下と、炭素数９のアルキルベンゼンを８０％以上含有する単環式芳香族炭化水素混合物を５％以上２０％以下含む。 - 特許庁

During the developing process, the photoresist film 3 is irradiated with irradiation light (infrared) having the wavelength area that makes soluble parts dissolving into the developing solution 7 absorb the irradiation light selectively in comparison with insoluble parts not dissolving into the solution 7 on the exposed photoresist film 3.例文帳に追加

現像処理工程中に、露光処理後のレジスト膜３において現像液７に溶解する可溶部分が現像液７に溶解しない不溶部分に比べ選択的に吸収を起こす波長域の照射光（赤外線）を、レジスト膜３に照射する。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with specified active rays or radiation and a resin having a specified structure and a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

特定の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified solvent.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

In the method for producing a planographic printing plate, an original plate for the planographic printing plate with a photosensitive layer comprising a photopolymerizable composition containing a photopolymerization initiator containing ≥4 aromatic rings is exposed and processed with a developing solution of ≤pH 13.0.例文帳に追加

芳香族環を４つ以上含有する光重合開始剤を含有する光重合性組成物からなる感光層を有する平版印刷版用原版を露光後、ｐＨ１３．０以下の現像液で処理することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition contains an Si- containing resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a photo-acid generating agent and a solvent and has ≤6.0 mPa.sec viscosity at 25°C.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する性質を有し、しかもＳｉ元素を含有している樹脂と、光酸発生剤と、溶剤とを含み、２５℃での粘度が６．０ｍＰａ・ｓｅｃ以下であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

A UV sensitive resin film layer (A), a UV transmitting sheet layer (B), a UV shielding layer (C) capable of forming a pattern with a developing solution and an energy beam sensitive film layer (D) are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面に紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）、紫外線を透過するシート層（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な紫外線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

After the substrate 100 is transferred to the tilting section 300, the tilting section 300 is tilted around the axis parallel to the first direction X, so that one side of the substrate 100 may be higher than the other side, to let the developing solution on the substrate 100 run off as the tilting section 300 inclines.例文帳に追加

基板１００が傾動部３００へ搬送された後、第１の方向Ｘに平行な軸を中心として基板１００の一方側が他方側よりも高くなるように傾動部３０が傾いて基板１００上の現像液が流れ落ちる。 - 特許庁

The positive resist composition has (A) a resin which has at least two specific recurring units and has its solubility to an alkaline developing solution increased by the effect of an acid, and (B) a compound which generates an acid by the effect of active rays or radiations.例文帳に追加

（Ａ）少なくとも２種の特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The developing solution contains at least one alkali agent selected from (A) phosphoric acid-base alkali agents, (B) silicic acid-base alkali agents, (C) carbonic acid-base alkali agents, (D) boric acid-base alkali agents, (E) amine-base alkali agents and (F) ammonium-base alkali agents and an alkylnaphthalene-base surfactant.例文帳に追加

（Ａ）リン酸系アルカリ剤、（Ｂ）ケイ酸系アルカリ剤、（Ｃ）炭酸系アルカリ剤、（Ｄ）硼酸系アルカリ剤、（Ｅ）アミン系アルカリ剤、および（Ｆ）アンモニウム系アルカリ剤より選択される少なくとも一種のアルカリ剤と、アルキルナフタレン系界面活性剤とを含むことを特徴とする現像液である。 - 特許庁

Then the insulating layer 4 is exposed to an exposure light beam 6 through a photomask 5, baking processing is carried out after the exposure, and then development is carried out for an arbitrary development time by using an arbitrary developing solution to form the insulating pattern which is sectioned in the forward tapered shape or trailing shape.例文帳に追加

その後、フォトマスク５を介して露光光線６により絶縁層４の露光を行い、露光後ベーク処理を施した後、任意の現像液と現像時間で現像することにより順テーパー形状または裾引き形状の断面形状を有する絶縁パターンを形成することができる。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin-containing specified silicon-containing repeating units and having solubility with respect to an alkali developing solution increased by the action of an acid, an acid generating agent which generates acid, when it is irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の混合溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a method for producing a planographic printing plate in which an alkali developing solution of a relatively low pH favorable to the environment and safety is used, a non-image area stably has good developability and is free of stain in printing and an image area is hardly damaged by development and ensures high image strength.例文帳に追加

環境、安全上好ましい比較的低ｐＨのアルカリ現像液を用い、安定的に、非画像部は良好な現像性を有し、印刷での汚れがなく、かつ画像部に対して現像でのダメージが少なく強固な画像強度が得られる平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemical amplification type negative type resist developable with an alkali developing solution having the conventional concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern in an ordinary line-and- space pattern (1L1S) and excellent also in focus latitude.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、通常のライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）において、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、かつフォーカス余裕度にも優れた化学増幅型ネガ型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Each of the positive type resist compositions contains (A) a resin which has repeating units with a specified structure and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition for a thermal flow pattern forming system contains (a) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (b) a resin or a mixture which is decomposed by the action of the acid to increase it solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（ｂ）酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂又は混合物、を含有することを特徴とするサーマルフローパターン形成方式用ポジ型感光性組成物。 - 特許庁

Since the photosensitive resin composition can be developed with only an aqueous alkali solution as a developing solution at a high developing speed, a good light-colored negative type pattern film having high sensitivity, high resolution and little reduction in film thickness can be formed while preventing coloration.例文帳に追加

このような感光性樹脂組成物によれば、アルカリ水溶液のみを現像液として用い、迅速な現像速度において現像でき、その結果、高感度および高解像度で、膜減りの少ない、良好なネガ型のパターンの皮膜を、着色を防止して淡色で形成することができる。 - 特許庁

Each of the positive type resist compositions contains (A) a resin which has at least three repeating units with specified separate structures and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し単位を少なくとも３種有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains: resin which contains a repeating unit derived from an isosorbide (meth)acrylate and of which the dissolving rate to an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and a compound which has a naphthalene skeleton and generates an acid by being irradiated with active rays or radiation.例文帳に追加

イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、ナフタレン骨格を有する特定の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性組成物。 - 特許庁

After the pattern exposure is performed by irradiating the resist film 11 with KrF excimer laser light 12 (the exposure light having the light component entering the resist film 11 at the Brewster angle) having the NA (numeric aperture) of 0.92, the resist pattern 14 is formed by the development with an alkaline developing solution.例文帳に追加

レジスト膜１１に対して、ＮＡが０．９２であるＫｒＦエキシマレーザ光１２（レジスト膜１１に対してブリュースター角で入射する光成分を有する露光光）を照射してパターン露光を行なった後、アルカリ性現像液により現像を行なって、レジストパターン１４を形成する。 - 特許庁

In a near IR sensitive positive type photosensitive composition with a recording layer containing a polymer soluble in an alkaline developing solution and a near IR absorbing dye, a near IR sensitive photosensitive layer having a higher alkali resistance than the recording layer is disposed as a top coat layer on the recording layer.例文帳に追加

アルカリ性現像液に可溶性のポリマーと近赤外線吸収染料を含有する記録層を有する近赤外線感応性ポジ型感光性組成物において、該記録層上に耐アルカリ性が該記録層より強い近赤外線感応性感光層を上塗り層として設ける。 - 特許庁

The resist composition contains: resin which contains a repeating unit derived from an isosorbide (meth)acrylate and of which the dissolving rate to an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and a specified sulfonium compound having an enone structure which generates an acid by being irradiated with active rays or radiation.例文帳に追加

イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生するエノン構造を有する特定のスルホニウム化合物を含有する感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a compound having a disulfone group, (B) a low molecular dissolution inhibiting compound which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and has a molecular weight of ≤3,000 and (C) an alkali-soluble resin.例文帳に追加

（Ａ）ジスルホン基を有する化合物、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する、分子量３０００以下の低分子溶解阻止化合物、及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする電子線又はＸ線用ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a developing solution having stable developing activity, excellent development accelerating property, developing particularly a photosensitive resin in a proper time, having excellent resolution and property of removing residue on development and having no adverse effect on the semiconductor characteristics of a semiconductor device such as TFT(thin film transistor).例文帳に追加

安定した現像活性を有し現像促進性に優れ、特に感光性樹脂を適切な時間で現像し、解像度および現像残渣の除去性に優れると共に、ＴＦＴ等の半導体素子の半導体特性に及ぼす悪影響がない現像液を提供する。 - 特許庁

The color developing solution for a silver halide color sensitive material used for the development treatment of a silver halide color sensitive material comprises: a compound expressed by the general formula (1); and a compound expressed by the general formula (2).例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー感光材料の現像処理に用いるハロゲン化銀カラー感光材料用発色現像液において、下記一般式（１）で表される化合物及び下記一般式（２）で表される化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー感光材料用発色現像液。 - 特許庁

To provide a liquid formulation agent for a photographic developing solution for a silver halide photosensitive material having a developing agent- containing part housed in a biodegradable container and not causing desensitization even in preservation and storage over a long period of time particularly in an environment at high temperature and high humidity.例文帳に追加

現像主薬を含むパートが生分解性の容器内に収納されており、しかも長期間にわたる、とりわけ高温多湿環境下の保存・保管中においても、減感を引き起こさないハロゲン化銀感光材料用の写真現像液用液体調合処理剤を提供すること。 - 特許庁

To provide development processing equipment and a development processing method, in which processing efficiency is improved by enabling continuous processing even when a plurality of kinds of developing solutions are used, development processing is equalized and a substrate having high quality can be obtained by reducing the residue of the developing solution.例文帳に追加

複数種の現像液を用いた場合においても連続的な処理を可能として処理効率を高め、また、現像処理を均一化し、現像液の残渣の低減せしめて高品質な基板を得ることを可能とする現像処理装置および現像処理方法を提供する。 - 特許庁

As the developing solution 20d reaches the bottom and near the bottom of the aperture 10w, the second resist layer 17 in the region from a part on the pad electrode 12 to the dicing line DL is reliably removed to reliably expose a part of the second insulating film 16.例文帳に追加

ここで、現像液２０ｄが開口部１０ｗの底部及びその近傍に行き渡り、当該底部のパッド電極１２の一部上からダイシングラインＤＬに至る領域の第２のレジスト層１７が確実に除去されて、第２の絶縁膜１６の一部が確実に露出される。 - 特許庁

To provide a developing solution for a photosensitive lithographic printing plate and a method for engraving the photosensitive lithographic printing plate by which sludge accumulated in a development vessel is reduced to reduce load on cleaning operations and dirt adhesion to a plate material and film wear of a photosensitive layer of an image part after development is reduced.例文帳に追加

現像槽にたまるスラッジヘドロを低減し清掃作業の負担、版材の汚れ付着を減らし、更に、現像後の画像部感光層の膜減りを低減する感光性平版印刷版用現像液および感光性平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁

To provide a circulation type developing device with an ultrafiltration unit used for color filter production wherein the confirmation of the precision in a developing solution density measuring instrument can be performed, a load on an calibration operation is reduced, quality faults caused by measurement displacement and variations are not generated, and cost can be reduced.例文帳に追加

カラーフィルタ製造に用いられる限外濾過ユニットを備えた循環式現像装置において、現像液濃度測定器の精度確認ができ、校正作業負荷を減じ、測定ズレ・バラツキによる品質不具合が生じず、コスト軽減が可能な現像装置を提供する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a resin having a group which is decomposed by the action of an acid to increase the solubility in an alkali developing solution and a compound which generates an aromatic sulfonic acid replaced with a group containing at least one fluorine atom when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、少なくとも１つフッ素原子を含有する基で置換された芳香族スルホン酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a photosensitive planographic printing plate developable with an aqueous alkali developing solution, having superior wear resistance, high wear resistance and superior chemical resistance, high plate durability even when printing with UV ink (ultraviolet-curing ink) is carried out without carryin out a burning processing and excellent in aging stability.例文帳に追加

水性アルカリ現像液で現像ができ、耐摩耗性が優れ、かつ耐刷力の大きく、また耐薬品性に優れ、バーニング処理を行う事なくＵＶインク（紫外線硬化インク）を用いた印刷を行っても耐刷力の大きく、さらに経時安定性に優れた感光性平版印刷版を提供する。 - 特許庁

The original plate for the printing plate having a photosensitive layer comprising a photopolymerizable composition containing (i) a crosslinker having two ethylenic polymerizable groups and (ii) a crosslinker having three or more ethylenic polymerizable groups is exposed and developed with an alkali developing solution of ≤pH 12.5.例文帳に追加

（ｉ）エチレン性重合性基を２個有する架橋剤、および（ii）エチレン性重合性基を３個以上有する架橋剤を含有する光重合性組成物からなる感光層を有する印刷版用原版を、露光後、ｐＨ１２．５以下のアルカリ現像液で現像処理することを特徴とする。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin having a specified alicyclic structure in the principal chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）特定の脂環式構造を主鎖に有し、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin including a specified repeating unit having a fluorine atom and a polycyclic structure and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を有し多環構造をもつ特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁