「"developing-solution"」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a water treating method by which clogging of a dipped membrane or clogging of a reverse osmosis membrane when performing treatment by the reverse osmosis membrane at a latter stage does not rapidly occur and water treatment or water recovery of waste developing solution-containing raw water can be stably performed in water treatment by a dipped membrane activated sludge treatment.例文帳に追加

浸漬膜活性汚泥処理による水処理において、浸漬膜の目詰まり、また後段でＲＯ膜による処理を行う場合はＲＯ膜の目詰まりが急激に生じず、現像廃液含有原水の水処理、または水回収を安定して行うことができる水処理方法を提供する。 - 特許庁

In a method for making a planographic printing plate, a planographic printing plate precursor having an image forming layer on a support having a hydrophilic surface in which a hydrophilic graft polymer chain exists is imagewise exposed and developed with an alkaline developing solution containing at least one nonreducing sugar and an alkali metallic salt.例文帳に追加

親水性グラフトポリマー鎖が存在する親水性表面を有する支持体上に、画像形成層を有する平版印刷版用原版を、画像露光後、少なくとも一種の非還元糖アルカリ金属塩を含有するアルカリ性現像液を用いて現像処理することを含む平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

The concentrated developing solution for the radiation-sensitive composition is made of (A) an alkaline metal carbonate, (B) an alkaline metal hydrogen carbonate, (C) a surface active agent component made of at least one of a polyalkylene oxide adduct of cumylphenol and a polyalkylene oxide adduct of phenylethyl group substitution phenol, (D) a specific solubilizing agent component, and (E) water.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ金属炭酸塩、（Ｂ）アルカリ金属炭酸水素塩、（Ｃ）クミルフェノールのポリアルキレンオキサイド付加物又はフェニルエチル基置換フェノールのポリアルキレンオキサイド付加物の少なくとも１種からなる界面活性剤成分、（Ｄ）特定の可溶化剤成分及び（Ｅ）水からなる感放射線性組成物用濃縮現像液。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for a circuit layer-to- layer adhesive developable with an aqueous developing solution using no organic solvent, excellent in various characteristics necessary for the insulating layer of a multilayer wiring board, e.g. adhesion to a substrate and having particularly superior heat resistance and to provide a high reliability printed wiring board using the composition.例文帳に追加

有機溶剤を使用しない水系の現像液で現像が可能で、基材への密着性など多層配線板の絶縁層に必要とされる諸特性に優れ、且つ、特に優れた耐熱性を持つ、回路層間接着剤用感光性樹脂組成物、及びそれを用いた信頼性の高いプリント配線板を提供する。 - 特許庁

A fresh developing solution is applied on the plate surface of a planographic printing plate utilizing a silver complex salt diffusion transfer process obtained by disposing a silver halide emulsion layer of a high silver density emulsion containing ≤70 wt.% binder based on the amount (expressed in terms of silver nitrate) of silver halide and a protective layer on an anodically oxidized aluminum substrate.例文帳に追加

陽極酸化されたアルミニウム支持体上に硝酸銀に換算したハロゲン化銀に対して７０重量％以下のバインダーからなる高銀密度乳剤のハロゲン化銀乳剤層および又は保護層を設けた銀錯塩拡散転写法を利用する平版印刷版の版面上に新鮮な現像液を塗布する。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a compound which generates a specified aromatic sulfonic acid upon irradiation with an active ray or radiation and (B) a resin which has repeating units containing a specified group and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、特定の芳香族スルホン酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の基を含有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

To provide a polymer for forming an overlay film on a photoresist without causing intermixing with the photoresist film, and for forming an overlay film that keeps a stable film without inducing elution into a medium on liquid immersion exposure, that induces no deterioration of a pattern figure when the film is subjected not to liquid immersion exposure but to dry exposure, and that is easily dissolved in an alkali developing solution.例文帳に追加

フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material and a processing method improved in adhesion of dirt to the film due to the film peeling of a film edge and micro-stripping of a film edge in processing at a line speed of an automatic processing machine of ≥1,500 mm/min or with a developing solution which does not substantially cause hardening.例文帳に追加

自動現像機のラインスピードが１５００ｍｍ／ｍｉｎ．以上、もしくは、実質的に現像硬膜がない現像液で処理する際に、フィルムエッジの膜剥がれや、フィルムエッジの微少剥離による、フィルムの汚れ付着が改善されたハロゲン化銀写真感光材料及び処理方法を提供する。 - 特許庁

In the method for making a planographic printing plate, a photopolymerizable photosensitive planographic printing plate provided on a surface-roughened and anodically oxidized aluminum support is exposed, water-washed, processed with the developing solution, water- washed again and coated with a desensitization treatment agent comprising a) gum arabic and b) modified starch.例文帳に追加

粗面化、及び陽極酸化処理を施したアルミニウム支持体上に設けた光重合型感光性平版印刷版を、露光後、水洗処理し、上記現像液で処理し、再び水洗した後、ａ）アラビアゴム及びｂ）加工デンプンを含有する不感脂化処理剤を塗設することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

The developing solution for a silver halide photographic sensitive material contains dihydroxybenzene, 0.23-0.58 mol carbonate based on 1 mol dihydroxybenzene, 0.15-0.30 mol gelatin hardening agent based on 1 mol dihydroxybenzene, a sulfite and a benzenecarboxylic acid of formula (1), saccharides, linear tricarboxylic acids or amino acids and does not substantially contain a boron compound.例文帳に追加

ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシベンゼン１モルあたり０．２３〜０．５８モルの炭酸塩と０．１５〜０．３０モルのゼラチン硬化剤、亜硫酸塩、及び下記一般式（１）で表されるベンゼンカルボン酸、糖類、直鎖トリカルボン酸類、又はアミノ酸類を含有し、ホウ素化合物を実質的に含有しないハロゲン化銀写真感光材料用現像液。 - 特許庁

The positive type resist composition has (A) a recurring unit derived from specific vinyl ether and a recurring unit derived from specific acrylamide, a resin which is increased in solubility in an alkaline developing solution by the effect of an acid and (B) a compound which generates the acid by irradiation of the resin with an active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定のビニルエーテルに由来する繰り返し単位と特定のアクリルアミドに由来する繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A first processing section 30 for applying a developing solution to a photographic film F, a first image reading section 40 for reading the distributed density of silver from the developed photographic film F and a second processing section 50 for spraying a bleaching solution while controlling the amount of the solution according to the distributed density of silver are arranged on a traveling route of the photographic film F.例文帳に追加

写真フィルムＦの搬送経路上に、写真フィルムＦに現像液を塗布する第１処理部３０、現像処理された写真フィルムＦから銀の分布密度を読み取る第１画像読取部４０、銀の分布密度に応じて漂白液の量を制御しつつ噴霧する第２処理部５０を配設する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a resin having a group which is decomposed by the action of an acid and increases solubility in an alkali developing solution and a compound which generates an aliphatic or aromatic carboxylic acid substituted by at least one fluorine atom when irradiated with active light or radiation ray.例文帳に追加

酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、少なくとも１つのフッ素原子で置換された脂肪族あるいは芳香族のカルボン酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains: resin (A) capable of increasing the solubility with an alkali developing solution by an action of an acid; and resin (C) having at least either a fluorine atom or a silicon atom and containing repeating unit (c) having at least two polarity conversion groups.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）、及び、少なくとも２つ以上の極性変換基を有する繰り返し単位（ｃ）を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂（Ｃ）を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and at least one acetal compound represented by a specified structure.例文帳に追加

脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の構造で表されるアセタール化合物のうち少なくとも１種、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains a base component (A) whose solubility with respect to an alkali developing solution changes by an action of an acid, and an acid generator component (B) generating an acid by exposure.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises a resin having a specified alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, and a specified fluorine-containing compound having no carboxyl group.例文帳に追加

特定の脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、特定のフッ素原子を含有し、カルボキシル基を有しない化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

This positive resist composition contains a substrate component (A) where solubility to an alkali developing solution is increased by the action of an acid, and an acid generator component (B) for generating an acid by exposure.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、前記基材成分（Ａ）は、一般式（ａ０−１）で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin having solubility in an alkali developing solution increased when decomposed by the action of the acid and a compound represented by a specified structure.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び特定の構造で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition is characterized in containing (A) a specified sulfonium salt compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation and (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定のスルホニウム塩化合物及び（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin containing specified two repeating units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid having an alicyclic hydrocarbon group in a side chain and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の２種の繰り返し単位を含有し、脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) an Si- containing resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation, (C) an ammonium salt which is not degraded by irradiation with energy beams for exposure and (D) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）珪素原子を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）露光用のエネルギー線の照射により分解しないアンモニウム塩、及び（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a developing solution for preventing residue of a color photosensitive composition on a substrate and a black matrix, preventing uneven development within the surface of a large substrate, in a developing step for a color photosensitive composition layer applied on a substrate, and to provide an image forming method with good productivity, and a color filter preventing generation of residues.例文帳に追加

基板上に塗設された着色感光性組成物層の現像工程において、基板上、およびブラックマトリックス上に着色感光性組成物の残渣がなく、また大型基板でも面内での現像ムラがない現像液を提供し、生産性の良好な画像形成方法、残渣発生の少ないカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developing solution which can form a sharp and bright image without causing a defect in the image part, which can show certain performances even when a photosensitive layer component is dissolved, and which can suppress production of development sludge caused by the image recording layer component, and to provide a platemaking method for a lithographic printing plate.例文帳に追加

画像部に欠陥を与えることなく、高鮮鋭で鮮明な画像を形成し得、且つ感光層成分が溶け込んでも、一定の性能を発揮することができ、画像記録層成分に起因する現像カスの発生を抑えることができるアルカリ現像処理液、及び平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁

Even when a wide PS plate having 13,000 mm width is processed, foaming at the brushing position on the surface of the PS plate in the downstream side of the brush roller due to absorption of the developing solution by the bristles of the brush roller can be surely prevented without decreasing the developing property of the PS plate.例文帳に追加

これにより、幅寸法が１３０００ｍｍの広幅のＰＳ版であっても、このＰＳ版の現像性を損ねることなく、ブラシローラの毛材が現像液を吸い込むことにより、ブラシローラの下流側でＰＳ版の表面が露出して、ブラッシング位置で発泡が生じてしまうのを確実に防止することができる。 - 特許庁

To provide a processing method for a black-and-white silver halide photographic sensitive material by which the residual color of a spectrally sensitized black-and-white silver halide photographic sensitive material containing a sensitizing dye can be reduced when the silver halide photographic sensitive material is developed with a hydroquinone-free developing solution.例文帳に追加

増感色素を含有する分光増感された黒白ハロゲン化銀写真感光材料をハロドロキノンを使用しない現像液で現像処理するに際して、ハロゲン化銀写真感光材料の残色を少なくすることができる黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a developing solution composition applicable to a negative type image forming material capable of direct recording from digital data of a computer or the like by recording using a laser, excellent in image forming property and not causing the lowering of developing performance with age due to characteristics of a developer and to provide an image forming method.例文帳に追加

レーザを用いて記録することにより、コンピュータ等のデジタルデータから直接記録可能なネガ型画像形成材料に適用し得る、画像形成性に優れ、現像剤の特性に起因する経時的な現像性の低下を生じない現像液組成物および画像形成方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) resin containing a repeating unit derived from isosorbide (meth)acrylate and having a solubility rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) an aromatic-group-free sulfonium salt compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（１）（Ａ）イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、芳香族基を有さないスルホニウム塩化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a method for replenishing a developer in an automatic developing apparatus for a photosensitive planographic printing plate by which the sensitivity of a developing solution containing a development inhibitor is controlled to be constant against changes in a process amount while a developing unit of an automatic developing apparatus has a simple and inexpensive structure in a replenishing system based on conductivity.例文帳に追加

電導度基準補充方式において、自動現像装置の現像部を簡易で安価な構成としながら、現像抑制剤を含有する処理量の変動に対する現像液感度を一定にする、感光性平版印刷版用自動現像装置の現像補充方法を提供する。 - 特許庁

To reduce the amount of the wastes to be discharged and the cost of energy as well in treating the waste liquid containing a combustible organic solvent, such as isopropyl alcohol, used in rinsing, etc., of a resist peeling liquid discharged from a semiconductor manufacturing process step and the waste developing solution of a water system used for development of the resist.例文帳に追加

半導体製造工程から排出される、レジスト剥離液のリンス等に使用されたイソプロピルアルコール等の可燃性有機溶媒を含む廃液、及びレジストの現像に用いられた水系の現像廃液の処理にあたり、廃棄物の排出量を低減させるとともに、エネルギーコストも低減させる。 - 特許庁

The quantity of exposure (exposure energy to a sufficiently large opening pattern) at exposure of a photoresist by the use of the photomask 5 is more than four times and less than twenty times of the exposure quantity at the boundary, in which the photoresist reaches insolubility from solubility to a developing solution by exposure, or the exposure quantity at the boundary in which the photoresist reaches solubility from insolubility.例文帳に追加

このフォトマスク５を用いてフォトレジストを露光する際の露光量（十分大きい開口パターンへの露光エネルギ）は、露光によりフォトレジストが現像液に対して溶解性から不溶解性になる境界の露光量または不溶解性から溶解性になる境界の露光量の４倍以上２０倍以下である。 - 特許庁

A plating equipment comprises a developing/cleaning part 100 for developing an already exposed resist layer formed on a substrate 138 and for washing a developing solution with a cleaning liquid, and a plating part 50 for plating the surface of a substrate 138 by dipping it into a plating liquid 62, on which the cleaning liquid is retained without drying after cleaning.例文帳に追加

基板１３８上に形成された露光済みのレジスト層を現像し、現像液を洗浄液で洗浄する現像／洗浄部１００と、洗浄後に洗浄液を乾燥させずに保持した状態の基板１３８表面をめっき液６２に浸漬してめっきするめっき部５０とを有するように構成する。 - 特許庁

To provide an easy image evaluation method for determining the platemaking conditions of a positive lithographic printing original plate for IR laser light for direct platemaking, in particular, for easily judging the activity state of a developing solution, and to provide a quality control method for keeping the quality of the lithographic printing plate constant by using the evaluation result as feedback to the exposing/developing process.例文帳に追加

ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版の製版条件、特に、現像液の活性状態を容易に判定する簡易な画像評価方法及び、その結果を露光／現像工程にフィードバックして、平版印刷版の品質を一定に保つための品質管理方法とを提供する。 - 特許庁

Alternatively, in the method for manufacturing a conducting material using a silver salt photosensitive material including at least one silver halide emulsion layer on a support as a conducting material precursor, the silver salt photosensitive material is developed with a silver-containing developing solution.例文帳に追加

もしくは支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を含有する銀塩感光材料を導電性材料前駆体として使用する導電性材料の製造方法において、該銀塩感光材料を銀含有現像液で現像処理することを特徴とする導電性材料の製造方法を用いる。 - 特許庁

A first layer containing a water-insoluble and alkaline water-soluble polymer and a second layer containing a crosslinkable or polymerizable compound and having solubility in an alkali developing solution reduced by the formation of covalent bonds under the action of light or heat are successively disposed on a base to obtain the objective original plate.例文帳に追加

支持体上に、水不溶性、且つ、アルカリ水可溶性の高分子を含有する第１の層と、架橋性或いは重合性化合物を含有し、光又は熱の作用により共有結合を形成し、アルカリ現像液に対する溶解性が低下する第２の層と、を順次設けてなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a fluoropolymer expressing properties including low dielectric property and high transparency while maintaining high fluorine content and holding high adhesiveness for attaining its high solubility to an aqueous alkaline solution used as developing solution and an organic solvent, its high adhesiveness to a substrate and high film formability.例文帳に追加

低誘電性、高透明性を有し、かつ現像液として使用されるアルカリ水溶液および有機溶媒への高溶解性、基板への高密着性、高製膜性を達成するため、高いフッ素含有量を維持および密着性を保持しつつ、低誘電性や高透明性などの特性を発現する含フッ素重合体を提供する。 - 特許庁

The positive type silicon-containing photosensitive composition contains (a) a polysiloxane or polysilsesquioxane having a group decomposable by a carboxylic acid and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of the acid, (b) a compound which generates the carboxylic acid when irradiated with active light or radiation and (d) a solvent.例文帳に追加

（ａ）酸により分解しうる基を有し、かつアルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する性質のあるポリシロキサン又はポリシルセスキオキサン、（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物、（ｄ）溶媒とを含有することを特徴とするポジ型シリコン含有感光性組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a resin containing specified repeating units such as repeating units each with a norbornene structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with an active light or radiation.例文帳に追加

ノルボルネン構造を有する繰り返し単位等の特定の繰り返し単位等を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has a repeating unit of a specified norbornane structure having a hetero atom in the side chain and of which the solubility to an alkaline developing solution increases by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖にヘテロ原子を有する特定のノルボルナン構造をもった繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a quality control method for keeping the quality of a planographic printing plate to be constant and for continuously forming a uniform image, by easily deciding the platemaking conditions of a negative planographic printing original plate for IR laser for direct platemaking, in particular, deciding the state of a developing solution and back feeding the result to exposure/development steps.例文帳に追加

ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ネガ型平版印刷版原版の製版条件、特に、現像液の状態を容易に判定し、その結果を露光／現像工程にフィードバックすることで、平版印刷版の品質を一定に保ち、均一な画像を連続的に形成するための品質管理方法を提供する。 - 特許庁

A resist composition contains a base component (A) whose solubility to a developing solution is changed by the action of an acid and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, and the base component (A) contains a high molecular compound (A1) having a structural unit (a5) represented by a general formula (a5-1).例文帳に追加

酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）として、一般式（ａ５−１）で表される構成単位（ａ５）を有する高分子化合物（Ａ１）を含むレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and (C) a compound of a specified formula.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性であり、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる樹脂、並びに（Ｃ）特定の化学式で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition is characterised by containing: (A) a resin which has at least one kind of repeating unit having at least two groups of specified structures and which increases the solubility with an alkaline developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の基を少なくとも２つ有する繰り返し単位を少なくとも１種類有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）特定構造の、活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A resist 104 on an aluminum pad 102 formed on a semiconductor substrate 100 is patterned to expose the pad 102 by using a resist developing solution containing at least one kind of compound selected from a group consisting of triazole, benzimidazole, benzothiazole, thiadiazole and derivatives of these.例文帳に追加

トリアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、チアジアゾール、およびこれらの誘導体よりなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含むレジスト現像液を用いて、半導体基板１００上に形成されたアルミニウムのパッド１０２上のレジスト１０４を所定形状にパターニングし、パッド１０２を露出させる。 - 特許庁

The amine compound-containing developing solution is preferably a primary amine compound such as polyallylamine, monomethanolamine or monoethanolamine, a secondary amine compound such as dimethylamine, diethylamine, dimethanolamine or diethanolamine, a tertiary amine compound such as trimethylamine, tryethylamine, trimethanolamine or triethanolamine, or a quaternary amine compound such as tetramethylamine hydroxide.例文帳に追加

アミン化合物含有現像液は、ポリアリルアミン、モノメタノールアミン、モノエタノールアミン等の第１級アミン化合物、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジメタノールアミン、ジエタノールアミン等の第２級アミン化合物、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリメタノールアミン、トリエタノールアミン等の第３級アミン化合物、水酸化テトラメチルアミン等の第４級アミン化合物が好ましい。 - 特許庁