| 例文 |
"pattern- less"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 10件
(3) The entire lower surface of the mounted flip chip 1 is pattern-less.例文帳に追加
実装するフリップチップの下全面をパターンレスとした半導体実装用回路基板。 - 特許庁
PATTERN-LESS COLORED WALL SURFACE MATERIAL AND ITS MANUFACTURE, AND DOTTED PATTERN COLORED WALL SURFACE MATERIAL例文帳に追加
無模様着色壁面材とその製造方法、及び斑点模様着色 壁面材 - 特許庁
To efficiently and precisely form a magnetization pattern less in defect in a short time on a magnetic recording medium without damaging the medium and a mask and to provide a magnetic recording medium and a magnetic recording device which are capable of high density recording in a short time and at low costs.例文帳に追加
効率よく精度よく、しかも媒体やマスクを傷つけることなく欠陥発生の少ない磁化パターンを、短時間で磁気記録媒体に形成する。 - 特許庁
To accurately detect a specific pattern less apt to interfere with vision by identifying the pixel which cannot be identified by a paper fiber as the specific pattern pixel from the result identifying the paper fiber from the specific color pixel.例文帳に追加
特定の色画素の中から紙繊維を識別した結果より、紙繊維が識別できない画素を特定パターン画素として識別することで、視覚の邪魔になり難い特定パターンを精度良く検出する。 - 特許庁
To provide a resist material with excellent linearity capable of forming a fine resist pattern less than 2.0 μm in a low NA condition with NA less than 0.2, suitably used for system LCD manufacturing.例文帳に追加
ＮＡが０．２以下のような、システムＬＣＤの製造に好適に使用される低ＮＡ条件下でも、２．０μｍ以下の微細なレジストパターンを形成可能であるようなリニアリティに優れたレジスト材料を提供すること。 - 特許庁
To provide a positive photoresist composition having sufficiently high sensitivity and resolving power in the production of a semiconductor device and in the formation of a contact hole pattern, less liable to produce particles in a resist solution and excellent in dependency on density.例文帳に追加
半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少なく、疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a back-face substrate for a PDP and its forming method which by forming partition walls and electrodes on a glass substrate in pattern- less manner, even if the size of the substrate has changed at the time of its baking, no-malfunction occurs and the manufacturing cost can be reduced.例文帳に追加
パターンレスで隔壁と電極をガラス基板上に形成することにより、焼成時に基板が寸法変化しても何の不都合も生じることがなく、製造コストを低減できるＰＤＰ用背面基板及びその成形方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can easily form a contact connected to a pattern of a processing film on an upper layer of the pattern of the processing film serving as a line-and-space pattern less than an exposure resolution limit of the photolithography method.例文帳に追加
フォトリソグラフィ法の露光解像限界未満のラインアンドスペースパターンとなる被加工膜のパターンの上層に、その被加工膜のパターンと接続するコンタクトを容易に形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive copper paste having high adhesive strength to a substrate, capable of forming a fine thick copper pattern, less liable to gel and excellent in shelf stability and to provide a copper pattern forming method, a circuit board and a ceramic multilayer substrate each using the paste.例文帳に追加
基板との密着力が高く、微細かつ膜厚の大きい銅パターンを形成することが可能で、しかもゲル化が生じにくく、保存安定性に優れた感光性銅ペースト、それを用いた銅パターンの形成方法、回路基板、及びセラミック多層基板を提供する。 - 特許庁
Further, the diffusion reflection plate is manufactured by using a photomask 32 prepared by combining a region of pattern of size of resolution limit or more, a region of pattern less than resolution limit and a region having no pattern and, thereby, the liquid crystal display device can be manufactured with a few processes, at a good yield and at a low cost.例文帳に追加
また、この拡散反射板を、解像限界以上のサイズのパターンの領域と解像限界未満のパターンの領域とパターンのない領域とを組み合わせたフォトマスク３２を用いて作製することにより、少ない工程で歩留まり良く安価に作製できるようにする。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
検索履歴を保存できる！
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
