| 例文 (999件) |
きえきちの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1710件
２００重量ｐｐｍ〜２重量％のアスファルテンおよび／または１０重量ｐｐｍ超の金属を有する炭化水素原料を、少なくとも２つの切り替え可能な反応帯域Ｍ１，Ｍ２であって、水素化脱金属触媒および場合による水素化脱窒触媒を含む反応帯域において水素化脱金属処理し、次いで、有機窒素含有量を低下させる水素化精製処理、その後の固定床水素化分解処理および蒸留工程を経て軽油留分を回収する。例文帳に追加
The method for hydrocracking the hydrocarbon feedstock containing asphaltenes of 200 ppm by weight to 2 wt.% and/or metals of >10 ppm by weight comprises the steps of: hydrodemetallation treatment in at least two switchable reaction zones M1, M2 containing a hydrodemetallation catalyst and optionally a hydrodenitrification catalyst; then hydrorefining treatment to lower the organic nitrogen content; fixed-bed hydrocracking treatment; and distillation to recover a gas oil fraction. - 特許庁
本発明の親水性被膜形成用塗布液は、アルコキシシランの部分加水分解生成物と、ジルコニウムアルコキシドの部分加水分解生成物と、アルコールとを含有し、この親水性被膜形成用塗布液中の珪素（Ｓｉ）をＳｉＯ_２に、ジルコニウム（Ｚｒ）をＺｒＯ_２にそれぞれ換算した場合の、これらＳｉＯ_２及びＺｒＯ_２の合計量に対する前記ＳｉＯ_２の重量百分率は、３０重量％以上かつ７０重量％以下であることを特徴とする。例文帳に追加
The coating fluid for forming a hydrophilic film comprises a partial hydrolyzate of an alkoxysilane, a partial hydrolyzate of a zirconium alkoxide, and an alcohol and, based on the sum of silicon (Si) in terms of SiO_2 and zirconium (Zr) in terms of ZrO_2 in this coating fluid for forming a hydrophilic film, the weight percentage of the above SiO_2 is 30 to 70 weight%. - 特許庁
Ａ） 式（I）： -Ｘ-ＣＯ-ＮＲ^2-Ｙ-Ｓｉ-(Ｚ)_3 （I）〔式中、Ｘは、ＯおよびＮＲ^2から選ばれ、それぞれに存在するＲ^2は、独立に、Ｈ、Ｃ_1〜Ｃ_6アルキル、置換Ｃ_1〜Ｃ_6アルキル、シクロアルキル、アリールおよびベンジルから選ばれ、Ｙは、Ｃ_1〜Ｃ_8の直鎖および分枝アルキレンから選ばれ、それぞれに存在するＺは、独立に、１００℃未満でイソシアネート基に対して不活性である有機基から、少なくとも１つの基が１〜４個の炭素原子を有するアルコキシ基であることを条件として選ばれる。例文帳に追加
The invention relates to the polyurethane/urea comprising (A) at least one alkoxysilane group of formula (I): -X-CO-NR^2-Y-Si-(Z)_3 and (B) a hydrophilic moiety. - 特許庁
機能水(I)及び(II)より導入された塩素と、汚染物質とを空気に含有させた被処理気体に対して光照射手段からの光を照射することによって該汚染物質を分解する工程を有する汚染物質分解浄化方法において、分解処理後の空気をアルカリ性水溶液に接触させ、塩素含有アルカリ性水溶液とする工程と、該塩素含有アルカリ性水溶液及び前記塩素発生領域中の塩素発生用溶液からの機能水廃液の少なくとも一部を電気分解による機能水形成手段に供給して再生し、機能水(II)を得る再生工程と、を有することを特徴とする汚染物質分解浄化方法。例文帳に追加
This contaminated substance decomposition and purification method has a process which decomposes contaminated substances by irradiating the gas to be treated, which is made by incorporating air with chlorine introduced from functional water I, II and the contaminated substances, with light from a photoirradiation means. - 特許庁
光触媒物質、又はアミノ基を有する物質を含む組成物を吐出して選択的に光触媒物質、又はアミノ基を有する物質を形成し、光触媒物質、又はアミノ基を有する物質を、めっき触媒物質を含む溶液中に浸漬し、光触媒物質、又はアミノ基を有する物質にめっき触媒物質を吸着又は析出させ、めっき触媒物質を、金属材料を含むめっき液に浸漬し、めっき触媒物質を吸着又は析出させた光触媒物質又はアミノ基を有する物質表面に金属膜を形成し半導体装置を作製し、めっき触媒物質を含む溶液はｐＨを３以上６以下に調整して用いる。例文帳に追加
The pH of the solution containing the plating catalyst material is adjusted to be 3 or above, 6 or below. - 特許庁
０.４５・Ａ・Ｂ＜Ｈ＜１.１・Ａ・Ｂ （１） （但し式中、Ｈはアスペクト比を示し、Ａはレーザー回折散乱法で測定された全粒子の平均２次子粒径（μｍ）を示し、ＢはＢＥＴ法で測定された全粒子の平均比表面積（ｍ^2／ｇ）を示す。） 前記形状の水酸化マグネシウム粒子は、（１）塩化マグネシウムとアルカリ物質との反応、（２）酸化マグネシウムの水和反応または（３）水酸化マグネシウムの水熱処理において特定の酸またはその水可溶性塩を存在させることにより得られる。例文帳に追加
The magnesium hydroxide particles having the aforementioned form are obtd. by the (1) reaction of magnesium chloride and an alkali substance, (2) hydration reaction of magnesium oxide, or (3) hydrothermal treatment of magnesium hydroxide in the presence of an org. acid, boric acid, silicic acid or water-soluble salts of these. - 特許庁
少なくとも、水系溶液により洗浄を行う洗浄処理を施す円筒状基体の洗浄方法であって、前記水系溶液により洗浄を行う洗浄処理が、水系溶液中に前記円筒状基体を少なくとも１回浸漬する処理であり、前記水系溶液のうち、少なくとも最後に浸漬するための前記水系溶液が実質的にシリカを含有し、該シリカ濃度が３０ｍｇ／リットル以下であることを特徴とする円筒状基体の洗浄方法である。例文帳に追加
This invention relates to the cylindrical substrate cleaning method utilizing at least one aqueous solution for cleaning and is characterized by dipping the cylindrical substrate into the aqueous solution at least once, with at least the last dipping solution substantially containing silica at a concentration of 30 mg/l or less. - 特許庁
レゾルシン又はレゾルシン・ホルムアルデヒド初期縮合物と、特定のメラミン系化合物と、エポキシ・クレゾール・ノボラック樹脂と、ビニルピリジン−スチレン−ブタジエン系共重合体ゴムラテックスとを含んでなり、前記エポキシ・クレゾール・ノボラック樹脂の配合量が、上記ビニルピリジン−スチレン−ブタジエン系共重合体ゴムラテックスの固形分100質量部に対して15〜200質量部であることを特徴とする接着剤組成物。例文帳に追加
This adhesive composition is characterized by comprising a resorcinol or resorcinol-formaldehyde initial condensate, a specific melamine-based compound, an epoxy cresol novolak resin, and a vinylpyridine-styrene-butadiene copolymer rubber latex, wherein the epoxy cresol novolak resin is compounded in an amount of 15 to 200 pts.mass per 100 pts.mass of the solid content of the vinylpyridine-styrene-butadiene copolymer rubber latex. - 特許庁
硝酸ウラニルと増粘剤とを含有する重ウラン酸アンモニウム粒子製造用原液を、アンモニア水溶液を貯留するアンモニア水溶液貯槽に滴下して製造する重ウラン酸アンモニウム粒子の製造装置であって、前記アンモニア水溶液貯槽を円盤状に形成し、かつ前記円盤状に形成されたアンモニア水溶液貯槽の内部に、前記アンモニア水溶液中で形成される重ウラン酸アンモニウムの粗粒子が流通する螺線状移動用通路を設けて成ることを特徴とする重ウラン酸アンモニウム粒子の製造装置。例文帳に追加
In the apparatus for manufacturing ammonium diuranate particles by dropping a stock solution for manufacturing ammonium diuranate particles containing uranyl nitrate and a thickener into an aqueous ammonia solution storage tank which stores an aqueous ammonia solution, the aqueous ammonia solution storage tank is formed in a disk shape and a spiral transfer passage through which coarse particles of ammonium diuranate formed in the aqueous ammonia solution circulate is disposed in the aqueous ammonia solution storage tank formed in the disk shape. - 特許庁
装置本体１に形成した本体吸込み口４ａから本体吹出し口４ｂに向かう通風経路上に、熱交換器Ａを配置した空気調和装置において、上記熱交換器Ａは、これを通過する風速の速い高速区間（ニ）、風速の遅い低速区間（イ）及びそれら両風速の間の中速区間（ロ），（ハ）に冷媒流通路１３〜１５が互いに独立して形成されてなるとともに、上記低速区間（イ）の冷媒流通路１３の流出口と高速区間（ニ）の冷媒流通路１５の流入口との間に、その低速区間（イ）の冷媒流通路１３から流出した冷媒を高速区間（ニ）の冷媒流通路１５に流入させるためのバイパス流通路１８を配設している。例文帳に追加
Simultaneously, a bypass passage 18 for inpouring refrigerant flowing out of the refrigerant passage 13 of the low velocity section into the refrigerant passage 15 of the high velocity section is placed between an outlet of the refrigerant passage 13 in the low velocity section and an inlet of the refrigerant passage 15 in the high velocity section. - 特許庁
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