「げっこうじ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

高純度鉄およびその製造方法ならびに高純度鉄ターゲット例文帳に追加

HIGH PURITY IRON, ITS PRODUCTION METHOD AND HIGH PURITY IRON TARGET - 特許庁

非常に好条件で皆既月食を見られるそうです。例文帳に追加

It seems that we can see the total lunar eclipse in very favorable conditions. - 時事英語例文集

ボールト形状のターゲット及び高磁界マグネトロン例文帳に追加

VAULT SHAPED TARGET AND HIGH-FIELD MAGNETRON - 特許庁

高純度Ａｌターゲットおよび配線膜例文帳に追加

HIGH PURITY AL TARGET AND WIRING FILM - 特許庁

スパッタリングターゲットの効率を向上させる。例文帳に追加

To improve the efficiency of a sputtering target. - 特許庁

高純度Ｔａからなるスパッタリングターゲットである。例文帳に追加

A sputtering target composed of high purity Ta is used. - 特許庁

写真測量用ターゲットの携行性を向上する。例文帳に追加

To improve the portability of a target for photographing surveying. - 特許庁

スパッタリングターゲットは高純度Ｔａ材からなる。例文帳に追加

The sputtering target consists of a high-purity Ta material. - 特許庁

高純度Ｃｕからなるスパッタリングターゲットである。例文帳に追加

The sputtering target comprises highly pure Cu. - 特許庁

高純度ＳｒｘＢｉｙＴａ２Ｏ５＋ｘ＋３ｙ／２スパッタリングターゲット材例文帳に追加

HIGH PURITY SR(X)BI(Y)TA(2)O(5+X+3Y/2) SPUTTERING TARGET MATERIAL - 特許庁

高純度ニッケル、高純度ニッケルターゲット及び高純度ニッケル薄膜例文帳に追加

HIGH PURITY NICKEL, HIGH PURITY NICKEL TARGET, AND HIGH PURITY NICKEL THIN FILM - 特許庁

高純度酸化亜鉛粉末、高純度酸化亜鉛ターゲット及び高純度酸化亜鉛薄膜例文帳に追加

HIGH PURITY ZINC OXIDE POWDER, HIGH PURITY ZINC OXIDE TARGET AND HIGH PURITY ZINC OXIDE THIN FILM - 特許庁

高純度ルテニウムスパッタリングターゲットの製造方法及びそれにより得られたターゲット例文帳に追加

PRODUCTION METHOD FOR HIGH-PURITY RUTHENIUM SPUTTERING TARGET, AND TARGET OBTAINED THEREBY - 特許庁

冷却能力の向上を図ることが可能なターゲット及びターゲット装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a target and a target device capable of improving cooling capacity. - 特許庁

ゲッターの実装性を向上させ、ゲッターによる製品不良を減少する。例文帳に追加

To improve mountability of a getter to reduce defective products due to the getter. - 特許庁

高純度コバルトおよびその製造方法ならびに高純度コバルトターゲット例文帳に追加

HIGH-PURITY COBALT AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND HIGH-PURITY COBALT TARGET - 特許庁

高純度チタンビレットおよびその製造方法ならびに高純度チタンターゲットの製造方法例文帳に追加

HIGH PURITY TITANIUM BILLET, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING HIGH PURITY TITANIUM TARGET - 特許庁

高純度ルテニウムスパッタリングターゲットの製造方法及び高純度ルテニウムスパッタリングターゲット例文帳に追加

PRODUCTION OF HIGHLY PURE RUTHENIUM SPUTTERING TARGET AND HIGHLY PURE RUTHENIUM SPUTTERING TARGET - 特許庁

高純度タンタルの回収方法並びに高純度タンタルスパッタリングターゲット及び該スパッタリングターゲットにより形成された薄膜例文帳に追加

METHOD FOR RECOVERY OF HIGH-PURITY TANTALUM, HIGH-PURITY TANTALUM SPUTTERING TARGET, AND THIN FILM DEPOSITED BY USING THIS SPUTTERING TARGET - 特許庁

高純度ニッケル又はニッケル合金ターゲット及びその製造方法例文帳に追加

HIGH PURITY NICKEL OR NICKEL ALLOY TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREFOR - 特許庁

高純度アルミニウムあるいはその合金からなるスパッタリングターゲット例文帳に追加

SPUTTERING TARGET CONSISTING OF HIGH PURITY ALUMINUM OR ITS ALLOY - 特許庁

高純度ルテニウムスパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加

HIGH-PURITY RUTHENIUM SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD - 特許庁

高純度イリジウムスパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加

HIGH PURITY IRIDIUM SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREFOR - 特許庁

その結果、ターゲット３１の利用効率の向上を図ることができる。例文帳に追加

As a result, the efficiency of utilization of the target 31 can be improved. - 特許庁

高純度タンタルおよびそれを含む、スパッタターゲットのような製品例文帳に追加

HIGH-PURITY TANTALUM AND PRODUCT SUCH AS SPUTTERING TARGET CONTAINING THE SAME - 特許庁

高純度ルテニウムスパッタリングターゲットとその製造方法例文帳に追加

HIGH-PURITY RUTHENIUM SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

この結果として、ターゲット認識精度を向上することができる。例文帳に追加

As a result, the target recognition accuracy can be improved. - 特許庁

予測された行動に基づくターゲット化インセンティブの向上例文帳に追加

IMPROVEMENT OF TARGETED INCENTIVES BASED UPON PREDICTED BEHAVIOR - 特許庁

パーティクル発生の少ない高純度銅スパッタリングターゲット例文帳に追加

HIGH PURITY COPPER SPUTTERING TARGET GENERATING REDUCED PARTICLES - 特許庁

ターゲット層１２で発生した熱の冷却効率を向上させる。例文帳に追加

To improve the cooling efficiency of the heat that is generated in the target layer 12. - 特許庁

軸方向磁束型電動機で駆動されるＸ線管用アノードターゲット例文帳に追加

ANODE TARGET FOR X-RAY TUBE DRIVEN WITH AXIAL FLUX TYPE MOTOR - 特許庁

センサーにおけるターゲットのローカライゼーション向上方法例文帳に追加

METHOD FOR IMPROVING LOCALIZATION OF TARGET IN SENSOR - 特許庁

高純度形状記憶合金ターゲット及び同合金薄膜例文帳に追加

TARGET AND THIN FILM OF HIGH-PURITY SHAPE-MEMORY ALLOY - 特許庁

高純度形状記憶合金ターゲット及び同合金薄膜例文帳に追加

HIGH-PURITY SHAPE-MEMORY ALLOY TARGET AND HIGH-PURITY SHAPE-MEMORY ALLOY THIN-FILM - 特許庁

高純度金属、高純度金属からなるスパッタリングターゲット及びスパッタリングにより形成した薄膜並びに高純度金属の製造方法例文帳に追加

HIGH PURITY METAL, SPUTTERING TARGET CONSISTING OF HIGH PURITY METAL, THIN FILM FORMED BY SPUTTERING, AND METHOD FOR MANUFACTURING HIGH PURITY METAL - 特許庁

高純度Ｃｏ−Ｆｅ合金スパッタリングターゲット及び同スパッタリングターゲットを用いて形成した磁性薄膜並びに高純度Ｃｏ−Ｆｅ合金スパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加

HIGH PURITY Co-Fe ALLOY SPUTTERING TARGET, MAGNETIC THIN FILM DEPOSITED BY USING SAME SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME HIGH PURITY Co-Fe ALLOY SPUTTERING TARGET - 特許庁

スパッタリングターゲット１の裏面側を、シミュレーションによるターゲット寿命となったときの、前記ターゲット表面側の侵食形状に応じた形状とすることにより、ターゲット利用効率を大幅に向上させる。例文帳に追加

The efficiency of utilizing the target is considerably improved by forming a back side of the sputtering target 1 of a shape according to a shape of erosion on a face side of the target at the simulated target service life. - 特許庁

ターゲット物質の歩留りを向上させ、無駄なく簡単に薄膜を形成するためのターゲット物質含有液体の製造方法、ターゲット物質を含有する薄膜の形成方法、ターゲット物質含有液体を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a target substance-containing liquid, which improves the yield of a target substance to form a thin film laconically simply, a method of forming the thin film containing the target substance, and a target substance-containing liquid. - 特許庁

高純度バナジウムの製造方法、高純度バナジウム、同高純度バナジウムからなるスパッタリングターゲット及び該スパッタリングターゲットにより形成した薄膜例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING HIGH-PURITY VANADIUM, HIGH- PURITY VANADIUM, SPUTTERING TARGET COMPOSED OF THE HIGH- PURITY VANADIUM, AND THIN FILM DEPOSITED USING THE SPUTTERING TARGET - 特許庁

高純度金属の製造方法、高純度金属、同高純度金属からなるスパッタリングターゲット及び該スパッタリングターゲットにより形成した薄膜例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING HIGH-PURITY METAL, HIGH-PURITY METAL, SPUTTERING TARGET CONSISTING OF THIS HIGH-PURITY METAL AND THIN FILM FORMED BY THIS SPUTTERING TARGET - 特許庁

高純度Ｔａ、窒素を2at%以下の範囲で含有する高純度Ｔａ、および高純度ＴａＮから選ばれる少なくとも1種からなるスパッタリングターゲットであって、このターゲット構成材料中のＣｕ含有量を50ppm以下とする。例文帳に追加

The sputtering target is composed of at least either of high- purity Ta and high-purity TaN and contains high-purity Ta and N in amounts of ≤2 atomic %, and Cu content in the target-constituting material is regulated to ≤50 ppm. - 特許庁

高純度コバルトターゲットと銅合金製バッキングプレートとの拡散接合ターゲット組立体及びその製造方法例文帳に追加

DIFFUSEDLY JOINED TARGET ASSEMBLAGE OF HIGH PURITY COBALT TARGET WITH BACKING PLATE MADE OF COPPER ALLOY, AND ITS PRODUCTION METHOD - 特許庁

不均一なエロージョン進行を抑制し、ターゲットの利用効率を向上させるマグネトロンスパッタリング用ターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a target for magnetron sputtering in which the progress of ununiform erosion is suppressed, and whose utilization efficiency is improved. - 特許庁

ターゲットを均等にスパッタし、その使用効率を向上することにより、ターゲットの寿命を長くしたマグネトロンスパッタカソードを提供する。例文帳に追加

To provide a magnetron sputtering cathode by which target life can be prolonged by uniformly sputtering a target and improving its use efficiency. - 特許庁

ワークに対して均一な膜厚を得ると共に、ロッドターゲットの利用率を向上させて、ターゲットが無駄にならないようにする。例文帳に追加

To obtain a uniform film thickness to a work, to improve the utilization rate of a rod target, and to eliminate the waste of the target. - 特許庁