「げっこうじ」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

焼結温度が１４００°Ｃを超える領域においても、焼結体ターゲット、特にセラミックスターゲットの焼結に際して発生する反りを効果的に抑制し、また発生した反りを矯正することのでき、さらに製造歩留りを向上できる焼結方法及び焼結体の矯正方法並びに装置を提供する。例文帳に追加

To provide a sintering method capable of effectively suppressing the warpage arising in sintering of a sintered compact target, more particularly a ceramic target, even in a region where a sintering temperature exceeds 1,400°C and capable of straightening occurred warpage and improving the yield of manufacturing and to provide a method and apparatus for straightening the sintered compact. - 特許庁

DLC薄膜とターゲット基板との密着性を向上し、また、レーザーアブレーション法で問題となる溶融再凝固粒子（ドロップレット）や固体ターゲットのかけらなどの粗大粒子の混入によるなどによるDLC薄膜の品質低下の回避できるダイヤモンドライクカーボン薄膜の作製方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a diamond-like carbon thin film where adhesion between a DLC film and a target substrate is improved, and in which deterioration in the quality of the DLC thin film caused by the intrusion of melted resolidified particles (droplets) and coarse particles such as the fragments of a solid target which becomes a problem in a laser ablation process can be evaded. - 特許庁

さらに、開封履歴や売上げによって当選確率が変動する抽選会を携帯からアクセス可能なインターネット上で行うことで、ユーザの携帯メール開封率が向上し、結果として、ターゲットが絞れず、コストのかかるチラシ広告から、優良顧客にターゲットを絞ったメール広告によってコストダウンを図ることが可能となる。例文帳に追加

Furthermore, a lot drawing is held on the Internet accessible from the mobile phone, wherein the probability changes according to the open status or sales, thereby improving users' e-mail open rate and reducing the cost by shifting from a costly leaflet advertisement for everyone to e-mail advertisement only for trusted customers as a result. - 特許庁

ろう付け温度領域においても、ターゲット−バッキングプレート組立体に発生する反りを効果的に抑制し、また発生した反りを矯正しながら、ターゲット−バッキングプレート組立体とクーリングプレートの接合を行うことができ、製造歩留りと生産効率を向上できる接合方法及びそのための装置を提供する。例文帳に追加

To provide a joining method efficiently suppressing warping caused in a target-backing plate assembly and joining the target-backing plate assembly and a cooling plate while correcting the warping in a brazing temperature region and hence enhancing yield and efficiency of production, and also to provide a device used for the same. - 特許庁

レート変更条件は、使用者によるレート変更操作、レート変更指示の信号の受信、一方の方向からの所定値以上の音量状態、一方の方向からの特定のターゲット音声、一方の方向での画像の所定の動き状態、一方の方向での特定のターゲット画像、所定区域内（及び方位）の全部又は一部とする。例文帳に追加

The rate change conditions include all or some of rate change operation by the user, reception of a signal of a rate change indication, a sound volume state above a predetermined value from one direction, a specified target voice from one direction, a predetermined movement state of an image in one direction, a specified target image in one direction, and being in a predetermined area (and direction). - 特許庁

透明導電膜等を形成するために使用されるＩＸＯ（酸化インジウム−酸化亜鉛の複合酸化物）スパッタリングターゲットスクラップ又はＩＸＯスパッタリングターゲットの製造時に発生する研磨粉等のＩＸＯスクラップ中の不純物、特に亜鉛を効率良く除去し、高純度のインジウムを回収する。例文帳に追加

To remove impurities, particularly zinc in the scrap of an IXO (multiple oxide of indium oxide and zinc oxide) sputtering target used for depositing a transparent electroconductive film or the like or an IXO scrap such as abrasive powder generated at the time of producing an IXO sputtering target with high efficiency, and to recover indium having high purity. - 特許庁

ソフトウェアの実行時間を統計的に推定する推定方法は、ベンチマークプログラムのセットに基づいて、ターゲットプロセッサのモデルを準備するステップと、推定されるソフトウェアとベンチマークプログラムとを相関させるステップと、相関されたソフトウェアをモデルに適用し、ソフトウェアの実行時間の推定値を判定するステップとを有する。例文帳に追加

A method for statistically estimating software execution times is implemented by preparing a model of a target processor based on a set of benchmark programs, correlating the software to be estimated to the benchmark programs, applying the correlated software to the model and determining the estimated values of software execution times. - 特許庁

１００μｓｅｃ以下のパルス幅で出力されたレーザにより表面処理を施すことにより、研削等の加工時に生じるバリや研削粉、さらにはちりやゴミが昇華等することにより除去されるためか、ターゲットの使い始めに生じる初期アークを著しく低減することができ、初期安定性を向上させることができる。例文帳に追加

Burr and abrasive dust occurring at working such as grinding and further dust and particles may be removed by sublimation, or the like, by the application of surface treatment using a laser outputted at ≤100 μsec pulse width, initial arcing occurring at the beginning of use of the target can be remarkably reduced and initial stability can be improved. - 特許庁

高強度鋼板をスポット溶接して形成させた溶接継手の疲労強度を向上させる方法において、溶接時の電極先端での面圧、通電終了後の電極保持時間、ナゲット径を規定してスポット溶接を行うことを特徴とする高強度鋼板スポット溶接継手の疲労強度向上方法。例文帳に追加

In the method for enhancing the fatigue strength of the welded joint formed by spot welding the high strength steel sheet, the spot welding is carried out specifying bearing pressure at the forward end of electrode when welding, electrode holding time after finishing power supply, and the diameter of nugget. - 特許庁

軸受装置１１０は、回転軸８２の軸方向において配設された前側フォイル軸受６０及び後側フォイル軸受７０を有するラジアル方向軸受３７と、回転軸８２の外周面８２ａに設けられたターゲット部２４に対向してアキシャル方向の支持をなす磁気軸受５０を有するアキシャル方向軸受５１とを備える。例文帳に追加

The bearing device 110 comprises a radial direction bearing 37 having a front side foil bearing 60 and a rear side foil bearing 70 arranged in the axial direction of a rotary shaft 82, and an axial direction bearing 51 having a magnetic bearing 50 performing the support in the axial direction opposite to a target part 24 provided on an outer circumferential surface 82a of the rotary shaft 82. - 特許庁

本発明の方法は、光触媒アパタイトを含む、スパッタリング用のターゲットを作製するためのターゲット作製工程Ｓ２１と、ターゲットを用いたスパッタリング法により、基材に対して光触媒アパタイトを成膜するためのスパッタリング工程Ｓ２２と、基材に成膜された光触媒アパタイトの光触媒活性が向上するように当該光触媒アパタイトを焼成するための焼成工程Ｓ２３とを含む。例文帳に追加

The method of the present invention comprises a target production step S21 for producing a target for sputtering, which contains photocatalytic apatite, a sputtering step S22 for forming a photocatalytic apatite film on a substrate by a sputtering method using the target, and a burning step S23 for burning the photocatalytic apatite so as to improve the photocatalytic activity of the photocatalytic apatite film formed on the substrate. - 特許庁

「名前と場所」ページで、作成する NetBeans プロジェクトの新しい名前と場所を定義し、 「次へ」をクリックします。 「デフォルトプラットフォームの選択」ページで、プロジェクト実行時にターゲットデバイスのエミュレートに使用する、プラットフォームエミュレータを選択します。例文帳に追加

Use the Platform Selection page to select the platform emulator that will be used to emulate the target device when the project is executed. - NetBeans

貧困問題の解決には、経済成長を通じた１人当たり所得の向上ばかりでなく、貧困層をターゲットとした教育、保健・医療の充実や、ソーシャルセーフティネットの整備等、開発における社会的側面をより重視していくことが大切です。例文帳に追加

To win the fight against poverty, an increase in per capita income through economic growth is of course essential. What's equally essential is to pay greater attention to the social aspect of development. This includes the provision of better education, better health services, and better medical care for those who live in poverty; and an improvement in the social safety net.  - 財務省

スパッタリング法によるインジウムと亜鉛を含む酸化物の透明導電膜の製造方法であって、酸化インジウムと酸化亜鉛を主成分とするターゲットの表面の平行磁場強度を４００Ｏｅ（エルステッド）未満に保持してスパッタすることを特徴とする透明導電膜の製造方法。例文帳に追加

The method for producing the transparent electroconductive film of an oxide containing indium and zinc by using a sputtering technique includes sputtering the target containing indium oxide and zinc oxide as main components while keeping the magnetic field in parallel to the target surface in a strength lower than 400 Oe (oersted). - 特許庁

オートクルーズ制御実行時にレーンチェンジを行った時に、レーンチェンジ前にロックしていてレーンチェンジ後には隣レーンを走行するようになった先行車両を、オートクルーズ用ターゲットとしてロックしないようにする。例文帳に追加

To prevent locking of a vehicle traveling ahead which is locked before a lane change and traveling on the next lane after the lane change as a target for an auto-cruise, when changing a lane at auto-cruise control performing time. - 特許庁

上記目的を達成するために、発熱抵抗体としてＴａＳｉＮ，ＴａＢＮについて検討した結果、これら材料を反応性スパッタリングで形成する時に、ターゲットを各粉末から焼結で作成し、かつその酸素濃度が１１００ｐｐｍ以下にすることで耐久特性が向上した発熱抵抗体が得られることがわかった。例文帳に追加

The heating resistor having improved durability characteristics can be obtained by investigating target materials of TaSiN and TaBN as a heat element from powder by sintering in molding the materials by reactive sputtering and making their oxygen density of 1,100 ppm or lower. - 特許庁

配線抵抗が小さく、エレクトロマイグレーション耐性や耐酸化性に優れ、さらには膜組成均質性と膜厚均質性に優れた配線膜を形成することが可能であるような高純度銅合金スパッタリングターゲットと薄膜形成装置部品を提供する。例文帳に追加

To provide a highly pure copper alloy sputtering target capable of forming a wiring film which has small wiring resistance, resistances to electro- migration and oxidation and excellent film compositional uniformity and film thickness uniformity, and to provide parts used in an apparatus for forming the thin film. - 特許庁

スパッタリングターゲットあるいは導電ペースト材料等に有用な高純度タングステン粉末を製造する際のＣＶＤ原料ガスや半導体製造用のＣＶＤ原料ガスとして使用されている六フッ化タングステンの精製法を提供するものである。例文帳に追加

To provide a method of refining tangsten hexafluoride used for a CVD raw material gas for manufacturing a high purity tangsten powder useful for a spattering target or a conductive paste material or the CVD raw material gas for manufacturing semiconductor material. - 特許庁

スパッタリングのターゲットとして用いられた場合に、スパッタリング装置内に水分等が含まれるのを抑制することにより、ＤＬＣ膜の諸特性を飛躍的に向上させることができる金属‐炭素複合材料を提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide a metal-carbon composite material capable of considerably improving various characteristics of a DLC film by controlling the inclusion of moisture etc. in a sputtering device when used as a sputtering target. - 特許庁

DNA断片を曲面に固定化することにより、隣接するDNA断片間の絡み合いを抑制することができ、結果として長鎖のDNA断片を固定化した場合であってもDNA断片と核酸ターゲットとのハイブリダゼーション効率を向上できる。例文帳に追加

Entanglement between the adjacent DNA fragments can be restrained by fixing the DNA fragment to the curved surface, and as a result, even when fixing the DNA fragment of the long chain, the hybridization efficiency of the DNA fragment and the nucleic acid target can be improved. - 特許庁

中心磁極と外周磁極の間に中間磁極を配置した磁気発生機構を備え、スパッタリングターゲットの局所的な侵食を低減させ、使用効率を大幅に向上させたマグネトロンスパッタリングカソードを提供する。例文帳に追加

To provide a magnetron sputtering cathode, which includes a magnetism generating mechanism, in which an intermediate magnetic pole is arranged between a center magnetic pole and an outer peripheral magnetic pole, and reduces local erosion of a sputtering target and largely improves usage efficiency. - 特許庁

濾過、洗浄性が良好で、かつ、蛍光体原料や、ターゲット用原料、透明導電膜や透明導電性を有する単結晶基板材料として好適な不純物含量の低い、粒子径の小さい高純度酸化ガリウムを提供することにある。例文帳に追加

To provide high purity gallium oxide which is good in filterability and cleanliness, has a low content of impurities and small particle diameters, and is suitable as raw materials for a fluorescent material and a target, and as a transparent conductive film and a single crystal substrate material having transparency and conductivity. - 特許庁

粒子の目詰まりを防止することにより、ターゲットからの粒子が容易に基板に到達でき、粒子の選択性を容易に向上でき、かつ長尺材への均一な薄膜の形成が可能な長尺の薄膜線材の製造方法および製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method of producing a long-length wire rod by which particles from a target can easily arrive at a substrate by preventing the clogging of the particles, the selectivity of the particles can easily be improved, and a uniform thin film can easily be formed on a long-length material, and to provide a production system therefor. - 特許庁

炭素当量が高い、あるいは板厚が厚い高強度鋼板をスポット溶接する際に、加圧力を高くせずに、鋼板間に適正な大きさ（径）のナゲットを形成させ、安定して継手強度を向上させるための高強度鋼板のスポット溶接方法を提供する。例文帳に追加

To provide a spot welding method for a high-strength steel sheet, by which a joint strength is stably improved by forming a nugget of a proper size (diameter) between steel sheets without increasing a weld pressure force, in spot-welding a high carbon equivalent or a thick high-strength steel sheet. - 特許庁

陽極ターゲットが発生する熱の放出特性を向上させることができ、真空外囲器を回転させるための回転駆動パワーを低減させることが可能な回転陽極型Ｘ線管装置及び回転陽極型Ｘ線管装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a rotary anode type X-ray tube device and a method for manufacturing the same, which enable the improvement of the radiation property of heat generated by an anode target, and the reduction in a rotation-driving power for rotating a vacuum envelope. - 特許庁

プラズマ化したターゲットから高速で集光ミラーに衝突するデブリや、集光ミラーに付着するようなデブリを効率よく回収することにより、チャンバ内の集光ミラーを含む光学機器の耐久性を向上させ、チャンバの真空度を維持し、ＥＵＶ光の出力低下を抑制する。例文帳に追加

To improve the durability of an optical equipment including a condensing mirror in the chamber, maintain the degree of vacuum of the chamber, and suppress output degradation of the EUV light by efficiently recovering the debris colliding with the condensing mirror by high speed from the plasmized target and the debris adhering to the condensing mirror. - 特許庁

ＭＯＸペレットを用いる高速炉用の核燃料要素において、照射中に生じる余剰酸素吸収のための酸素ゲッター部材を被覆管内で適切に配置することによって、高速炉ＭＯＸ燃料の寿命延伸と高速炉サイクルの経済性の向上を図る。例文帳に追加

To provide a nuclear fuel element for a fast reactor using MOX pellets which extends a life of MOX fuel for the fast reactor and improves economical efficiency of a fast reactor cycle by properly arranging an oxygen getter member for absorbing excess oxygen generated during irradiation in a cladding tube. - 特許庁

電球用ゲッターとしての作用を果たし電球の品質が高められる他、組立て部品点数の削減をして作業性の向上がはかれる電球用導入線およびこの導入線を用いた白熱電球を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a lead-in wire for a light bulb, which fulfills an action as a getter for the light bulb and in which the quality of light bulb is enhanced and in which an improvement of workability can be aimed at by reducing the number of assembling parts, and provide an incandescent electric lamp which uses this lead-in wire. - 特許庁

代謝・消失速度が非常に速く、重篤な副作用の危険も大きい生理活性物質の薬効向上を図るため、生体への安全性が高い乳化型キャリア（運搬体）を使って標的細胞組織部位にターゲッティングできる新しい製剤を開発する。例文帳に追加

To develop a new pharmaceutical preparation capable of targeting to a target cell tissue part by using an emulsion type carrier (transporter) having high safety to living bodies in order to improve pharmacodynamic effects of a physiologically active substance having extremely rapid metabolism/loss rate and large risk of serious side effect. - 特許庁

素子形成領域５の直下に金属不純物のゲッターサイトを設けることができるので、極薄化が要求されるデバイスにおいて、金属不純物汚染によるデバイスの特性や信頼性の劣化を抑えることができ、デバイスの歩留り安定、向上が図ることができる。例文帳に追加

In a device wherein thinning is required very much, the degradation of the characteristics of the device or reliability caused by metal impurities contamination can be suppressed, since a gettering site of metal impurities can be arranged directly under the element formation region 5 so that yield stability and improvement of a device can be attained. - 特許庁

検査波長域での分光透過率特性を改善し、ハーフトーン型位相シフトマスクの検査時にガラス基板とのコントラストを向上させ、導電性を高めることができるスパッタリングターゲットを提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a sputtering target for improving the spectral transmittance characteristics of a deposited film in an inspection wavelength region, increasing the contrast of a halftone phase shift mask with respect to a glass substrate on the inspection of the mask, and increasing the conductivity of the target. - 特許庁

発光特性のばらつきが小さい均一な薄膜の成膜により、高品質および高輝度の発光層を備える無機ＥＬ素子を製造可能とし、さらに、加工時やスパッタリング時に、割れが生じにくい、チオアルミネートを成分とするＢａＡｌ_2Ｓ_4系のスパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a BaAl_2S_4-based sputtering target containing thioaluminate as a component, which is used for manufacturing an inorganic electroluminescent device provided with a luminescent layer of high quality and high brightness by forming a uniform thin film having a narrow range of variation in luminescent properties, and further causes little cracking when machined or sputtered. - 特許庁

Ｃｕに、Ａｇが、０．３〜１０．０重量％含有されたＣｕＡｇ合金に、耐食性向上材料として、例えばＴｉであれば０．０１〜５．０重量％含有されてなる合金を薄膜形成用スパッタリングターゲット材とし、これにより薄膜を作製する。例文帳に追加

An alloy obtained by incorporating a CuAg alloy obtained by incorporating, by weight, 0.3 to 10.0% Ag into Cu, e.g. with Ti of 0.01 to 5.0% as a corrosion resistance improving material is used as a sputtering material for thin film deposition, and a thin film is produced thereby. - 特許庁

積層薄膜を構成する物質の相互拡散に起因する汚染物質の抑制、及びスパッタリングによる成膜に際しては、異常放電現象やパーテイクルを極力制限することができるターゲット等に使用できる高純度チタン及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To produce high purity titanium used for a target or the like capable of suppressing contaminated materials caused by the mutual diffusion of materials composing a laminated thin film, and of limiting an abnormal discharging phenomenon and particles as much as possible in the case of film formation by sputtering and to provide a method for producing it. - 特許庁

そして、ターゲット近傍におけるスパッタ粒子が増加して、スパッタの効率を向上するため基板表面における成膜速度を高めることができ、且つ、基板近傍へのプラズマの拡散を抑止することにより、基板温度の上昇を最小限に抑えることが可能となる。例文帳に追加

Furthermore, a film formation rate on a surface of the substrate is raised due to an improvement of the sputtering efficiency resulting from an increase of sputtering particles around the target, and the rise of the substrate temperature can be controlled in minimum due to the inhibition of plasma scattering toward the vicinity of the substrate. - 特許庁

本発明は、１台の加速器が出力する荷電粒子ビームを、複数のターゲットに照射するように構成し、ＢＮＣＴによるがん治療や、ＰＥＴ用薬剤に用いられるＲＩの製造等に効率よく利用し、採算性の向上が図れる加速器利用システムを提供することを課題にする。例文帳に追加

To provide a system using an accelerator capable of enhancing its payability, by structuring it so as to irradiate a charged particle beam output from one accelerator to a plurality of targets, and by efficiently using it for medical treatment of cancer by BNCT and manufacture of RI used in medicine for PET. - 特許庁

低い体積抵抗率を有し、もって光電変換効率の向上に寄与する（Ｚｎ，Ａｌ）Ｏ系透明電極層を構成層とする太陽電池および前記（Ｚｎ，Ａｌ）Ｏ系透明電極層の形成に用いられるＺｎＯ−Ａｌ_２Ｏ_３系スパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a solar cell having a constituent layer of a (Zn, Al)O-based transparent electrode layer, having a high volume resistivity and thus contributing to the improvement of the efficiency of photoelectric conversion: and to provide a ZnO-Al_2O_3-based sputtering target for use in forming the (Zn, Al)O-based transparent electrode layer. - 特許庁

純度が５Ｎ（９９．９９９％）、好ましくは６Ｎ（９９．９９９９％）以上（ガス成分を除く）で、平均結晶粒径が２５０（超）〜５０００μｍであることを特徴とするパーティクル発生の少ない高純度銅スパッタリングターゲット。例文帳に追加

The high purity copper sputtering target has a purity of 5N (99.999%) or ≥6N (99.9999%) (excluding gas component), and average grain size of more than 250 to 5000 μm. - 特許庁

光学薄膜に好適なＮｂ酸化膜をスパッタ成膜するにあたって、Ｎｂ酸化膜の成膜速度を向上させることによって、Ｎｂ酸化膜ひいては光学薄膜等の生産効率を高めることを可能にしたスパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target with which the production efficiency of an Nb oxide film and eventually an optical thin film etc., can be enhanced by improving the deposition rate of the Nb oxide film when the Nb oxide film appropriate for the optical thin film is deposited by sputtering. - 特許庁

ＤＲＡＭやＦＲＡＭに搭載される薄膜キャパシタの電極形成などに用いられるＲｕまたはＲｕ合金からなるスパッタリングターゲットにおいて、Ｒｕ膜やＲｕ合金膜の膜厚分布や膜質の均一性を高めると共に、下地に対する付着力を向上させる。例文帳に追加

To improve a uniformity of a film thickness distribution and film quality of an Ru film or an Ru alloy film and an adhering force to a base material, at a sputtering target made from Ru or a Ru alloy used for formation of an electrode of a thin-film capacitor mounted on a DRAM or a FRAM. - 特許庁

パーティクルの発生等に起因する基板への異物堆積を抑制し、またスパッタリング成膜速度を一定かつ高速に維持して製品歩留りを向上させ、光ディスクの誘電体保護膜の作成に好適なターゲットを得る。例文帳に追加

To suppress the deposition of foreign matter due to, e.g. formation of particles onto a substrate, to improve product yield by maintaining sputtering deposition rate at fixed and high rate, and to obtain a target suitable for production of a dielectric protective film of an optical disk. - 特許庁

スパッタ時に発生するパーティクルやノジュールを低減し、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができ、かつ結晶粒が微細であり高密度を備えた硫化亜鉛−ケイ酸化物を主成分とする相変化型光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲットを得る。例文帳に追加

To provide a phase-change type optical disk protection film-forming sputtering target which reduces particles and nodules occurring at sputtering, can improve a mass-productivity with reduced variations in quality, and mainly contains zinc sulfide-silicon oxide having fine crystal grains and a high density. - 特許庁

トレースメモリの使用効率を向上させ、低速のトレースメモリにターゲット・システムから供給されるトレースデータをリアルタイムで記憶し、高速なＣＰＵからもリアルタイムでプログラム検査に必要なトレースデータ等を得る。例文帳に追加

To obtain trace data, etc., needed for program check in real time even from a high-speed CPU by improving the use efficiency of a trace memory and storing trace data supplied from a target system in a low-speed trace memory in real time. - 特許庁

Ｇｒｏｗｎ−ｉｎ欠陥の無欠陥化や、高いゲッタリング効果を備え、かつ、デバイス活性領域におけるＢＭＤの析出を防止することができ、更に、デバイス活性領域の熱的強度を向上させることができるシリコンウェーハが提供される。例文帳に追加

To provide a silicon wafer that is made free from a Grown-in defect, has high gettering effect, prevents BMD from being deposited in a device active region, and is improved in thermal strength of the device active region. - 特許庁

偏向磁界形成手段51の対の磁極54を、真空外囲器15の外側で、反跳電子捕獲構造体39を介在しかつ真空外囲器15内のフィラメント32から発生する電子が陽極ターゲット27へ移動する軌道に対向する位置に配置する。例文帳に追加

A pair of magnetic poles 54 of a deflection magnetic field forming means 51 are arranged at the outside of a vacuum housing 15 and at positions opposed to a trajectory in which the electrons generated from a filament 32 in the vacuum housing 15 move to an anode target 27, interposing a recoil electron capture structure 39. - 特許庁