「げっこうじ」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

ＦｅＲＡＭやＤＲＡＭなどに使用されるＴｉ−Ａｌ−Ｎ膜などの成膜用のＴｉ−Ａｌ合金ターゲットにおいて、不純物量の低減を図った上で、ターゲットの製造歩留りを高めると共に、膜品質の向上などを図る。例文帳に追加

To increase a manufacturing yield of a Ti-Al alloy target for forming a film such as a Ti-Al-N film used for FeRAM (Ferroelectrics Random Access Memory) or DRAM, besides reducing an amount of the impurities, and to enhance the film quality. - 特許庁

高純度ＺｎＯターゲットをスパッタリング法によりサファイア基板上にエピタキシャル成長させ高抵抗のＺｎＯ膜を得、さらにＡｓをイオン注入法でドーピング、または、ドーパントを混ぜたターゲットを用いて成長させる低抵抗のＰ型２−６族化合物半導体膜を得る。例文帳に追加

The filter is manufactured, such that a high-purity ZnO target is epitaxially grown on a sapphire substrate, using the sputtering method to obtain a high-resistance ZnO film, which is further grown by doping As using the ion implantation technique or using a dopant-mixed target to obtain a low-resistance P-type 2-6 group compound semiconductor film. - 特許庁

エロージョン部のノジュール発生を抑制すると同時に、スパッタリング中にＩＴＯターゲット上の非エロージョン部に付着した付着物質の剥離を防止することによって、製品の歩留まりを向上させるＩＴＯスパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide an ITO(indium tin oxide) sputtering target capable of improving product yield by inhibiting the occurrence of nodules in an erosion region and simultaneously preventing the peeling of sticking matter adhering to a non-erosion region on an ITO target during sputtering. - 特許庁

移動式の磁石ユニットをターゲットの背面に配置したタイプのマグネトロンカソードにおいて、ターゲット表面の中央を平坦にして外周部を内側に向かって傾斜させることにより、基板上の膜厚分布を向上させると共に、カソードからのパーティクルの発生を防ぐ。例文帳に追加

To improve the distribution of the thickness of a film on a substrate and to prevent the generation of particles from a cathode, in a magnetron cathode of a type in which a moving type magnet unit is arranged on the back side of a target, by making the center of the surface of the target flat and inclining the outer circumferential part toward the inside. - 特許庁

カソードの大型化をせずに、ターゲット面に平行になる磁力線の領域を広くし、ターゲットの利用効率の向上、高効率に高い均一性をもって高速に成膜できるスパッタリングカソード及びスパッタリング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering cathode in which the region of a magnetic flux parallel to the face of a target is widen without increasing its scale, the utilizing effeiciency of the target is improved, and film formation can be executed at a high speed with high efficiency and high uniformity and to provide a sputtering system. - 特許庁

セラミツクターゲットを用いてスパッタリング法により薄膜を成膜するにあたり、スパッタリング電力を増加させても、上記ターゲットに亀裂が入りにくく、成膜速度の増大による薄膜の生産性の向上を容易にはかれる薄膜の成膜方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method of thin film deposition, by which a target is hardly cracked even if sputtering voltage is increased and the improvement of the productivity of a thin film is easily attained by increasing the film deposition speed in the thin film deposition by a sputtering method using a ceramic target. - 特許庁

そして、ターゲットに対して垂直方向の磁場が多く透過しようとする第１部分１６ａでは厚さを薄くして、透過を許し、ターゲットのエロージョン面近傍の第２部分１６ｂで平行磁場の生成を促そうとするものである。例文帳に追加

The thickness of the first part is reduced to permit transmission in the first part 16a in which the magnetic field in the perpendicular direction is much transmitted through the target, and generation of the parallel magnetic field is promoted in the second part 16b in the vicinity of an erosion surface of the target. - 特許庁

再結晶化や熔接の際にクラックが発生せず、しかも半導体メモリーのキャパシタ用電極などを形成する成膜時において膜厚分布が大きくなることを抑えることができる高純度ルテニウムスパッタリングターゲットの製造方法及びそれにより得られたターゲットの提供。例文帳に追加

To provide a method for producing a high-purity ruthenium sputtering target which does not allow cracks to occur in recrystallization or in welding and suppresses the film thickness distribution from becoming large in film formation for forming e.g. an electrode for a capacitor of a semiconductor memory, and to provide a target obtained thereby. - 特許庁

そして、シャフト１２１と液体窒素供給パイプ１３１との隙間Ｓから液体窒素のベーパガスを取り出して、配管１４４とパイプ１８５の間に導き、さらにジャケット１７１内に導いて、ターゲットガスを冷却し、ターゲット材の付着効率を向上させる。例文帳に追加

Then vapor gas of liquid nitrogen is taken out of a gap S in between the shaft 121 and the liquid nitrogen supply pipe 131, introduced in between the pipe 144 and the pipe 185, and to the jacket inside 171, cools the target gas and improves the adhesion efficeincy of the target member. - 特許庁

垂直磁気記録媒体に用いられる軟磁性膜形成用のＦｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材の機械加工性を向上させるとともに、軟磁性膜を安定してスパッタリング可能なＦｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材を提供する。例文帳に追加

To provide an Fe-Co alloy sputtering target material by which machinability of an Fe-Co alloy sputtering target material for deposition of soft magnetic films used for a perpendicular magnetic recording medium can be improved and sputtering of the soft magnetic films can be stably done. - 特許庁

プラズマをターゲット表面の広範囲に発生させることが可能な磁場形状を実現し、ターゲット材料の利用効率を向上させ、ダストや異常放電を抑制することを可能とするマグネトロンスパッタ装置、および当該装置を用いたスパッタリング方法を提供する。例文帳に追加

To provide a magnetron sputtering apparatus which realizes such a magnetic field shape as to enable plasma to be generated in a wide region over the surface of a target, enhances a use efficiency of a target material, and can inhibit dust and abnormal electrical discharge, and to provide a sputtering method using the apparatus. - 特許庁

一方、ダイアグ検出頻度が向上していない場合、または、低下原因を確定した後、ターゲットの条件を次の順番の条件に変更した後、再び、指定したターゲットの条件を非適用として対象センサのダイアグ検出を実行する（ステップ105、106）。例文帳に追加

Meanwhile, when the frequency in diagnostic detection does not improve, after the cause for the decrease has been established, or after the target condition is changed into condition of the next turn, with the condition of the designated target as non-applicable, the diagnostic detection of the target sensor is again executed (steps 105 and 106). - 特許庁

クラックを発生させずに大型化でき、しかも半導体メモリーのキャパシタ用電極等を形成する製膜時にパーティクルの発生を抑えることができる高純度ルテニウムスパッタリングターゲットの製造方法及びスパッタリングターゲットの提供。例文帳に追加

To provide a method of producing a high purity ruthenium sputtering target which can be made large without generating cracks, and in which the generation of particles can be suppressed on film deposition where, e.g., an electrode for the capacitor of a semiconductor memory is formed, and to provide a sputtering target. - 特許庁

スパッタリングターゲットを熔解法によって大型化する際にクラックを発生させず、しかも半導体メモリーのキャパシタ用電極等を形成するための製膜時にパーティクルの発生を抑えることができる高純度ルテニウムスパッタリングターゲットとその製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a high-purity ruthenium sputtering target which does not produce a crack when the sputtering target is upsized with a melting method, and inhibits formation of particles during formation of a film for forming a capacitor electrode or the like in a semiconductor memory, and to provide a manufacturing method therefor. - 特許庁

高強度鋼板をスポット溶接して形成させた溶接継手の引張強さを向上させる方法において、溶接継手の両面または片面から、ナゲット形成部とナゲット形成部周囲の両方または片方に超音波衝撃処理を施すことを特徴とする超音波衝撃処理によるスポット溶接継手の引張強さ向上方法。例文帳に追加

In the method for enhancing the tensile strength of the welded joint formed by spot welding the high strength steel sheet, ultrasonic shock treatment is applied to one or both of a nugget portion and a portion around the nugget from both surface or one surface of the welded joint. - 特許庁

また、本発明の高純度Ｗスパッタリングターゲットの製造方法は、高純度Ｗ粉末を加圧焼結後、得られた焼結体をターゲット形状に加工後、ロータリー研磨およびポリッシングの少なくとも１種の研磨を施し、さらにエッチングおよび逆スパッタリングの少なくとも１種の研磨を施すことにより仕上げ加工することを特徴とする。例文帳に追加

In the method for manufacturing the high-purity tungsten sputtering target, after pressure-sintering high-purity tungsten powder, the obtained sintered compact is processed into a target shape, and then at least one kind of polishing out of rotary polishing and polishing is performed, and finish processing is carried out by performing at least one of polishing out of etching and reverse sputtering. - 特許庁

また、本発明の高純度Ｗスパッタリングターゲットの製造方法は、高純度Ｗ粉末を加圧焼結後、得られた焼結体をターゲット形状に加工後、ロータリー研磨およびポリッシングの少なくとも１種の研磨を施し、さらにエッチングおよび逆スパッタリングの少なくとも１種の研磨を施すことにより仕上げ加工することを特徴とする。例文帳に追加

In this method for manufacturing the high-purity W sputtering target, high-purity W powder is pressed and sintered and the resultant sintered compact is machined into target shape and is then subjected to grinding consisting of at least either of rotary grinding and polishing and further to polishing consisting of at least either of etching and inverse sputtering to undergo finishing. - 特許庁

５Ｎ（９９．９９９ｗｔ％）レベル以上の均一な鍛造組織を有する高純度ルテニウムスパッタリングターゲットを得、さらに３Ｎ（９９．９ｗｔ％）レベルの比較的低純度のルテニウム粉末を使用して５レベル以上の均一な鍛造組織を有する高純度ルテニウムスパッタリングターゲットを簡便にかつ安定して製造する方法を得る。例文帳に追加

To provide a high-purity ruthenium sputtering target with a uniform forged structure of 5N (99.999 wt.%) or higher purity, and in addition, a method for easily and stably manufacturing the above target by employing ruthenium powder of comparatively low purity like 3N (99.9 wt.%). - 特許庁

また、本発明の高純度Ｗスパッタリングターゲットの製造方法は、高純度Ｗ粉末を加圧焼結後、得られた焼結体をターゲット形状に加工後、ロータリー研磨およびポリッシングの少なくとも１種の研磨を施し、さらにエッチングおよび逆スパッタリングの少なくとも１種の研磨を施すことにより仕上げ加工することを特徴とする。例文帳に追加

The method for production of a high-purity W sputtering target includes: pressing and sintering high-purity W powders; machining the resultant sintered compact into a target shape; applying grinding of at least either of rotary grinding or polishing; and further polishing by at least either of etching or reverse sputtering to finish off. - 特許庁

金属板（高強度鋼板）をスポット溶接して形成させた溶接継手の疲労強度を向上させる方法において、溶接継手の両面または片面から、ナゲット形成部とナゲット形成部周囲の両方または片方に超音波衝撃処理を施すことを特徴とする超音波衝撃処理によるスポット溶接継手の疲労強度向上方法。例文帳に追加

In the method for enhancing the fatigue strength of the welded joint formed by spot welding the metal sheet (the high strength steel sheet), ultrasonic shock treatment is applied to one or both of a nugget portion and a portion around the nugget from both surface or one surface of the welded joint. - 特許庁

底部13と、底部13より立設した周壁15とを有するラゲッジトレイ12Ｌ，12Ｒを備え、複数のラゲッジトレイ12Ｌ，12Ｒを車両１の荷室２に隣接して並べたから、使用するラゲッジトレイ12Ｌ，12Ｒを選択して積載物を小分けに収納するなど用途に応じて使い分けることができ、利用者の利便性を向上できる。例文帳に追加

Since the plurality of the luggage trays 12L, 12R each having a bottom part 13 and a peripheral wall 15 erected from the bottom part 13 and are arranged adjacently to the luggage compartment 2 of the vehicle 1, the storage device is used in accordance with the applications such that a loading object is subdivided and stored by selecting the luggage to be used and the user's convenience is improved. - 特許庁

純度が９９．９９９％以上の高純度銅基材から形成されるスパッタリングターゲットの製造方法であり、ターゲットの酸素含有量を１０ｐｐｍ以下とし、硫黄含有量を１ｐｐｍ以下とし、鉄含有量を１ｐｐｍ以下とすることを特徴とするスパッタリングターゲットの製造方法である。例文帳に追加

The method of manufacturing the sputtering target formed of a high-purity base material having the purity of 99.999% or higher, wherein the content of oxygen is 10 ppm or lower, the content of sulfur is 1 ppm or lower and the content of iron is 1 ppm or lower in the target. - 特許庁

微細結晶粒を備え９７％以上の高密度を有する相変化型光記録媒体保護膜形成用ターゲットを安定して低コストで製造できるようにするとともに、該ターゲットの色むら等の変色を防止又は抑制することにより製品歩留りを上げ、かつ該ターゲットを用いてスパッタリングすることによって光記録媒体の品質を向上させる。例文帳に追加

To stably produce a target for depositing a phase transition type optical recording medium protective film provided with fine crystal grains, and having a high density of ≥97% at a low cost, and to increase a product yield by preventing or suppressing discoloration such as color irregularity in the target, and to improve the quality of the optical recording medium by performing sputtering using the target. - 特許庁

高純度チタンターゲットであって、添加成分として、Ａｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｃｌ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ａｓ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｂ、Ｌａから選択される１種以上の元素を合計３〜１００質量ｐｐｍ含有し、添加成分とガス成分を除き、ターゲットの純度が９９．９９質量％以上であることを特徴とするスパッタリング用チタンターゲット。例文帳に追加

The high-quality titanium target contains as additional components, at least one element selected from Al, Si, S, Cl, Cr, Fe, Ni, As, Zr, Sn, Sb, B and La in 3-100 ppm by mass in total, and the purity of the target excluding the additional components and gas component is ≥99.99 mass%. - 特許庁

二十三夜待ちまでを行う地域が多くを占めたが、二十六夜待ちまで行う地域があり、月光に阿弥陀仏・観音菩薩・勢至菩薩の三尊が現れる（広辞苑より）、という口実を付けて月が昇る（大体、深夜二時ごろ）まで遊興にふけった。例文帳に追加

Most regions would have the moon-waiting until the twenty-third night, but some had it until the twenty-sixth night, and people pursued pleasure until the moon rose (around two o'clock in the morning) on the excuse that three deities--Amida Buddha, Kannon Bodhisattva and Seishi Bodhisattva--would appear in the moonlight (from the Japanese dictionary "Kojien").  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

ルテニウム切削屑又は端材等のスクラップから高純度ルテニウムを容易にリサイクルする方法を確立し、さらにこのようにして得られた高純度ルテニウムから特性に優れたスパッタリングターゲットを安価に製造する方法を得る。例文帳に追加

To provide a method for easily recycling high purity ruthenium from the scrap of ruthenium cut chips, mills ends or the like, and to inexpensively produce a sputtering target which has excellent properties from the high purity ruthenium obtained in this method. - 特許庁

そして、半導体レーザー１１のＯＮ時間とＯＦＦ時間との比に対する積分された蛍光の変化カーブに、蛍光寿命をパラメータに含むターゲット関数をフィッテングさせることにより、コンピュータ１０が蛍光寿命を算出する。例文帳に追加

Then, the computer 10 calculates the fluorescent lifetime by fitting a target function including the fluorescent lifetime as a parameter to a change curve of the integrated fluorescence relative to the ratio between the ON time and the OFF time of the semiconductor laser 11. - 特許庁

設計データはレシピ抽出システム１５０に取り込まれ、該レシピ抽出システム１５０は、ターゲット構造のインスタンスを認識し、これに応じてレシピパラメータを構成し、これにより、マニュアルでの機器セットアップ時間を減少させ、検査/測定の精度を向上させ、製造効率を向上させる。例文帳に追加

Design data is imported into a recipe extraction system 150, and the recipe extraction system 150 recognizes instances of target structures and configures recipe parameters accordingly, thereby reducing manual instrument setup time, improving inspection/measurement accuracy, and improving fabrication efficiency. - 特許庁

ゲッターの吸着性能を向上させて真空容器の真空度を高め、電子放出素子の電子放出効率と寿命を向上させることができる発光装置、及び、この発光装置を光源として使用する表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide a light-emitting device which improves the absorption performance of a getter to enhance the vacuum of a vacuum container, thereby improving the electron emission efficiency and the life of an electron-emitting element, and to provide a display apparatus using the light-emitting device as a light source. - 特許庁

低コストで不純物、特にＣ、Ｃｌ、Ｓ及びＰｂ不純物を効率的に除去した高純度酸化亜鉛及びその製造方法及びこれを焼成して得たターゲット並びにスパッタリングによって得られる高純度酸化亜鉛薄膜を提供する。例文帳に追加

To provide high purity zinc oxide powder and a production method thereof in which impurities, particularly C, Cl, S and Pb impurities, are removed efficiently at a low cost and to provide a target obtained by firing the high purity zinc oxide and a high purity zinc oxide thin film obtained by sputtering the target. - 特許庁

よりよい就業環境を促進するために発表された新しい会社方針に従って、工場のシフト時間を、3 月15 日から6 か月間、実験的に変更します。例文帳に追加

In compliance with new company policy set forth to foster a better working environment, factory shift hours will be changed on an experimental basis for six months starting March 15. - Weblio英語基本例文集

複数の生物種および群がりをターゲットにした生物調査は，単一の生物種または群がり手法に比べて，より広範な探知能力向上をもたらす見込みが高いし，より広範な生態系保護になるだろう。例文帳に追加

What is more likely is that biosurveys targeting multiple species and assemblages provide improved detection capability over a broader range as well as protection to a larger segment of the ecosystem than a single species or assemblage approach. - 英語論文検索例文集

それ故，複数の生物種および群がりをターゲットにした生物調査は，単一の生物種または群がり手法に比べて，より広範な探知能力向上をもたらす見込みが高いし，より広範な生態系保護になるだろう。例文帳に追加

Thus, biosurveys targeting multiple species and assemblages and more likely to provide improved detection capability over a broader range as well as protection to a larger segment of the ecosystem than a single species or assemblage approach. - 英語論文検索例文集

複数の生物種および群がりをターゲットにした生物調査は，単一の生物種または群がり手法に比べて，より広範な探知能力向上をもたらす見込みが高いし，より広範な生態系保護になるだろう。例文帳に追加

Biosurveys targeting multiple species and assemblages and more likely to provide improved detection capability over a broader range as well as protection to a larger segment of the ecosystem than a single species or assemblage approach. - 英語論文検索例文集

複数の生物種および群がりをターゲットにした生物調査は，単一の生物種または群がり手法に比べて，より広範な探知能力向上をもたらす見込みが高いし，より広範な生態系保護になるだろう。例文帳に追加

What is more likely is that biosurveys targeting multiple species and assemblages provide improved detection capability over a broader range as well as protection to a larger segment of the ecosystem than a single species or assemblage approach. - 英語論文検索例文集

三　第百六十一条第八号ロに掲げる年金　その支払を受けるべき年金の額から六万円にその支払を受けるべき年金の額に係る月数を乗じて計算した金額を控除した金額例文帳に追加

(iii) Pension listed in Article 161(viii)(b): The amount of pension receivable, after deducting therefrom the amount calculated by multiplying 60,000 yen by the number of months corresponding to the said amount of pension receivable  - 日本法令外国語訳データベースシステム

イ　第百六十一条第八号ロ（国内源泉所得）に掲げる年金　その支払われる年金の額から六万円にその支払われる年金の額に係る月数を乗じて計算した金額を控除した残額例文帳に追加

(a) Pension listed in Article 161(viii)(b) (Domestic Source Income): The amount that remains after deducting, from the amount of pension to be paid, the amount calculated by multiplying 60,000 yen by the number of months corresponding to the said amount of pension to be paid  - 日本法令外国語訳データベースシステム

ヒントやフィードバックは、フォームにすでに配置されているコンポーネントの位置に基づいて表示されますが、実行時に別のターゲットの Look Feel が正しく表示されるように、パディングは柔軟になっています。例文帳に追加

It makes these suggestions based on the positions of the components that have already been placed in the form,while allowing the padding to remain flexible such that different target look and feels render properly at runtime. - NetBeans

女性の月経に関係する特定の期間を忌みとする一時的な女人禁制と、女性を男性と区別して恒常的に立入りを禁ずる永続的な女人禁制がある。例文帳に追加

There is a temporary Nyonin Kinsei which considers particular period related with women's menses as a period of abstention, while there is a permanent Nyonin Kinsei which constantly prohibits women's entering in distinction from men.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

当時のレシピを見ると、このホテルニューグランドのスパゲッティナポリタンはその後大衆化したナポリタンとは違い、後述のナポリ風ソースに近い料理であったようだ。例文帳に追加

According to the recipe from those days, Spaghetti Naporitan in the Hotel New Grand was different from the Naporitan later popularized, but was apparently closer to the Napoli-style sauce described below.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

特許法第47条，第48条，第49条及び第50条の規定を遵守して，特許局の公示板にその出願を掲示して，かつ特許公報に掲載して，特許局は，6月間特許出願を公開する。例文帳に追加

In view of the provisions in Article 47, Article 48. Article 49 and Article 50 of the Patent Law, the Patent Office shall announce a patent application for 6 (six) months by including the same in the announcement board at the Patent Office and published in the Patent Official Gazette.  - 特許庁

ＩＴＯスパッタリングターゲットの製造時又は使用後に発生する高純度酸化インジウム含有スクラップから水酸化インジウム又はインジウムを効率良く回収する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for efficiently recovering indium hydroxide or indium from a scrap containing high purity indium oxide generated at the manufacturing or after use of ITO sputtering target. - 特許庁

電気抵抗率が低く耐熱性に優れた配線材料として汎用されているＡｌ−Ｎｄ／Ｌａ合金の耐アルカリ腐食性を向上させることが可能なＡｌ基合金スパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide an Al-based alloy sputtering target which improves the alkali corrosion resistance of an Al-Nd/La alloy generally used as a wiring material having a low electrical resistivity and excellent heat resistance. - 特許庁

円筒状等の中空状ターゲットの利用効率の向上を図ることができるマグネトロンスパッタリング装置及びマグネトロンスパッタリング方法を得ることを目的とする。例文帳に追加

To obtain a magnetron sputtering apparatus and a magnetron sputtering method for improving the use efficiency of a hollow target of a cylindrical shape, etc. - 特許庁

ＩＴＯスパッタリングターゲットの製造時又は使用後等に発生する高純度インジウムを含有する塩酸溶液からインジウムを効率良く回収する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for efficiently recovering indium from a hydrochloric acid solution containing high purity indium generated at the manufacturing or after use of ITO sputtering target. - 特許庁