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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > げっこうじに関連した英語例文

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げっこうじの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 532



例文

ターゲットの飽和磁束密度を小さくすることでターゲットの厚みを厚くし、該ターゲットを用いて作成した磁性薄膜を備える磁気記録媒体の生産性の向上すること。例文帳に追加

To enhance productivity of a magnetic recording medium having a magnetic film formed using a target by reducing saturation magnetic flux density of the target thereby increasing the thickness of the target. - 特許庁

距離分解能以内に複数のターゲットが存在し、各ターゲットからの反射波の信号のドップラ周波数が同程度でも、各ターゲットの方向推定精度を向上する。例文帳に追加

To improve the direction estimation accuracy of respective targets even when the plurality of targets are present within a distance resolution and the Doppler frequencies of signals of reflected waves from the respective targets are about the same. - 特許庁

ターゲット材の摩損を均一にさせ、ターゲット材の耐久性を向上させる磁気制御スパッタリング・ターゲット構造及び設備を提供する。例文帳に追加

To provide a magnetic control sputtering target structure and equipment which uniformize the wear of a target material and improve the durability of the target material. - 特許庁

ターゲットの導電性酸化物の熱伝導率を向上させることによって、そのターゲットの厚さの増大を可能にして寿命を増大させ、またそのターゲットを用いることによって、スパッタリング堆積された酸化物半導体膜のエッチング速度の向上を可能にする。例文帳に追加

To improve the etching rate of an oxide semiconductor film deposited by sputtering by improving the heat conductivity of a conductive oxide of a target to enable the target to increase the thickness and to prolong the life, and using the target. - 特許庁

例文

スパッタリングターゲットの強度を向上させることができ、スパッタリングターゲットの割れがなく、高密度のスパッタリングターゲットを製造することが可能な透明導電性薄膜製造用スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a sputtering target for producing a transparent electrically conductive thin film where the strength of a sputtering target can be improved, the cracking of the sputtering target is not caused, and the sputtering target of high density can be produced. - 特許庁


例文

マグネトロン電極の磁気回路10を、ターゲット2の中央部から外周部へ向かって「中心垂直磁石101、内側平行磁石103、外側平行磁石104、外周垂直磁石102を配置した磁気回路10」として、内側平行磁石103をターゲット2に近づける。例文帳に追加

A magnetic circuit 10 of a magnetron electrode is designed as "the magnetic circuit 10 in which a central perpendicular magnet 101, an inside parallel magnet 103, an outside parallel magnet 104, and a peripheral perpendicular magnet 102 are arranged" from the central part of a target 2 toward the peripheral part, and the inside parallel magnet 103 is brought close to the target 2. - 特許庁

ターゲット用の高純度活性金属の製造に用いる還元剤金属の高純度化およびこれを用いた高純度活性金属を効率よく製造する技術を提供する。例文帳に追加

To provide technologies for highly purifying a reductant metal for use in the manufacture of a highly purity active metal for targets and efficiently manufacturing a high purity active metal using the resultant highly-purified reductant metal. - 特許庁

O、C、N、H、F、S等のガス成分含有量が総量で200ppm以下であることを特徴とするスパッタリングターゲット用の高純度クロム又は高純度マンガンからなる高純度金属を提供する。例文帳に追加

To provide a high-purity metal made of high-purity chromium or high-purity manganese for a sputtering target in which the content of gas components such as O, C, N, H, F and S is 200 ppm or less in total. - 特許庁

内装工事等でターゲットとなる壁に釘打ち位置等を正確に把握可能なガイド画像を表示可能な工事支援装置及び工事支援方法すること。例文帳に追加

To provide a construction support apparatus and a construction support method for displaying a guide image so as to accurately obtain nailing positions on a wall which serves as a target in interior construction, and the like. - 特許庁

例文

非蒸発型ゲッタの吸着能力を向上させ、画像表示装置内の真空度を向上させ、電子放出素子の寿命の均一化、画像表示装置の輝度の均一性を向上させ、長寿命化を図る。例文帳に追加

To prolong the service life of an image display device by improving adsorptivity of a non-evaporation type getter, degree of vacuum in the image display device, and uniformity of brightness of the image display device, and prolonging the lifetime of an electron emitting device. - 特許庁

例文

ターゲットが磁性体・非磁性体であるに関わらず、ターゲット上に均一な平行磁場分布を形成し、均一なエロージョンが得られ、ターゲットの広幅化やスパッタ薄膜形成速度向上あるいはCVD成膜速度向上の効果が得られる放電電極及び放電方法を提供する。例文帳に追加

To provide a discharge electrode and a discharge method, wherein a uniform parallel magnetic field distribution is formed on a target regardless of whether the target is a magnetic body or a nonmagnetic body, uniform erosion can be obtained, and effects for widening the target, enhancing a sputtering thin film forming speed, or enhancing a CVD film forming speed can be obtained. - 特許庁

半導体装置において、素子を構成する材料の高純度化と均質性によって回路の微小化を可能とするための、高純度バナジウム、高純度バナジウムからなるターゲット、高純度バナジウム薄膜、及びそれらの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a high purity vanadium, a target composed of the high purity vanadium, the high purity vanadium thin film which enable a circuit to be made fine by achieving high purity and homogenization of materials constituting elements in a semiconductor device, and to provide methods of producing these materials. - 特許庁

このガイドラインに従うと、GUI が実行時に自動的にターゲットのオペレーティングシステムの Look Feel に合わせて表示されます。例文帳に追加

This ensures that your GUI is automaticallyrendered respecting the target operating system's look and feel at runtime.  - NetBeans

酸素、炭素の含有量がそれぞれ20wtppm以下であることを特徴とする高純度ニッケル又はニッケル合金スパッタリングターゲット。例文帳に追加

In the high purity nickel or nickel alloy sputtering target, each content of oxygen and carbon is20 wtppm. - 特許庁

スパッタリングターゲット用原料粉末として用いられる高純度モリブデン−タングステン合金粉末の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING HIGH-PURITY MOLYBDENUM-TUNGSTEN ALLOY POWDER USED FOR RAW POWDER FOR SPUTTERING TARGET - 特許庁

写真測量用ターゲットの基準点部材の識別を容易にして、写真測量の精度を向上させる。例文帳に追加

To improve the accuracy of photogrammetry by making the datum point members of a target for photogrammetry easily distinguishable. - 特許庁

スポンジチタン中の不純物を効率よく分離し、スパッタリングターゲットに適した高純度のチタンを製造する方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for producing high-purity titanium suitable for a sputtering target by efficiently separating impurities from sponge titanium. - 特許庁

ITOターゲット屑等のインジウム含有物から、簡単な工程で高純度インジウムを回収する。例文帳に追加

To collect high purity indium from an indium-containing substance such as the scrap of an ITO target, in a simple process. - 特許庁

高純度アルミニウムおよび合金の連続鋳造材の製造方法、該鋳造材、並びにそれを用いたアルミニウム合金単結晶ターゲッ例文帳に追加

PRODUCTION OF HIGH PURITY ALUMINUM AND ALLOY CONTINUOUSLY CAST MATERIAL AND CAST MATERIAL THEREOF AND ALUMINUM ALLOY SINGLE CRYSTAL TARGET USING IT - 特許庁

ターゲットの利用効率を向上させると同時に膜質の劣化を防止できるプレーナーマグネトロンスパッタリング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a planar magnetron sputtering system capable of improving efficiency of target utilization and preventing deterioration in film quality. - 特許庁

イントリンシック・ゲッタリングによる半導体ウエハの欠陥低減法において、安全性の向上とコスト低減を図る。例文帳に追加

To improve safety and reduce the cost of a semiconductor wafer in a semiconductor wafer defect reduction method using intrinsic gettering. - 特許庁

本発明の目的は、ゲッタリング能力を十分に向上させたシリコンウェーハ及びその製造方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a silicon wafer that sufficiently improves gettering capability, and to provide a method of manufacturing the silicon wafer. - 特許庁

半導体ウェハのゲッタリング能力を向上させる技術および半導体ウェハの結晶欠陥を抑制する技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technique which enhances the gattering capability of a semiconductor wafer, and to provide a technique which restrains crystal defects of the semiconductor wafer. - 特許庁

比較的簡素な構成で、膜厚の均一性とターゲットの利用率を向上させたマグネトロンスパッタ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a magnetron sputtering apparatus capable of improving the uniformity of a film thickness and target utilization by a relatively simple constitution. - 特許庁

インダクタを備える半導体装置において、ゲッタリング能力を確保しつつインダクタのQ値を向上する。例文帳に追加

To improve the Q-value of an inductor while ensuring the gettering capability in a semiconductor device equipped with an inductor. - 特許庁

また、第一層2B、第二層2C共に同一のターゲットを用いることで生産性の向上を図ることができる。例文帳に追加

By using the same target for both of the first layer 2B and the second layer 2C, productivity can be improved. - 特許庁

ターゲット等、光学的に位置検出するための大きな面積のパターン領域での表面平坦性を向上する。例文帳に追加

To improve surface evenness on a large square pattern region for optically detecting position such as target and the like. - 特許庁

酸素10wtppm以下、窒素10wtppm以下であり、鍛造組織を備えていることを特徴とする高純度ルテニウムターゲット。例文帳に追加

The high purity ruthenium target is characterized by including oxygen of 10 wt.ppm or less and nitrogen of 10 wt.ppm or less, and by having a forged structure. - 特許庁

スパッタリング用高純度金属Mo焼結ターゲットの製造に原料粉末として用いるのに適した高純度金属Mo粗粒粉末例文帳に追加

HIGH-PURITY METAL Mo COARSE POWDER SUITABLE FOR RAW POWDER FOR MANUFACTURING HIGH-PURITY METAL Mo SINTERED TARGET FOR SPUTTERING - 特許庁

(3)上記(1)に記載の高純度アルミニウムの連続鋳造材を用いるアルミニウム合金単結晶ターゲット。例文帳に追加

An aluminum alloy single crystal target is obtd. by using the continuously cast material of the high purity aluminum with the above- manner. - 特許庁

水漏れや絶縁破壊によるスパッタリング不良を防止できるとともに、ターゲット利用率を向上できる成膜装置を提供する。例文帳に追加

To provide a film-forming apparatus which prevents sputtering failure caused by water leak or insulation breakdown, and improves a rate of target utilization. - 特許庁

SOI基板を用いた半導体装置において、ゲッタリング層を形成する工程を用いずに、酸化膜の品質を向上させる。例文帳に追加

To improve the quality of an oxide film without using a process for forming a gettering layer in a semiconductor device using a SOI substrate. - 特許庁

種々のターゲットハードウェアに係るエミュレーション処理を実行する際の利便性を向上できるエミュレーション装置を提供する。例文帳に追加

To provide an emulation device improved in convenience when executing emulation processing for various target hardware units. - 特許庁

ターゲットの使用効率や生産性を向上させることができるマグネトロンスパッタリング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a magnetron sputtering system which can improve the using efficiency of a target and productivity. - 特許庁

ターゲットがガスなどの気体の場合、X線発生効率を向上できるレーザプラズマX線源を提供すること。例文帳に追加

To provide a laser plasma X ray source that improves the X ray generation efficiency with a gaseous target. - 特許庁

ターゲットマシンと同等の実行環境を実行マシン上で実現することによって、プログラムの開発効率を向上させる。例文帳に追加

To improve the developing efficiency of a program by realizing an performance environment equivalent to a target machine on a performing machine. - 特許庁

ホストコンピュータとディスクアレイ装置内のディスク記憶装置との間におけるターゲットとなるデータパスの異常検出率の向上を図る。例文帳に追加

To enhance abnormality detection rate of a target data bus between a host computer and a disk storage device in a disk array device. - 特許庁

(2)本発明のシリコンウェーハはこの方法により製造されたウェーハであり、ウェーハ全体としてのゲッタリング能力を向上させたウェーハである。例文帳に追加

The silicon wafer manufactured by the method is a wafer improving the gettering performance as the entire wafer (2). - 特許庁

加工性を向上させた磁気記録媒体のシード層を形成するためのCo合金ターゲット材を安定的に提供する。例文帳に追加

To stably provide a Co alloy target material for forming a seed layer of a magnetic recording medium having improved workability. - 特許庁

スパッタリングターゲットを構成している高純度GeまたはGe合金は、Ag含有量およびAu含有量がそれぞれ5ppm以下とされている。例文帳に追加

The content of Ag and that of Au in the high-purity Ge or the Ge alloy are 5 ppm or below, respectively. - 特許庁

立体視画像表示装置において、立体カーソルの移動経路を把握し易くすることによりターゲッティングの精度を向上させる。例文帳に追加

To improve precision of targeting by making it easy to grasp a movement path of a stereoscopic cursor on a stereoscopic image display device. - 特許庁

矩形平板ターゲットを有するロータリー式のスパッタ方法及び装置において、基板面内での膜厚均一性を向上する。例文帳に追加

To improve the uniformity in film thickness within the plane of a substrate in a rotary type sputtering method and device having a rectangular flat target. - 特許庁

指定された特定の色に関し、ターゲットデバイスで出力される色を出力デバイスで再現する際の精度を向上させる。例文帳に追加

To improve accuracy in reproducing color, to be output by a target device, in an output device, in regard to a designated specified color. - 特許庁

セリウムなどの低融点金属をターゲットに用いたX線管の耐負荷性を向上し、その動作の安定を図る。例文帳に追加

To improve load resistance of an x-ray tube in which a low melting point metal such as cerium is used as a target, and stabilize its action. - 特許庁

小型電子機器において月間カレンダを表示する場合、表示スペースを有効に活用することにより、カレンダ情報の視認性を向上する。例文帳に追加

To improve the visibility of calendar information by effectively utilizing an indication space in the case a monthly calendar is indicated in a small electronic apparatus. - 特許庁

従って、排気管による面光源装置の厚さ増加を防止し、ゲッターの実装性及び利用効率を向上させることができる。例文帳に追加

Therefore, the increase of the thickness of the surface light source device by an exhaust pipe is prevented, and mounting characteristic and utilization efficiency of the getter can be improved. - 特許庁

ターゲットシステムのエミュレーション速度をより向上させることが可能なエミュレーション方法及びコンピュータシステムを提供する。例文帳に追加

To provide an emulation method and a computer system for improving the emulation speed of a target system. - 特許庁

ターゲットの利用効率を向上させることができるスパッタ装置およびスパッタ方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a sputtering device and a sputtering method, which can improve utilization efficiency of a target. - 特許庁

パルス圧縮技術に基づいて目標を検出するレーダにおいて、ターゲットの検出性能を向上させること。例文帳に追加

To improve a target detection performance in a radar for detecting a target on the basis of pulse compression techniques. - 特許庁

例文

本発明は、ゲッタリング能力が向上したエピタキシャル半導体基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide the method of manufacturing an epitaxial semiconductor substrate whose gettering ability is improved or the method of manufacturing a semiconductor device whose operating characteristic is improved. - 特許庁

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