「げっこうじ」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

重金属の再放出及び注入欠陥の素子活性領域への成長を防止してゲッタリングの効率を向上させることができる半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide the manufacturing method of a semiconductor device which can improve efficiency of gettering by preventing re-emission of heavy metals and growth of implantation defects to an element active region. - 特許庁

Ｒｕ原料粉末の特定不純物の低減を容易にかつ安価に実現すると同時に、高純度で均質性の高いＲｕスパッタリングターゲットを作製する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method capable of easily and inexpensively reducing specified impurities in Ru raw material powder, and simultaneously producing an Ru sputtering target having high purity and high homogeneity. - 特許庁

Ｘ線管（１０）は、カソード（２０）と、アノードターゲット組立体（１２）と、ロータ（１６）及びステータ（１８）を有する軸方向磁束型電動機（１４）とを含む。例文帳に追加

The X-ray tube(10) includes a cathode(20), rotor target assembly(12), and axial flux type motor(14) having a rotor(16) and stator(18). - 特許庁

ＶＬＳＩ／ＵＬＳＩ等の電子デバイス製造プロセスにおいて、重金属に対して効果の高いゲッタリング能力を発揮し、良品率を向上させることができる電子デバイスの製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing an electronic device such as VLSI/ULSI which can display a high effective gettering ability for heavy metals to improve the nondefective ratio. - 特許庁

特に、酸素含有量や炭素含有量の極めて少ないスパッタリングターゲット用に適した高純度ハフニウム材の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a high purity hafnium material particularly suitable for a sputtering target in which an oxygen content and a carbon content are extremely low. - 特許庁

ＩＴＯスパッタリングターゲットの製造時又は使用後に発生する高純度酸化インジウム含有スクラップからインジウムを効率良く回収する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for efficiently recovering indium from high purity indium oxide-containing scrap generated at the time of producing an ITO sputtering target or after its use. - 特許庁

さらに、基板３、３間に塩化カルシウムなどからなるゲッタ剤７を挿入するとともに、基板３、３間にシリコンゴムを充填塗布し、ペルチェモジュール６の周囲をシールすることにより、耐湿性は著しく向上する。例文帳に追加

A getter agent comprising calcium chloride is inserted between the substrates 3 and 3, while a silicon rubber is packed and applied between the substrates 3 and 3, so as to seal the periphery of the Peltier module, for significantly improved moisture- resistance. - 特許庁

ＩＴＯターゲット等の製造時に発生する高純度水酸化インジウムスクラップから電解採取によって直接インジウムを回収する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for directly recovering indium from indium hydroxide scrap of high purity generated at the time of producing an ITO target or the like by electrolytic extraction. - 特許庁

液晶、半導体成膜用等のスパッタリングターゲットを作製する際に用いられる原料粉末として好適な、高純度モリブデン−タングステン合金粉末の製造方法を提供すること例文帳に追加

To provide a method for producing a high-purity molybdenum-tungsten alloy powder suitable for a raw powder to be used when producing a sputtering target for forming a film of a liquid crystal and a semiconductor. - 特許庁

パーティクル発生のきわめて少ない高純度金属Ｍｏ薄膜の形成を可能とするスパッタリング用高純度高密度金属Ｍｏ焼結ターゲット例文帳に追加

HIGH-PURITY HIGH-DENSITY METAL Mo SINTERING TARGET FOR SPUTTERING WHICH ENABLES FORMATION OF HIGH-PURITY METAL Mo THIN FILM PRODUCING EXTREMELY FEW PARTICLE - 特許庁

ＳＯＩ層の内部に混入した重金属不純物をゲッタリングにより除去することを可能とし、耐圧や信頼性の向上を実現し得る半導体装置を得る。例文帳に追加

To obtain a semiconductor device which can eliminate heavy metal impurities mixed inside an SOI layer by gettering and improves a breakdown voltage or a reliability. - 特許庁

ウェーハの表層部には結晶欠陥が存在せず、しかもゲッタリング能力をより向上させたシリコンウェーハ、およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a silicon wafer which eliminates crystal defects in a wafer surface layer and further improves gettering performance, and to provide a method for manufacturing the silicon wafer. - 特許庁

半導体薄膜形成用等の用途に適した、不純物含有量が低く、特にはパーティクル発生を低減した高純度ルテニウムスパッタリングターゲットを提供すること。例文帳に追加

To provide a highly pure ruthenium sputtering target suitable for forming semiconductor thin films and having a low impurity content, which enables to reduce the formation of particles when it is used. - 特許庁

純度が高く、特にスズ（Ｓｎ）品位や鉛（Ｐｂ）品位が極めて低く、電子部品材料、ＩＴＯターゲット材として好適な高純度インジウムメタルの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a high purity indium metal having high purity, having extremely low tin (Sn) grade and lead (Pb) grade in particular, and suitable as an electronic component material and an ITO target material. - 特許庁

エピタキシャルウエーハのゲッタリング能力を向上させ、ウエーハ中のキャリアの拡散長の低下が抑制されたエピタキシャルウエーハを提供する。例文帳に追加

To improve the gettering capability of an epitaxial silicon wafer and to provide an epitaxial silicon wafer in which shortening of the carrier diffusion length is suppressed. - 特許庁

高温熱処理による不純物拡散を抑制することにより、基板性能に要求されるオーバーフロードレイン機能とゲッタリング能力を向上できて、製造工程も複雑化しない。例文帳に追加

To enhance the overflow drain function and the gettering capacity required for the substrate performance by suppressing impurity diffusion due to high-temperature heat treatment, without complicating the manufacturing process. - 特許庁

穿孔位置決め制御に係り、視準ターゲットを視準出来なくても穿孔作業に支障を来すことがなく、作業効率及び位置決め精度の向上を図る。例文帳に追加

To improve working efficiency and positioning precision without interfering with boring work even when a collimation target cannot be collimated concerning boring positioning control. - 特許庁

実質的にＩＺＯスパッタリングターゲットとしての特性を損なうことなく酸化インジウム−酸化亜鉛の原料粉末からの工程の短縮を行い、生産性を向上させコストを低減できる製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method which improves productivity and reduces a cost by curtailing a manufacturing process of indium oxide-zinc oxide from powder starting materials without essentially impairing the characteristics as an IZO sputtering target. - 特許庁

成膜速度および膜厚均一性を同時に向上させながら、ターゲットの利用効率を改善することができるスパッタリングカソードおよびこれを備えたマグネトロン型スパッタリング装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a sputtering cathode which improves a utilizing efficiency of a target while improving a film forming speed and a uniformalization of a film thickness at the same time and a magnetron type sputtering device furnished with it. - 特許庁

メンテナンス時に、ターゲットや集電体上の活物質層などが大気中の酸素や水分で汚染されるのを防止するとともに、生産性を向上させることが可能なリチウム二次電池用電極の形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lithium secondary battery electrode forming device preventing a target or an activator layer on a current collector from being polluted by oxygen or water in the atmosphere, capable of improving productivity. - 特許庁

ターゲットの酸化を抑制し、無機配向膜の製造能率の向上を図ることができるスパッタリング装置及び液晶装置の製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering apparatus capable of enhancing manufacturing efficiency of an inorganic oriented film by suppressing oxidation of a target, and a device for manufacturing a liquid crystal device. - 特許庁

燃料棒の被覆管が健全時には燃料棒内の微量水分および水素を吸収するとともに、破損時には過重な水素を発生しない安全性を向上させた水素ゲッターを備えた核燃料要素を提供する。例文帳に追加

To provide a nuclear fuel element with a hydrogen getter for absorbing a small amount of water and hydrogen in a fuel rod when the covering pipe of a fuel rod is sound and at the same time for improving safety where excessive hydrogen cannot be generated in fracture. - 特許庁

膜の均一性（ユニフォーミティ）を良好にし、スパッタ成膜の品質を向上させることができるタンタルスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a tantalum sputtering target which provides good film uniformity and can improve the quality of a sputtered film, and to provide a method for production of the target. - 特許庁

初期アークの発生を防止し、初期安定性が著しく向上し、低コストで製造することができるスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target in which initial arcing can be prevented and initial stability can be greatly improved and which can be manufactured at a low cost, and to provide its manufacturing method. - 特許庁

ヒューズ配線２３のレーザ加工の際に、同じ配線層に含まれるターゲットマーク２５を用いてアライメントを行なうことにより、加工時の位置ずれを低減することができる。例文帳に追加

When the fuse wiring 23 is laser-processed, the target mark 25 included in the same wiring layer is used to perform alignment, thereby enabling a reduction in displacement during processing. - 特許庁

本発明はゲッターの吸着性能を向上させて真空容器の真空度を高めることができる発光装置、及び、この発光装置を光源として使用する表示装置を提供する。例文帳に追加

The light-emitting device can improve the absorption performance of the getter to enhance the vacuum of the vacuum container, and the display apparatus uses the light-emitting device as the light source. - 特許庁

濾過、洗浄性が良好で、かつ蛍光体原料や、ターゲット用原料、透明導電膜や透明導電性を有する単結晶基板材料として好適な、不純物含量の低い、高純度酸化ガリウムを提供する。例文帳に追加

To provide highly pure gallium oxide excellent in filtration performance and washability, favorable for a fluorescent material, a target material, a transparent electrically conductive film and a single crystal substrate material having transparent electric conductivity, and low in impurity content. - 特許庁

このスパッタリングターゲットを構成する高純度Ｔａは、自己維持放電特性を有するＡｇ、ＡｕおよびＣｕから選ばれる少なくとも1種の元素を0.001〜20ppmの範囲で含有する。例文帳に追加

The high purity Ta constituting the sputtering target contains 0.001-20 ppm of at least one element selected from Ag, Au and Cu each having self-sustaining discharge characteristics. - 特許庁

パーティクル発生のきわめて少ない高純度金属Ｍｏ薄膜の形成を可能とするスパッタリング用高純度高密度金属Ｍｏ焼結ターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a high-purity high-density metal Mo sintering target for sputtering which enables the formation of a high-purity metal Mo thin film producing extremely few particle. - 特許庁

ゲッタリング効果を得ると共に半導体装置が形成された個々のチップの周囲に歪みを与えずチップの抗折強度向上が可能な半導体装置製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, capable of obtaining gettering effects and increasing the transverse rupture strength of a chip without distorting the periphery of an individual chip where the semiconductor is formed. - 特許庁

酸化物反応層の寄生抵抗の低減を図り、動作特性の向上を図った電子デバイス配線用Ｃｕ合金スパッタリングターゲット材、及び素子構造を提供する。例文帳に追加

To provide a Cu alloy sputtering target material for electronic device wiring in which operation characteristics are improved by reducing the parasitic resistance of an oxide reaction layer, and to provide an element structure. - 特許庁

銅ターゲットの場合、自己放電を起こすので低圧力でもプラズマを維持することができ、銅粒子がスパッタリングガスに散乱されないので、基板７表面に垂直に入射し、カバレッジ性が向上する。例文帳に追加

In the case of copper target, since low pressure can also maintain the plasma for self-discharge and copper particles are not scattered in the sputtering gas, normally impinging is carried out to the front surface of the substrate 7, the coverage is improved. - 特許庁

これにより、誘電体基板１１上を伝搬する電磁波を基板内に閉じ込めながら進行方向に導波させることができるので、サイドローブが低減し、アンテナ利得およびターゲットへの放射効率が向上する。例文帳に追加

Thus, since electromagnetic waves propagated on a dielectric substrate 11 are guided in an advancing direction while confining them inside the substrate, side lobes are reduced, and antenna gain and radiation efficiency to a target are improved. - 特許庁

電子ビームの集束効率を向上させ、ターゲットからの反射電子による陰極の絶縁物への帯電を防止したマイクロフォーカスX線管を提供する。例文帳に追加

To provide a microfocus X-ray tube with focusing efficiency of electron beams improved and preventing electrostatic charge on an insulator of a negative electrode due to reflected electron from a target. - 特許庁

マグネトロスパッタリング方式のスパッタリング装置で大きさの異なる基板のスパッタ成膜に共用し、付着効率とターゲット利用効率を向上する。例文帳に追加

To improve depositing efficiency and target utilizing efficiency in common with sputtering film formation for substrates different in sizes in a sputtering device of a magnetron sputtering system. - 特許庁

スパッタリング用高純度金属Ｍｏ焼結ターゲットの製造に原料粉末として用いるのに適した高純度金属Ｍｏ粗粒粉末を提供する。例文帳に追加

To provide high purity metal Mo coarse powder suitably used as raw material powder for manufacturing a high purity metal Mo sintered target for sputtering. - 特許庁

蛍光体や通信素子としての特性に優れたＧａＮ薄膜を得るために、スパッタ法により、低コストで高純度かつ結晶性が良好なＧａＮ薄膜が形成可能なスパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target that can form a GaN thin film having high purity and excellent crystallinity at low cost by a sputtering method to obtain the GaN thin film excellent in properties as a fluorophor and communication element. - 特許庁

ランタイムをターゲットとする言語コンパイラで開発されるマネージコードの実行環境のコンテキストにおいて、実行時に先立ってコーディングエラーを低減する。例文帳に追加

To reduce coding errors before execution, in a context of an execution environment of a management code developed by a language compiler targeting runtime. - 特許庁

エピタキシャルウエーハの製造において効率的に熱処理を行ないゲッタリング効果の優れたエピタキシャルウエーハの生産性を向上させるエピタキシャルウエーハの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing an epitaxial wafer by which the productivity of an epitaxial wafer having an excellent gettering effect can be improved by conducting a heat treatment efficiently. - 特許庁

スパッタリングによる透明電極膜の安定な形成等の観点から品質の確実な向上を図りながらスパッタリングターゲットを製造する方法等を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a sputtering target while surely improving quality from the viewpoint of the stable formation or the like of a transparent electrode film by sputtering. - 特許庁

実行時に、入力トークンストリームがデータフォーマット定義から生成されるとき、各バリアントプレースホルダは、ランダム値に置き換えられ、それにより、ターゲットとされるバリアント入力がもたらされる（２１６，２１８）。例文帳に追加

At execution, when an input token stream is generated from the data format definition, each variant placeholder is replaced with a random value, thereby providing a targeted variant input (216, 218). - 特許庁

簡単な構成により密閉された空間内に存在する気体を効率よく吸着させる構成とすると共に、ゲッターの落下を防止して、信頼性を向上させる。例文帳に追加

To enhance reliability by employing a simple structure for adsorbing gas existing in an enclosed space efficiently and preventing getter from falling. - 特許庁

組織制御熱処理されていない、塑性加工後の高純度Ｔｉスパッタリングターゲット材が、バッキングプレート材（Ａｌ又はその合金）と拡散接合されている。例文帳に追加

A high purity Ti sputtering target material after plastic working which has not been subjected to structural control heat treatment is diffusion- joined with a backing plate material (Al or the alloy thereof). - 特許庁

ターゲットの使用効率を向上させると同時に、成膜分布の均一性に優れ、高ボトムカバレッジを得ることが可能なスパッタ装置および半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a sputtering device and a semiconductor device improving the using efficiency of a target, simultaneously excellent in the uniformity of a film forming distribution and capable of obtaining a high bottom coverage. - 特許庁

携帯端末に対して広告を配信する広告主が配信ターゲットのユーザー属性を絞りこむこと、配信する広告を確実に閲覧させること、閲覧後、広告主のサーバへのアクセス率を向上する。例文帳に追加

To enable an advertiser who distributes an advertisement to mobile terminals to narrow down user attributes of a distribution target, to surely browse the distributed advertisement, and to improve an access rate to a server of the advertiser after browsing. - 特許庁