「げっこうじ」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

タングステン焼結体ターゲットの製造に有用な高純度タングステン粉末製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a method of producing high purity tungsten powder useful for the production of a tungsten sintered compact target. - 特許庁

スパッタリングターゲットとして用いるに好適な、均一かつ微細結晶組織を有する高純度銅加工材を提供する。例文帳に追加

To provide a processed high-purity copper material which has a uniform and fine crystal structure, and is suitable for use as a sputtering target. - 特許庁

向上した冷却能を有し、且つスパッタ材料の撓みを減少させることのできるスパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target which has enhanced cooling and can reduce the deflection of a sputtered material. - 特許庁

ターゲット部内に残留する^１８Ｏガスの回収効率を向上できるＯガス回収装置及びＯガス回収方法を提供する例文帳に追加

To provide a device and a method for recovering an oxygen (O) gas which make it possible to improve the efficiency in recovering an ^18O gas remaining inside a target section. - 特許庁

ＣＰＵの実行状態を表すステータス情報を出力するターゲットシステムのトレース情報を生成するデバッグシステムである。例文帳に追加

This system 20 is a debug system for generating the trace information of a target system for outputting status information indicating the execution state of a CPU 12. - 特許庁

スパッタリング装置における、ターゲット利用効率及びスパッタ速度と、成膜厚の精度を向上する。例文帳に追加

To improve the utilizing efficiency of a target, the sputtering rate and the precision of film deposition thickness in a sputtering system. - 特許庁

高強度のＸ線が得られ、かつ、放熱性が向上したＸ線発生用ターゲットおよびそれを備えたＸ線発生装置を提供する。例文帳に追加

To provide a target for X ray generation which obtains a high intensity X ray and improves heat radiation performance, and to provide an X ray generation device including the target. - 特許庁

ターゲットプログラムの実行時間をフレーム毎に確認することが可能な時間測定回路を提供する。例文帳に追加

To provide a time measuring circuit for confirming the executing time of a target program by each film. - 特許庁

ターゲット材としての歩留まりが高く、かつ反強磁性薄膜形成用として最適な高純度Ｍｎ材料を得る製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a manufacturing method by which a high-purity Mn material having high yield as a target material and most suitably used for antiferromagnetic thin film deposition can be obtained. - 特許庁

同時に、ラゲッジボード１３とキッキングプレート６との境界をバックドア１により隠蔽し、後部フロア２の見栄えを向上させる。例文帳に追加

At the same time, a boundary between the luggage board 13 and a kicking plate 6 is shielded by the back door 1 so that an appearance of the rear floor 2 can be improved. - 特許庁

突発的な巨大ダストの発生を抑制し、Ｎｂ膜の歩留りを向上させることを可能にしたスパッタターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a sputter target which suppresses the sudden occurrence of giant dust and can improves the yield of an Nb film. - 特許庁

ターゲットへの入力負荷の限界値を向上させ、より高画質の画像を得ることができる回転陽極Ｘ線管を提供する。例文帳に追加

To provide a rotating anode X-ray tube capable of providing an image having higher image quality by increasing the ceiling value of an input load into a target. - 特許庁

そして、ダイアグ検出頻度が向上した場合、指定したターゲットの条件が検出頻度低下の原因であると確定する（ステップ103、104）。例文帳に追加

When the frequency of the diagnostic detection improves, it is established that the condition of the designated target is the cause for the decrease in frequency of the detection (steps 103 and 104). - 特許庁

すなわち、ベースとなる主ターゲット材１０は比較的安定特性の高純度材料を鍛造、圧延する。例文帳に追加

Specifically, the main target material 10 of the base is made by forging and rolling the high-purity material having comparatively stable properties. - 特許庁

電波式物体検出装置において、クラッタ成分を有効に低減しつつ、ターゲットとなる物体の検出精度の向上を図る。例文帳に追加

To enhance detection accuracy of an object as a target, while effectively reducing a clutter component, in a radio wave type object detector. - 特許庁

陽極ターゲットの冷却特性を向上させることができる、信頼性の高いＸ線管装置を提供する。例文帳に追加

To provide a reliable X-ray tube device capable of improving cooling characteristics of an anode target. - 特許庁

判別が難しい軟部組織中の照射ターゲットの位置を直接計測して、位置決め精度を向上させる。例文帳に追加

To improve the precision in positioning by directly measuring the position of an irradiation target in a soft tissue which is difficult to discriminate. - 特許庁

複眼カメラとターゲットの位置関係を正確に保ち、これにより、複眼カメラの性能を向上させる複眼カメラの調整方法を得る。例文帳に追加

To provide a compound-eye camera adjustment method that accurately keeps the position relation between a compound-eye camera and a target so as to enhance the performance of the compound-eye camera. - 特許庁

高Ｇａ濃度を有し、割れや異常放電、パーティクルが発生が抑制されたＣｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲットを得る。例文帳に追加

To obtain a Cu-Ga alloy sputtering target which has high Ga concentration and in which cracks, abnormal discharge, and generation of particles are suppressed. - 特許庁

ＥＳＬシステムにおいて、商品とＥＳＬ（電子棚札）とを関連付けるターゲットリンク等の作業の作業性を向上させる。例文帳に追加

To improve the workability of target link or the like for relating an article and an electronic shelf label(ESL) in an ESL system. - 特許庁

加圧容器への原料粉末の充填密度を向上させ焼結体の変形を低減させたＭｏターゲット材の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing an Mo target material by which pack density of raw material powder to a pressure vessel is increased, and the deformation of a sintered compact is reduced. - 特許庁

複数のラゲッジトレイを用途に応じて使い分けることができ、利用者の利便性を向上することができる収納装置を提供する。例文帳に追加

To provide a storage device capable of using a plurality of luggage trays in accordance with the applications and improving user's convenience. - 特許庁

目的物標の種類を判別することにより、この目的物標の体長の算出精度を向上させたターゲット長計測装置を提供する。例文帳に追加

To provide a target length measurement device for increasing calculation accuracy of body length of a target by determining a type of the target. - 特許庁

ターゲットに対して照射するレーザ光の照射精度を向上させると共に、光伝送システム全体の小型軽量化を図る。例文帳に追加

To improve irradiation accuracy of a laser beam to be irradiated to a target and also achieve reduction in size and weight of an optical transmission system as a whole. - 特許庁

短冊形ターゲットを用いるマグネトロンスパッタ法においてスパッタ処理効率ないし生産効率の向上を実現する。例文帳に追加

To provide a magnetron sputtering method with the use of a rectangular target, which has enhanced sputtering treatment efficiency and production efficiency. - 特許庁

ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置において、シート状のターゲット材料の進行状態の安定化を図る。例文帳に追加

To attain stability of advancing status of a target material of sheet shape in an LPP (laser produced plasma) type EUV light source device. - 特許庁

ターゲットの結晶配向の組織を改善し、スパッタリングを実施した際の、膜の均一性（ユニフォーミティ）を良好にし、スパッタ成膜の品質を向上させ、さらに製造歩留まりを著しく向上させることができるスパッタリング用ターゲット及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a target for sputtering in which the structure of crystal orientation is improved, thus the uniformity of a film upon sputtering is made satisfactory, the quality of sputtering film deposition is improved, and further, a production yield can be remarkably improved, and to provide a method for producing the same. - 特許庁

ターゲットの結晶配向の組織を改善し、スパッタリングを実施した際の、膜の均一性（ユニフォーミティ）を良好にし、スパッタ成膜の品質を向上させ、さらに製造歩留まりを著しく向上させることができるスパッタリング用ターゲット及びその製造方法を得ることを課題とする。例文帳に追加

To provide a target for sputtering capable of ameliorating the texture of crystal orientation of the target, of improving the uniformity of a film when sputtering is carried out, and of enhancing the quality of sputtering deposition and greatly improving the yield of manufacturing and a method for manufacturing the same. - 特許庁

スキャトロメトリターゲットを提供すること、およびターゲットの回折格子のサイズが低減するのを可能にするが、回折格子のピッチが測定放射ビームの波長よりも小さい場合に、より高次の回折次数を損なわないターゲットの製作方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a target capable of providing a scatterometry target, and of reducing the size of a diffraction grating of the target without impairing a further high-order diffraction order when the pitch of the diffraction grating is smaller than the wavelength of a measurement radiation beam. - 特許庁

磁束透過率が低く漏れ磁束が小さいターゲットの漏れ磁束を増加させて肉厚のターゲットの使用を可能にし、生産性の向上を図ることができるスパッタリングターゲット及びマグネトロンスパッタリング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target and a magnetron sputtering apparatus which enable the use of a thick target and are capable of enhancing the productivity by increasing the leakage flux of the target of low magnetic flux permeability and low leakage flux. - 特許庁

リッチＯＳ４１上でターゲットアプリケーション４３が起動完了した後、スモールＯＳ４２上で動作しているターゲットアプリケーション４３の実行状態をリッチＯＳ４２上で起動されたターゲットアプリケーション４３に引き継ぎ、スモールＯＳ４２を使用停止する。例文帳に追加

After completion of bootup of the target application 43 on the rich OS 41, an execution state of the target application 43 operating on the small OS 42 is taken over by the target application 43 started on the rich OS 42, and use of the small OS 42 is stopped. - 特許庁

高純度チタンターゲットであって、添加成分として、Ｓ：３〜１０質量ｐｐｍ及びＳｉ：０．５〜３質量ｐｐｍを含有し、添加成分とガス成分を除き、ターゲットの純度が９９．９９５質量％以上であることを特徴とするスパッタリング用チタンターゲット。例文帳に追加

The titanium target for sputtering of high purity contains 3-10 mass ppm S and 0.5-3 mass ppm Si as additive components while the purity of the target is ≥99.995 mass% except the additive components and gas components. - 特許庁

本発明は、矩形ターゲットの全面にわたりエロージョンの均一性を向上させ、ターゲット利用率の高いマグネトロンカソードを実現することにより、より小型のターゲットで矩形基板上に膜厚分布に優れた成膜が可能なマグネトロンスパッタリング装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a magnetron sputtering apparatus, which can form a film superior in film thickness distribution on a rectangular substrate with a smaller target than before, by improving uniformity of erosion over the whole surface of the rectangular target, and by realizing a magnetron cathode for efficiently utilizing a target. - 特許庁

このように構成したことにより、回転陽極2では、ターゲット8の温度上昇時に、ターゲット支持部27の両側の熱的伸び量がほぼ同じになるため、ターゲット8は殆ど移動せず、また両持ち軸受方式になっていることにより、回転陽極2の強度が向上する。例文帳に追加

With this construction, since thermal extension of both sides of the target- support part 27 are nearly the same at the rotating anode 2 when the temperature of the target 8 is on the rise, the target 8 hardly moves, and the strength of the rotating anode 2 is improved due t the double-support bearing system. - 特許庁

真空パッケージ内にチタン薄膜からなる薄膜蒸発型ゲッタ部を形成し、薄膜蒸発型ゲッタ部と基板との間に空洞を設けて断熱して、薄膜蒸発型ゲッタ部に通電して加熱蒸発させることによって超小型真空パッケージの内部真空度を向上する。例文帳に追加

A thin film evaporation type getter part made of titanium film is formed in the vacuum package and a cavity is provided for heat insulation between the thin film evaporation type getter part and a substrate, and by turning on electricity to the thin film evaporation type getter part, and by heating and evaporating, the degree of vacuum inside the micro vacuum package is improved. - 特許庁

ターゲットマイコン１１の消費電流値をトレース条件としてイベント検出回路２３に設定し、ターゲットマイコン１１の実行情報の１つとしてアドレス、データ、ステータスと共にターゲットマイコン１１の消費電流値情報をトレース回路２４に格納するようにした。例文帳に追加

The current consumption value of the target microcomputer 11 is set to an event detection circuit 23 as a trace condition, and as one of execution information of the target microcomputer 11, current consumption value information of the target microcomputer 11 is stored in a trace circuit 24 with the address, the data, and the status. - 特許庁

高純度バナジウム、同バナジウムからなるターゲット、同バナジウム薄膜、同バナジウムの製造方法及び同バナジウムスパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加

HIGH PURITY VANADIUM, TARGET COMPOSED OF VANADIUM, THIN FILM OF VANADIUM, METHOD OF PRODUCING VANADIUM, AND METHOD OF PRODUCING SPUTTERING TARGET OF VANADIUM - 特許庁

目標とするターゲットに対して選択的に高バイアス電圧を印加してスパッタリングを行えると共に、成膜レートを向上させることができる回転式ターゲットホルダを提供する。例文帳に追加

To provide a rotary target holder capable of performing sputtering by selectively applying a high bias voltage to an objective target, and enhancing the film deposition rate. - 特許庁

厚さ０．５ｍｍ以上のアルミニウムあるいはアルミニウム合金板をインサート材として拡散接合したことを特徴とする高純度コバルトターゲットと銅合金バッキングプレートとの拡散接合ターゲット組立体。例文帳に追加

In this diffusedly joined target assemblage of the high purity cobalt target with the copper alloy backing plate, diffusion joining is performed with an aluminum or aluminum alloy sheet with a thickness of ≥0.5 mm as an insert material. - 特許庁

フィラメント14から放射された電子は集束電極18とフィラメントとターゲット30によって形成される電位分布によりターゲット30面上に集束されるのでＸ線発生効率が向上する。例文帳に追加

Since an electron irradiated from the filament 14 is focused on a target 30 face by potential distribution formed by the focusing electrode 18, the filament, and the target 30, X-ray generation efficiency is improved. - 特許庁

熱伝導による陽極ターゲット18の冷却効率を向上でき、陽極ターゲット18へのより大きな入力を可能とする回転陽極型Ｘ線管11を提供する。例文帳に追加

To provide a rotating anode X-ray tube 11 capable of improving cooling efficiency of an anode target 18 by heat conduction, and inputting larger power to the anode target 18. - 特許庁

焼結体ターゲット、特にセラミックスターゲットの焼結に際して発生する反りを効果的に抑制することができ、製造歩留りと生産効率を向上できる焼結方法を提供する。例文帳に追加

To provide a sintering method with which the production yield and the producing efficiency can be improved by efficiently restraining the warp developed when sintering material target, especially ceramics target is sintered. - 特許庁

合金作製にあたっての製造容易さ、スパッタリングターゲットとして使用する場合のスパッタリング工程における安定性、簡易性を向上させた薄膜形成用スパッタリングターゲット材を提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target material for forming a thin film, which improves manufacturing easiness in a step of manufacturing an alloy, and stability and simplicity in a sputtering step when using it for a sputtering target. - 特許庁

磁界の移動によってプラズマ収束部も移動し、ターエゲット１５のエロージョン状態が均一になるために、ターゲット利用効率が向上する。例文帳に追加

As the magnetic field is moved, a plasma condensing unit is also moved, the erosion state of the target 15 becomes uniform, and the target utilization efficiency is enhanced. - 特許庁

語形変化のあるターゲット言語へ翻訳する際の翻訳精度を向上できるターゲット言語の語形変化モデル（ＴＬＷＩモデル）を構築する方法及び装置。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for constructing a target language word inflection model (TLWI model) which can improve translation precision when translating into a target language having word inflections. - 特許庁