「さんかけいそ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

二酸化珪素という化合物例文帳に追加

a chemical compound called silicon dioxide  - EDR日英対訳辞書

二酸化珪素被膜の形成方法例文帳に追加

FORMING METHOD OF SILICON DIOXIDE FILM - 特許庁

二酸化珪素膜付き基板例文帳に追加

SUBSTRATE HAVING SILICON DIOXIDE FILM THEREON - 特許庁

酸化珪素粉末の製造装置例文帳に追加

DEVICE FOR MANUFACTURING SILICON OXIDE POWDER - 特許庁

酸化珪素粉末の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING SILICON OXIDE POWDER - 特許庁

酸化珪素被膜の形成法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING SILICON OXIDE FILM - 特許庁

酸化物結合炭化珪素質材料例文帳に追加

OXIDE BONDED SILICON CARBIDE-BASED MATERIAL - 特許庁

酸化珪素の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING SILICON OXIDE - 特許庁

厚膜二酸化ケイ素の被覆方法例文帳に追加

METHOD FOR COATING WITH THICK-FILM SILICON DIOXIDE - 特許庁

酸窒化ケイ素膜の形成方法例文帳に追加

METHOD OF FORMING SILICON OXYNITRIDE FILM - 特許庁

酸化珪素層の形成方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING SILICON OXIDE LAYER - 特許庁

酸化珪素系部材を接触させる。例文帳に追加

They are contacted. - 特許庁

酸化ケイ素薄膜の形成方法例文帳に追加

PROCESS FOR FORMING SILICON OXIDE THIN FILM - 特許庁

酸化珪素膜の成膜方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING SILICON OXIDE FILM - 特許庁

酸化珪素粉末の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING SILICON OXIDE POWDER - 特許庁

二酸化珪素被膜の形成方法例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING SILICON DIOXIDE FILM - 特許庁

二酸化珪素被膜の形成方法例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING SILICON DIOXIDE COATING FILM - 特許庁

酸化珪素被膜の形成法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING SILICON OXIDE COAT - 特許庁

酸化珪素膜の製造方法例文帳に追加

METHOD OF PRODUCING SILICON OXIDE FILM - 特許庁

酸化珪素膜の製造方法例文帳に追加

SILICON NITRIDE FILM MANUFACTURING METHOD - 特許庁

二酸化ケイ素膜の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING SILICON DIOXIDE FILM - 特許庁

三ハロゲン化一フッ化珪素の製造方法、三ハロゲン化一フッ化珪素例文帳に追加

PRODUCTION PROCESS FOR SILICON TRIHALOGENOMONOFLUORIDE AND SILICON TRIHALOGENOMONOFLUORIDE - 特許庁

この排気筒３１には、一酸化珪素を除去するための一酸化珪素除去材３６が設けられている。例文帳に追加

In these exhaust pipes 31 silicon monoxide removers 36 are filled in. - 特許庁

水素をつくりたければ、 亜鉛のかけらと硫酸か塩酸で作れます。例文帳に追加

If you want to make hydrogen, you can make it easily from bits of zinc, and sulphuric or muriatic acid.  - Michael Faraday『ロウソクの科学』

熱分解法により製造した二酸化珪素、該二酸化珪素を含有する分散液及びその使用例文帳に追加

SILICON DIOXIDE PREPARED BY PYROLYSIS PROCESS, DISPERSION CONTAINING THIS SILICON DIOXIDE AND ITS USE - 特許庁

さらに、酸窒化硼素の層と酸窒化珪素の層との間に酸窒化珪素硼素を配置することが好ましい。例文帳に追加

It is also preferable to arrange silicon boron oxynitride between the boron oxynitride layer and the silicon oxynitride layer. - 特許庁

また、酸化珪素膜３と酸化珪素膜４とは、それぞれ水に対する接触角が１０°以下であった。例文帳に追加

Contact angles of the silicon oxide films 3 and 4 with water are both 10° or less. - 特許庁

窒化ケイ素のエッチング率を酸化ケイ素のエッチング率よりも低くする。例文帳に追加

To reduce the wet etching rate of silicon nitride lower than the silicon oxide. - 特許庁

二百三十六　二酸化ケイ素（別名シリカゲル）例文帳に追加

236. Silicon Dioxide  - 日本法令外国語訳データベースシステム

酸化チタン−酸化珪素複合膜の製造方法例文帳に追加

PRODUCTION OF TITANIUM OXIDE-SILICON OXIDE MULTIPLE FILM - 特許庁

金属酸化物としては、酸化珪素等が使用される。例文帳に追加

Silicon dioxide or the like is used as the metal oxide. - 特許庁

生産性の高い炭化珪素半導体装置を得る。例文帳に追加

To provide a silicon carbide semiconductor device with high productivity. - 特許庁

装置内の圧力は、１．３３×１０^-2〜１．３３×１０^2 Ｐａであることが好ましい。例文帳に追加

A pressure in the device is 1.33×10^-2 to 1.33×10^2 Pa. - 特許庁

本発明は、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸化ケイ素、炭素ドープ窒化ケイ素、炭素ドープ酸化ケイ素、炭素ドープ酸窒化フィルムを低い堆積温度で形成する方法を開示する。例文帳に追加

To provide a method of forming silicon nitride, silicon oxynitride, silicon oxide, carbon-doped silicon nitride, carbon-doped silicon oxide and carbon-doped oxynitride films at low deposition temperatures. - 特許庁

酸化珪素膜又は酸化窒化珪素膜を形成する工程と、前記酸化珪素膜又は酸化窒化珪素膜上に窒化珪素膜を形成する工程と、を大気に曝すことなく連続的に行うことを特徴とする。例文帳に追加

The method successively carries out the steps, without being exposed to the air, of forming a silicon oxide film or a silicon-oxide-nitride film and of forming a silicon nitride film over the silicon oxide film or the silicon oxide nitride film. - 特許庁

そして、炭化珪素成形体１６を加熱する際に発生する一酸化珪素は、一酸化珪素除去材３６で除去される。例文帳に追加

And silicon monoxide generated when the silicon carbide molded form 16 is heated can be removed by the silicon monoxide remover 36. - 特許庁

二酸化珪素膜５１の形成後、ＣＶＤ法により、二酸化珪素膜５１上に酸窒化珪素膜６１を形成する。例文帳に追加

After the silicon dioxide film 51 is formed, a silicon oxynitride film 61 is formed on the silicon dioxide film 51 by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method. - 特許庁

金属−窒化ケイ素、酸化ケイ素、又は酸窒化ケイ素のＡＬＤ／ＣＶＤ用のＴｉ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｚｒ及び関連する金属のケイ素アミド例文帳に追加

TI, TA, HF, ZR AND RELATED METAL SILICON AMIDES FOR ALD/CVD OF METAL-SILICON NITRIDE, SILICON OXIDE OR SILICON OXYNITRIDE - 特許庁

さらに可溶性ケイ素化合物を含むものは、酸化ケイ素の析出がなくなおかつ酸化ケイ素に対する窒化ケイ素のエッチング選択比も高い。例文帳に追加

Further, by the etching composition comprising a soluble silicon compound, there will be no precipitation of the silicon oxide and etching selectivity for silicon nitride to silicon oxide is high as well. - 特許庁

陽極酸化膜３４は、二酸化ケイ素膜２６によって覆われている。例文帳に追加

An anode oxidation film 34 is covered with a silicon dioxide film 26. - 特許庁

表面変性された二酸化ケイ素−二酸化チタン混合酸化物例文帳に追加

SURFACE-MODIFIED SILICON-TITANIUM MIXED DIOXIDE - 特許庁

陽極酸化膜３２は、二酸化ケイ素膜２６によって覆われている。例文帳に追加

The anodic oxidation film 32 is covered with a silicon dioxide film 26. - 特許庁

（１）Ａ層は二酸化チタン、硫酸バリウムおよび二酸化珪素の３種類の無機粒子を含有すること。例文帳に追加

(1) A layer contains three kinds of inorganic particles of titanium dioxide, barium sulfate and silicon dioxide. - 特許庁

炭化珪素酸化時の炭素の発生を抑制し、良好な炭化珪素/シリコン酸化膜界面を得る。例文帳に追加

To obtain an excellent silicon carbide/silicon oxide film interface by suppressing generation of carbon in silicon carbide oxidization. - 特許庁

二酸化ケイ素転化膜及びパタ−ン状二酸化ケイ素転化膜の形成方法例文帳に追加

SILICON DIOXIDE CONVERSION FILM AND METHOD OF FORMING PATTERNED SILICON DIOXIDE CONVERSION FILM - 特許庁