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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > ジエトキシに関連した英語例文

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ジエトキシを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 22



例文

ジエトキシル化ビスフェノールAに代表される特定化合物を0.5重量%から100重量%まで、および、ジエトキシル化レゾルシノールに代表される特定化合物を0重量%から95.5%までを含む組成物。例文帳に追加

The chain extender is composed of 0.5-100 wt.% specific compound represented by diethoxylated bisphenol A, and 0-95.5 wt.% specific compound represented by diethoxylated resorcinol. - 特許庁

シリカ粒子の水性分散液を塩基性条件下でジメチルジエトキシシランなどのジアルキルジアルコキシシラン単量体と混合する。例文帳に追加

An aq. dispersion liquid of silica particles is mixed with a dialkyldialkoxy silane monomer such as dimethyl diethoxy silane under basic condition. - 特許庁

本発明の薬剤は、6−[2−(3,4−ジエトキシフェニル)チアゾール−4−イル]ピリジン−2−カルボン酸又はその塩を含有する。例文帳に追加

The medicine comprises 6-[2-(3,4-diethoxyphenyl)thiazol-4-yl]pyridine-2-carboxylic acid or its salt. - 特許庁

前記鎖状エーテル化合物としては、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、2−(2−メトキシエトキシ)−1,1,1−トリフルオロエタンが使用できる。例文帳に追加

As for the chain ether compounds, di-methoxyethane, di-ethoxyethane, and 2-(2-methoxyethoxy)-1,1,1-tri-fluoroethane are used. - 特許庁

例文

ジエトキシピリミジンの配合量は、電解液全体に対して0.10〜5.00wt%の範囲が好ましい。例文帳に追加

The blending amount of the diethoxipyrimidine is preferably in a range of 0.10-5.00 wt.% for the entire electrolyte. - 特許庁


例文

ジエトキシメチルシランを含む別の組成物と混合した場合に収率好ましからざる塩化物塩沈殿を与えないジエトキシメチルシランを含む有機ケイ素組成物、溶解残留塩化物の濃度、および溶解残留塩化物捕集剤の濃度を与える。例文帳に追加

The organosilicon composition comprising diethoxymethylsilane, which gives no chloride salt precipitate unpreferable to yield rate when mixed with another composition comprising diethoxymethylsilane, is limited in concentrations of dissolved residual chloride and dissolved residual chloride scavenger. - 特許庁

ジエトキシメチルシラン、ジエトキシメチルシランを含む別の組成物と混合した場合に、好ましからざる塩化物塩沈殿を与えないある濃度の溶解残留塩化物およびある濃度の溶解残留塩化物捕集剤を含む有機ケイ素組成物を提供する。例文帳に追加

There is provided the organosilicon composition containing diethoxymethylsilane, a concentration of dissolved residual chloride and a concentration of dissolved residual chloride scavenger that do not yield an unwanted chloride salt precipitate when mixed with another composition containing diethoxymethylsilane. - 特許庁

炭酸プロピレンを40〜80重量%と、アジピン酸ジイソプロピル、アジピン酸ジイソブチル及びコハク酸ジエトキシエチルからなる群から選ばれる一種又は二種以上を10〜50重量%とを含有するネイルエナメルリムーバ。例文帳に追加

The nail enamel remover contains 40-80 wt.% propylene carbonate and 10-50 wt.% one or more components selected from diisopropyl adipate, diisobutyl adipate and diethoxyethyl succinate. - 特許庁

シラン化合物としては例えばメチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、テトラエトキシシラン等のアルコキシシランが、又、導電助剤としてはカーボンブラック等があげられる。例文帳に追加

For example, alkoxysilane like methyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, or tetraethoxysilane is used as a silane compound, and carbon black or the like is used as the conduction supporting agent. - 特許庁

例文

(A)水、(B)ポリオキシエチレン脂肪酸グリセリル、(C)コハク酸ジエトキシエチル、(D)ポリエーテル変性シリコーン、並びに(E)直鎖状シリコーンおよび/又は環状シリコーンを含有してなる水性クレンジング化粧料とする。例文帳に追加

The aqueous cleansing cosmetic includes (A) water, (B) a polyoxyethylene glyceryl fatty acid ester, (C) diethoxyethyl succinate, (D) a polyether-modified silicone, and (E) a straight chain silicone and/or a cyclic silicone. - 特許庁

例文

界面活性剤を使用せず水、月桃水の一種又は二種の合計が0.1〜4重量%と、コハク酸ジエトキシエチルが50重量%以上を含有することを特長とするモイスチャー美爪料。例文帳に追加

The moisturizing nail beautifying cosmetic is characterized by including 0.1-4 wt.% of total of one or two kinds of Gettou (alpinia zerumbet) water, and 50 wt.% or more of diethoxydiethyl succinate. - 特許庁

前記二塩基酸のエステルは、ジエトキシエチルアジペートが好ましく、前記球状の粉体は、シリカ、ナイロン、アクリル酸樹脂粉体、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム及び炭酸カルシウムから選択される1種乃至は2種以上が好ましい。例文帳に追加

The dibasic acid ester is preferably diethoxyethyl adipate, the spherical powder is preferably one or more kinds selected from silica, nylon, acrylic resin powder, calcium silicate, magnesium silicate and calcium carbonate. - 特許庁

フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等のアリール基含有シラン化合物で表面処理され、シリカ被覆されたた複合被覆アルミニウム顔料、および該アルミニウム顔料を含有する水性塗料、水性インキ。例文帳に追加

The multicoated aluminum pigment is surface-treated with an aryl group-containing silane compound such as phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldimethoxysilane and diphenyldiethoxysilane and coated with silica, and a water-based paint and a water-based ink contain the aluminum pigment. - 特許庁

アルミニウム電解コンデンサ用の駆動用電解液において、エチレングリコール等を主成分とする溶媒に、安息香酸、ギ酸、アジピン酸、セバシン酸等のカルボン酸またはそのアンモニウム、ジメチルアミン等の塩と、以下の化学式で示されるジエトキシピリミジンとを配合する。例文帳に追加

In the electrolyte for driving the aluminum electrolytic capacitor, carboxylic acid such as benzoic acid, formic acid, adipic acid, sebacic acid or ammonium thereof, salt such as dimethylamine and diethoxipyrimidine represented by a chemical formula (1) are blended to a solvent mainly containing ethylene glycol. - 特許庁

ハロゲン元素を含有しないホスファゼン系化合物の含有量はポリオール100重量部に対し1〜20重量部であり、ハロゲン元素を含有しないホスファゼン系化合物は具体的には、ジエトキシホスフィニルホスホロイミディックトリエトキシドである。例文帳に追加

The content of the phosphazene compound containing no halogen element is 1-20 pts.wt. based on 100 pts.wt. polyol, and the phosphazene compound is diethoxyphosphinylphosphoroimidic triethoxide. - 特許庁

2−イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体と1,4−ジエトキシナフタレン等のナフタレン誘導体からなる光増感剤とすることで、チオキサントン誘導体を単独で用いるよりも増感効果の優れた光増感剤が得られる。例文帳に追加

The photosensitizer more excellent in sensitizing effect than that of a photosensitizer using a thioxanthone derivative singly is produced by forming a photosensitizer comprising a thioxanthone derivative such as a 2-isopropyl thioxanthone or the like and a naphthalene derivative such as a 1,4-diethoxy naphthalene or the like in combination. - 特許庁

ポリオキシエチレンジカルボン酸エステルのうち、コハク酸ジエトキシエチルを用い、該含有量が化粧料全量に対して0.1〜30.0重量%であり、pH緩衝剤の含有量が化粧料全量に対して0.1〜10重量%を含有する化粧料である。例文帳に追加

The cosmetic uses diethoxyethyl succinate in the dicarboxylic acid ester of the polyoxyethylene in a proportion of 0.1-30.0 wt.% based on the whole amount of the cosmetic, and contains 0.1-10 wt.% pH buffer based on the total amount of the cosmetic. - 特許庁

前記組成物において、(C)が、クエン酸トリエチル、コハク酸ジエトキシエチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジメチル、ミリスチン酸イソプロピル、アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジイソブチル、ジプロピレングリコール、プロピレングリコールからなる群より選択される1種又は2種以上、特にクエン酸トリエチルであることが好適である。例文帳に追加

In the composition, the component (c) is preferably one or more kinds selected from the group consisting of triethyl citrate, diethoxyethyl succinate, diethyl phthalate, dimethyl phthalate, isopropyl myristate, dibutyl adipate, diisobutyl adipate, dipropylene glycol and propylene glycol, especially preferably triethyl citrate. - 特許庁

(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤触媒として、(a)有機基を有するアルミニウム化合物、例えばアルミニウムトリスアセチルアセトネートなど、および(b)Siに直結したOH基もしくは加水分解性基を分子内に1個以上有するシリコーン化合物またはオルガノシラン化合物、例えばジフェニルジエトキシシランなど、および(C)絶縁性粉末を必須成分としてなることを特徴とする絶縁性ペーストである。例文帳に追加

The insulation paste comprises at least, as (A) epoxy resin and (B) hardening catalyst, (a) aluminium compound having organic radicals, for example, aluminium trisacetylacetonate, and (b) silicone compound or organosilane compound, for example, diphenylgetoxisilane, having at least one OH radical which is directly combined to Si or one hydrolyzation radical in the molecule, and (C) insulator powder. - 特許庁

非水電解液は、リチウム塩(A)と、炭素数が4以下の直鎖状アルキル基を含む第4級アンモニウム塩(B)と、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、ジメチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジメトキシエタン、エトキシメトキシエタン、およびジエトキシエタンからなる群より選択された少なくとも1種の化合物からなる溶媒(C)とを含む。例文帳に追加

The non-aqueous electrolytic solution contains lithium salt (A), quarternary ammonium salt (B) containing 4C or less of straight chain alkyl group, and solvent (C) composed of at least one kind of compound selected from ethylene carbonate, propylene carbonate, butylene carbonate, γ-butyrolactone, dimethyl carbonate, ethyl-methyl carbonate, diethyl carbonate, dimethoxyethane, ethoxy-methoxy ethane, and ethoxyethane. - 特許庁

架橋可能な加水分解性シリル基を末端に有する(メタ)アクリル酸エステル系重合体であって、架橋可能な加水分解性シリル基が、トリエトキシシリル基、ジエトキシシリル基及びジメトキシシリル基から選ばれる少なくとも1つであり、1分子中に数平均で上記加水分解性シリル基を1.2〜4.0個の範囲で有する、(メタ)アクリル酸エステル系重合体である。例文帳に追加

The (meth)acrylic acid ester-based polymer containing a crosslinkable, hydrolyzable silyl group on the end is a (meth)acrylic acid ester-based polymer in which the crosslinkable, hydrolyzable silyl group is at least one selected from a triethoxysilyl group, a diethoxysilyl group and a dimethoxysilyl group and which contains 1.2-4.0 of the hydrolyzable silyl group on the average of number in one molecule. - 特許庁

例文

プラズマCVD法によって層間絶縁膜IL2を形成する際にCVD装置内に供給するポロジェンの流量を、ポロジェンおよびメチルジエトキシシランの合計の流量の30%以上60%以下とすることで、層間絶縁膜IL2内に形成される空孔10の大きさを小さくし、プロセスダメージによって層間絶縁膜IL2の表面に変質層CLが形成されることを防ぐ。例文帳に追加

When an interlayer insulation film LI2 is formed by a plasma CVD method, the flow rate of porogen supplied into a CVD device is adjusted to 30% or more but not exceeding 60% of the total flow rate of porogen and methyl diethoxysilane to reduce the size of holes 10 formed within the interlayer insulation film LI2, thereby preventing an altered layer CL from being formed on the surface of the interlayer insulation film LI2 by process damage. - 特許庁

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