例文 (999件) |
理温の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 16655件
半導体処理装置用温度センサー及び熱電対例文帳に追加
TEMPERATURE SENSOR AND THERMOCOUPLE FOR PROCESSING UNIT OF SEMICONDUCTOR - 特許庁
半導体集積回路の温度管理回路例文帳に追加
TEMPERATURE CONTROL CIRCUIT FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁
ガス温調器,その制御方法および熱処理装置例文帳に追加
GAS TEMPERATURE REGULATOR, ITS CONTROL METHOD AND HEAT TREATMENT APPARATUS - 特許庁
温度検知機能付き加熱調理装置とそのプログラム例文帳に追加
HEATING COOKING APPARATUS WITH TEMPERATURE DETECTION FUNCTION AND ITS PROGRAM - 特許庁
ガスタービンエンジン温度管理の方法及び装置例文帳に追加
METHOD AND APPARATUS FOR GAS TURBINE ENGINE TEMPERATURE MANAGEMENT - 特許庁
臭気ガス・廃油燃焼及び温風排出処理装置例文帳に追加
ODOR GAS/WASTE OIL COMBUSTION AND WARM AIR DISCHARGING PROCESSING DEVICE - 特許庁
低温下における半導体フィルムの加熱処理装置例文帳に追加
DEVICE FOR HEATING AND PROCESSING SEMICONDUCTOR FILM AT LOW TEMPERATURE - 特許庁
半導体処理システム内の温度を制御する装置例文帳に追加
APPARATUS FOR CONTROLLING TEMPERATURE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING SYSTEM - 特許庁
半導体ウエハ熱処理炉用の測温ウエハ例文帳に追加
TEMPERATURE MEASURING WAFER FOR HEAT TREATMENT FURNACE FOR SEMICONDUCTOR WAFER - 特許庁
プラズマ処理装置内のウェハ温度制御方法例文帳に追加
METHOD OF WAFER TEMPERATURE CONTROL IN PLASMA PROCESSING APPARATUS - 特許庁
ガスタービン入口の温度管理システム及び方法例文帳に追加
SYSTEM AND METHOD FOR THERMAL MANAGEMENT OF GAS TURBINE INLET - 特許庁
プロセス温度が室温程度の低い温度帯域でプラズマ処理する際に、そのプロセス温度を低く維持してプラズマ成膜処理等のプラズマ処理の再現性を向上させることが可能なプラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加
To provide a plasma processing apparatus that improves reproducibility of plasma processing such as a plasma deposition processing, by maintaining a low process temperature, when carrying out the plasma processing under the process temperature at a low temperature range of about room temperature. - 特許庁
焼却飛灰等の無害化処理方法(低温)例文帳に追加
DETOXICATING PROCESSING METHOD (LOW TEMPERATURE) OF INCINERATION FLY ASH OR THE LIKE - 特許庁
物理量は、圧力、温度、その他を含むことがある。例文帳に追加
The physical value sometimes contains pressure, temperature, etc. - 特許庁
基板温度制御機構及び真空処理装置例文帳に追加
SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROL MECHANISM AND VACUUM PROCESSING APPARATUS - 特許庁
温度測定装置、チャックモニター及びプラズマ処理装置例文帳に追加
TEMPERATURE-MEASURING APPARATUS, CHUCK MONITOR, AND PLASMA PROCESSING DEVICE - 特許庁
検知シート、温度測定システム、および、熱処理装置例文帳に追加
DETECTION SHEET, TEMPERATURE MEASURING SYSTEM, AND HEAT TREATMENT APPARATUS - 特許庁
基板載置台、基板処理装置、および温度制御方法例文帳に追加
SUBSTRATE MOUNTING TABLE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND TEMPERATURE CONTROL METHOD - 特許庁
2重安全装置付液面管理自動温度調節器例文帳に追加
LIQUID FACE CONTROL AUTOMATIC THERMOREGULATOR WITH DOUBLE SAFETY DEVICE - 特許庁
シリコン基板の高速昇降温処理(RTP)方法例文帳に追加
METHOD FOR RAPID THERMAL PROCESSING (RTP) OF SILICON SUBSTRATE - 特許庁
高温基板処理用の粗面サセプタ例文帳に追加
ROUGH SIDE SUSCEPTOR FOR HIGH-TEMPERATURE SUBSTRATE PROCESSING - 特許庁
基板温度制御方法及びプラズマ処理装置例文帳に追加
SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROL METHOD AND PLASMA PROCESSING APPARATUS - 特許庁
常温酸化防止処理された急膨張金属混合物例文帳に追加
RAPID EXPANSION METAL MIXTURE SUBJECTED TO COLD OXIDATION PREVENTION TREATMENT - 特許庁
急速温度勾配コントロールによる基板処理例文帳に追加
SUBSTRATE PROCESSING BY RAPID TEMPERATURE GRADIENT CONTROL - 特許庁
ウェーハは、加熱時間間隔の間、第1の処理温度から第2の処理温度まで加熱され、次に、冷却時間間隔の間、第2の処理温度から第1の処理温度まで冷却される。例文帳に追加
The wafer is heated from a first processing temperature to a second processing temperature during a heating time interval, and cooled from the second processing temperature to the first processing temperature during a cooling time interval. - 特許庁
液晶パネル処理用温風オーブン例文帳に追加
制御装置、温度調節器および熱処理装置例文帳に追加
CONTROLLER, THERMOREGULATOR AND THERMAL TREATMENT EQUIPMENT - 特許庁
湿式酸化処理装置における温度制御装置例文帳に追加
TEMPERATURE CONTROLLER FOR WET PROCESS OXIDATION TREATMENT EQUIPMENT - 特許庁
温度センサー付きガス調理器用の加熱容器例文帳に追加
HEATING VESSEL FOR GAS COOKER WITH TEMPERATURE SENSOR - 特許庁
半導体ウェハ熱処理炉用断熱保温治具例文帳に追加
HEAT INSULATION HEAT INSULATING TOOL FOR SEMICONDUCTOR WAFER HEAT-TREATMENT FURNACE - 特許庁
真空処理装置およびウェハ温度復帰方法例文帳に追加
VACUUM PROCESSING DEVICE AND WAFER TEMPERATURE RETURNING METHOD - 特許庁
温度制御方法及びプラズマ処理システム例文帳に追加
TEMPERATURE CONTROL METHOD AND PLASMA PROCESSING SYSTEM - 特許庁
枚葉式半導体基板処理リアクタの温度制御例文帳に追加
TEMPERATURE CONTROL OF SHEET-FED SEMICONDUCTOR-SUBSTRATE PROCESSING REACTOR - 特許庁
Ti−Al系合金の耐高温酸化処理方法例文帳に追加
METHOD OF ANTI HIGH TEMPERATURE OXIDATION TREATMENT FOR Ti-Al ALLOY - 特許庁
温度管理シートおよびその製造方法例文帳に追加
TEMPERATURE MANAGEMENT SHEET AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
温度測定装置及びプラズマ処理装置例文帳に追加
TEMPERATURE MEASURING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING APPARATUS - 特許庁
温室効果ガス排出係数管理装置例文帳に追加
自動分析装置と液体試料の温度管理方法例文帳に追加
AUTOMATIC ANALYSIS APPARATUS AND TEMPERATURE MANAGEMENT METHOD OF LIQUID SAMPLE - 特許庁
中央処理装置の温度制御回路例文帳に追加
TEMPERATURE CONTROL CIRCUIT OF CENTRAL PROCESSING UNIT - 特許庁
高温部ガスタービン部材の修理方法例文帳に追加
REPAIRING METHOD FOR HIGH TEMPERATURE PART OF GAS TURBINE MEMBER - 特許庁
基板載置台、基板処理装置、及び温度制御方法例文帳に追加
BOARD PLACING TABLE, BOARD PROCESSING APPARATUS AND TEMPERATURE CONTROLLING METHOD - 特許庁
処理液の温度制御方法及びその装置例文帳に追加
PROCESSING LIQUID TEMPERATURE CONTROL METHOD AND APPARATUS - 特許庁
調理具用温度検出具とその固定筒例文帳に追加
TEMPERATURE DETECTING TOOL FOR KITCHEN UTENSILS AND ITS FIXING TUBE - 特許庁
加温装置及びこれを備えた有機排水処理システム例文帳に追加
HEATING APPARATUS, AND ORGANIC WASTE WATER TREATMENT SYSTEM PROVIDED THEREWITH - 特許庁
被処理体や処理空間の温度を速やかに且つ精密に温度制御でき、多様な被処理体や処理空間の温度制御に適用可能な小型の温度制御装置を提供する。例文帳に追加
To provide a small temperature controller which can control a temperature of a processed element and a processed space immediately and precisely and is applicable for controlling temperatures of a variety of processed elements and processed spaces. - 特許庁
赤外線式温度センサおよびそれを用いた電磁調理器例文帳に追加
INFRARED TEMPERATURE SENSOR, AND ELECTROMAGNETIC RANGE USING THE SAME - 特許庁
屋内雪層施設の雪面温度管理装置例文帳に追加
SNOW SURFACE TEMPERATURE CONTROL DEVICE FOR INDOOR SNOW LAYER INSTALLATION - 特許庁
情報処理装置の温度センサー装置例文帳に追加
TEMPERATURE SENSOR DEVICE FOR INFORMATION PROCESSOR - 特許庁
ウエハ処理システムの温度測定装置例文帳に追加
TEMPERATURE MEASURING APPARATUS OF WAFER PROCESSING SYSTEM - 特許庁
2CD型空気圧縮機の温度管理システム例文帳に追加
TEMPERATURE MANAGEMENT SYSTEM FOR 2CD TYPE AIR COMPRESSOR - 特許庁
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