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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 理温に関連した英語例文

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理温の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 16655



例文

半導体処装置用度センサー及び熱電対例文帳に追加

TEMPERATURE SENSOR AND THERMOCOUPLE FOR PROCESSING UNIT OF SEMICONDUCTOR - 特許庁

半導体集積回路の度管回路例文帳に追加

TEMPERATURE CONTROL CIRCUIT FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁

ガス調器,その制御方法および熱処装置例文帳に追加

GAS TEMPERATURE REGULATOR, ITS CONTROL METHOD AND HEAT TREATMENT APPARATUS - 特許庁

度検知機能付き加熱調装置とそのプログラム例文帳に追加

HEATING COOKING APPARATUS WITH TEMPERATURE DETECTION FUNCTION AND ITS PROGRAM - 特許庁

例文

ガスタービンエンジン度管の方法及び装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR GAS TURBINE ENGINE TEMPERATURE MANAGEMENT - 特許庁


例文

臭気ガス・廃油燃焼及び風排出処装置例文帳に追加

ODOR GAS/WASTE OIL COMBUSTION AND WARM AIR DISCHARGING PROCESSING DEVICE - 特許庁

下における半導体フィルムの加熱処装置例文帳に追加

DEVICE FOR HEATING AND PROCESSING SEMICONDUCTOR FILM AT LOW TEMPERATURE - 特許庁

半導体処システム内の度を制御する装置例文帳に追加

APPARATUS FOR CONTROLLING TEMPERATURE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING SYSTEM - 特許庁

半導体ウエハ熱処炉用の測ウエハ例文帳に追加

TEMPERATURE MEASURING WAFER FOR HEAT TREATMENT FURNACE FOR SEMICONDUCTOR WAFER - 特許庁

例文

プラズマ処装置内のウェハ度制御方法例文帳に追加

METHOD OF WAFER TEMPERATURE CONTROL IN PLASMA PROCESSING APPARATUS - 特許庁

例文

ガスタービン入口の度管システム及び方法例文帳に追加

SYSTEM AND METHOD FOR THERMAL MANAGEMENT OF GAS TURBINE INLET - 特許庁

プロセス度が室程度の低い度帯域でプラズマ処する際に、そのプロセス度を低く維持してプラズマ成膜処等のプラズマ処の再現性を向上させることが可能なプラズマ処装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing apparatus that improves reproducibility of plasma processing such as a plasma deposition processing, by maintaining a low process temperature, when carrying out the plasma processing under the process temperature at a low temperature range of about room temperature. - 特許庁

焼却飛灰等の無害化処方法(低例文帳に追加

DETOXICATING PROCESSING METHOD (LOW TEMPERATURE) OF INCINERATION FLY ASH OR THE LIKE - 特許庁

量は、圧力、度、その他を含むことがある。例文帳に追加

The physical value sometimes contains pressure, temperature, etc. - 特許庁

基板度制御機構及び真空処装置例文帳に追加

SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROL MECHANISM AND VACUUM PROCESSING APPARATUS - 特許庁

度測定装置、チャックモニター及びプラズマ処装置例文帳に追加

TEMPERATURE-MEASURING APPARATUS, CHUCK MONITOR, AND PLASMA PROCESSING DEVICE - 特許庁

検知シート、度測定システム、および、熱処装置例文帳に追加

DETECTION SHEET, TEMPERATURE MEASURING SYSTEM, AND HEAT TREATMENT APPARATUS - 特許庁

基板載置台、基板処装置、および度制御方法例文帳に追加

SUBSTRATE MOUNTING TABLE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND TEMPERATURE CONTROL METHOD - 特許庁

2重安全装置付液面管自動度調節器例文帳に追加

LIQUID FACE CONTROL AUTOMATIC THERMOREGULATOR WITH DOUBLE SAFETY DEVICE - 特許庁

シリコン基板の高速昇降(RTP)方法例文帳に追加

METHOD FOR RAPID THERMAL PROCESSING (RTP) OF SILICON SUBSTRATE - 特許庁

基板処用の粗面サセプタ例文帳に追加

ROUGH SIDE SUSCEPTOR FOR HIGH-TEMPERATURE SUBSTRATE PROCESSING - 特許庁

基板度制御方法及びプラズマ処装置例文帳に追加

SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROL METHOD AND PLASMA PROCESSING APPARATUS - 特許庁

酸化防止処された急膨張金属混合物例文帳に追加

RAPID EXPANSION METAL MIXTURE SUBJECTED TO COLD OXIDATION PREVENTION TREATMENT - 特許庁

急速度勾配コントロールによる基板処例文帳に追加

SUBSTRATE PROCESSING BY RAPID TEMPERATURE GRADIENT CONTROL - 特許庁

ウェーハは、加熱時間間隔の間、第1の処理温度から第2の処理温度まで加熱され、次に、冷却時間間隔の間、第2の処理温度から第1の処理温度まで冷却される。例文帳に追加

The wafer is heated from a first processing temperature to a second processing temperature during a heating time interval, and cooled from the second processing temperature to the first processing temperature during a cooling time interval. - 特許庁

液晶パネル処風オーブン例文帳に追加

WARM AIR OVEN FOR PROCESSING LIQUID CRYSTAL PANEL - 特許庁

制御装置、度調節器および熱処装置例文帳に追加

CONTROLLER, THERMOREGULATOR AND THERMAL TREATMENT EQUIPMENT - 特許庁

湿式酸化処装置における度制御装置例文帳に追加

TEMPERATURE CONTROLLER FOR WET PROCESS OXIDATION TREATMENT EQUIPMENT - 特許庁

度センサー付きガス調器用の加熱容器例文帳に追加

HEATING VESSEL FOR GAS COOKER WITH TEMPERATURE SENSOR - 特許庁

半導体ウェハ熱処炉用断熱保治具例文帳に追加

HEAT INSULATION HEAT INSULATING TOOL FOR SEMICONDUCTOR WAFER HEAT-TREATMENT FURNACE - 特許庁

真空処装置およびウェハ度復帰方法例文帳に追加

VACUUM PROCESSING DEVICE AND WAFER TEMPERATURE RETURNING METHOD - 特許庁

度制御方法及びプラズマ処システム例文帳に追加

TEMPERATURE CONTROL METHOD AND PLASMA PROCESSING SYSTEM - 特許庁

枚葉式半導体基板処リアクタの度制御例文帳に追加

TEMPERATURE CONTROL OF SHEET-FED SEMICONDUCTOR-SUBSTRATE PROCESSING REACTOR - 特許庁

Ti−Al系合金の耐高酸化処方法例文帳に追加

METHOD OF ANTI HIGH TEMPERATURE OXIDATION TREATMENT FOR Ti-Al ALLOY - 特許庁

度管シートおよびその製造方法例文帳に追加

TEMPERATURE MANAGEMENT SHEET AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

度測定装置及びプラズマ処装置例文帳に追加

TEMPERATURE MEASURING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING APPARATUS - 特許庁

室効果ガス排出係数管装置例文帳に追加

GREENHOUSE GAS EJECTION COEFFICIENT MANAGEMENT DEVICE - 特許庁

自動分析装置と液体試料の度管方法例文帳に追加

AUTOMATIC ANALYSIS APPARATUS AND TEMPERATURE MANAGEMENT METHOD OF LIQUID SAMPLE - 特許庁

中央処装置の度制御回路例文帳に追加

TEMPERATURE CONTROL CIRCUIT OF CENTRAL PROCESSING UNIT - 特許庁

部ガスタービン部材の修方法例文帳に追加

REPAIRING METHOD FOR HIGH TEMPERATURE PART OF GAS TURBINE MEMBER - 特許庁

基板載置台、基板処装置、及び度制御方法例文帳に追加

BOARD PLACING TABLE, BOARD PROCESSING APPARATUS AND TEMPERATURE CONTROLLING METHOD - 特許庁

液の度制御方法及びその装置例文帳に追加

PROCESSING LIQUID TEMPERATURE CONTROL METHOD AND APPARATUS - 特許庁

調具用度検出具とその固定筒例文帳に追加

TEMPERATURE DETECTING TOOL FOR KITCHEN UTENSILS AND ITS FIXING TUBE - 特許庁

装置及びこれを備えた有機排水処システム例文帳に追加

HEATING APPARATUS, AND ORGANIC WASTE WATER TREATMENT SYSTEM PROVIDED THEREWITH - 特許庁

被処体や処空間の度を速やかに且つ精密に度制御でき、多様な被処体や処空間の度制御に適用可能な小型の度制御装置を提供する。例文帳に追加

To provide a small temperature controller which can control a temperature of a processed element and a processed space immediately and precisely and is applicable for controlling temperatures of a variety of processed elements and processed spaces. - 特許庁

赤外線式度センサおよびそれを用いた電磁調例文帳に追加

INFRARED TEMPERATURE SENSOR, AND ELECTROMAGNETIC RANGE USING THE SAME - 特許庁

屋内雪層施設の雪面度管装置例文帳に追加

SNOW SURFACE TEMPERATURE CONTROL DEVICE FOR INDOOR SNOW LAYER INSTALLATION - 特許庁

情報処装置の度センサー装置例文帳に追加

TEMPERATURE SENSOR DEVICE FOR INFORMATION PROCESSOR - 特許庁

ウエハ処システムの度測定装置例文帳に追加

TEMPERATURE MEASURING APPARATUS OF WAFER PROCESSING SYSTEM - 特許庁

例文

2CD型空気圧縮機の度管システム例文帳に追加

TEMPERATURE MANAGEMENT SYSTEM FOR 2CD TYPE AIR COMPRESSOR - 特許庁

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