「理温」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

冷却温度制御は、冷却されたゴム状シートの表面温度を時間ピッチ毎に測定して温度測定値をうる温度測定処理、予め設定される前記表面温度の基準温度範囲を記憶する温度記憶処理、及び前記基準温度範囲と、測定された前記測定温度値とに基づいて冷却ドラムのドラム温度を制御する冷却ドラム温度制御処理を含む。例文帳に追加

The chilling temperature control includes a temperature measuring treatment measuring a surface temperature of the cooled rubber-like sheet per temporal pitch to get a temperature measuring value, a temperature memory treatment for memory of a reference temperature span of the previously set surface temperature, and a cooling drum temperature control treatment controlling the drum temperature of the cooling drum on the basis of the reference temperature span and the measured temperature value. - 特許庁

生体温度よりも低温の所定温度（Ｔ）よりも低い温度では親水性であり、該所定温度よりも高い温度では疎水性となる温度応答性を有した還元性表面処理剤を提供する。例文帳に追加

To provide a reducing surface treatment agent having temperature responsibility which is hydrophilic when the temperature is lower than the predetermined temperature (T) which is lower than the living body temperature, and hydrophobic when the temperature is higher than T. - 特許庁

温度管理手段５は駆動体２が過熱する前に、温度（すなわち室温や、温度センサ６を用いて計測した計測温度、温度推定手段７によって推定した推定温度等）に基づいて駆動体２の駆動を抑制する。例文帳に追加

Before the driver 2 overheats, the temperature management means 5 suppresses driving of the motor 2 on the basis of the temperature (namely, a temperature measured by using a temperature sensor 6 or estimated by using a temperature estimating means 7). - 特許庁

磁性材料のキュリー温度を、加熱処理温度より低く、且つ、粒子補集温度よりも高い温度にすることもできる。例文帳に追加

It is possible to make the Curie temperature of the magnetic material lower than a temperature for heat treatment and higher than a temperature for collecting particles. - 特許庁

その後は，その基準温度と測定温度との温度差が前記設定温度以上に達したことを条件に，レジスト補正処理が実行される（Ｓ１）。例文帳に追加

Thereafter, on condition that a temperature difference between the reference temperature and measured temperature has reached the set temperature or above, the resist correction processing is executed (S1). - 特許庁

温度処理部12で、この温度と背景温度とを比較して温度差が規定値以上の場合、計測センサ11を起動する。例文帳に追加

A temperature processing part 12 compares the temperature with a background temperature and, when a temperature difference is over a specified value, starts a measurement sensor 11. - 特許庁

測定範囲が広範で室温測定と高温測定が同時に行なえるＳＡＷ温度計を用いた、室温管理及び火災報知システムを得る。例文帳に追加

To provide a room temperature management and a fire alarm system using a SAW thermometer simultaneously measuring a room temperature and a high temperature in a wide measuring range. - 特許庁

軟化温度がコアの軟化温度より１００から２５０℃低く、コアの軟化温度より５０から２００℃高い温度で処理される。例文帳に追加

The softening temperature is lower than that of the core by 100-250°C, and the processing is performed at a temperature of 50-200°C higher than at the softening temperature of the core. - 特許庁

ウェハ型温度センサとこれを用いた温度測定装置、温度測定機能を有する熱処理装置および温度測定方法例文帳に追加

WAFER-TYPE TEMPERATURE SENSOR, TEMPERATURE-MEASURING APPARATUS USING THE SAME, HEAT TREATMENT APPARATUS HAVING TEMPERATURE-MEASURING FUNCTION, AND TEMPERATURE-MEASURING METHOD - 特許庁

情報処理装置に、装置周囲の空気温度を取得するための温度センサ及びＣＰＵ温度を取得するための温度センサを設ける。例文帳に追加

The information processor is provided with a temperature sensor for acquiring an air temperature around the processor and a temperature sensor for acquiring a CPU temperature. - 特許庁

バッテリーの温度管理システムは、所定の温度以上の温度で溶解する温度ヒューズ３と、制御装置４とから構成される。例文帳に追加

The temperature control system of a battery comprises temperature fuses 3 that is to be melted at a temperature not less than a predetermined temperature, and a controller 4. - 特許庁

ウェハ型温度センサとこれを用いた温度測定装置、温度測定機能を有する熱処理装置および温度測定方法例文帳に追加

WAFER-TYPE TEMPERATURE SENSOR, TEMPERATURE MEASURING APPARATUS USING THE SAME, HEAT TREATMENT APPARATUS HAVING TEMPERATURE-MEASURING FUNCTION, AND TEMPERATURE-MEASURING METHOD - 特許庁

温度計の挿入及び抜取りが容易に行え、内容物の温度を厳格に管理することができる温度計付き保温容器を提供する。例文帳に追加

To provide a heat insulating container with a thermometer capable of easily inserting and removing the thermometer and strictly managing the temperature of contents. - 特許庁

温度調節器用多点出力器と、この温度調節器用多点出力器を用いた温度制御装置と、この温度制御装置を用いた熱処理装置例文帳に追加

MULTI-POINT OUTPUT APPARATUS FOR TEMPERATURE CONTROLLER AND THE TEMPERATURE CONTROLLING USING THE APPARATUS, AND HEAT TREATING DEVICE USING THE CONTROLLER - 特許庁

加熱調理工程は、少なくとも温度維持工程を含み、温度維持工程は、１００℃を超えない温度帯において略一定の温度に維持する。例文帳に追加

The cooking process includes at least temperature maintaining step, and in the temperature maintaining step, the temperature is maintained substantially at a fixed temperature in a temperature zone not exceeding 100°C. - 特許庁

この際加熱処理温度が採用材料の熱軟化温度の指標であるガラス転移温度を上回る温度であっても問題ない。例文帳に追加

In this case, there is no problem if the heat-treating temperature is a temperature exceeding a glass transition temperature which is an index of the heat softening temperature of an adopted material. - 特許庁

温度データ換算処理部２９は、温度センサ６によって検出された温度を、空調機を制御するための温度データに換算する。例文帳に追加

A temperature data conversion processing part 29 converts the temperature detected by the temperature sensor 6 to the temperature data for controlling the air conditioner. - 特許庁

ヒートポンプ式冷暖房機を利用した温室の温湿度管理システム及び温湿度管理方法において、より簡易な手段で効率よく温室の温湿度管理が実施できる技術を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a technology capable of efficiently managing a temperature and a humidity of a greenhouse by a simple means, in a temperature/humidity management system and a temperature/humidity management method of the greenhouse utilizing a heat pump-type heater/cooler. - 特許庁

本発明において、前記加熱処理が、前記単結晶を前記軸方向部分的に低温状態とする低温加熱処理と、前記軸方向部分的に前記低温状態よりも高温の部分高温加熱処理とを有する。例文帳に追加

The heat-treatment comprises a low-temperature heat-treatment through which the single crystal is axially partly brought to a low-temperature state and a partial high-temperature heat-treatment through which the single crystal is axially partly heated to a temperature higher than the low-temperature state. - 特許庁

器体内部の温度を検知する内部温度センサー９を設け、温度センサー９が検出する温度が調理容器８の温度と相関関係がない場合においても、調理容器８の温度がユーザが設定した温度に自動温度調節することとなる。例文帳に追加

The internal temperature sensor 9 to detect the temperature of the inside of the device body is provided, and even when the temperature detected by the temperature sensor 9 has no correlation with the temperature of a cooking vessel 8, the temperature of the cooking vessel 8 is automatically adjusted to a temperature set by a user. - 特許庁

基板処理装置において、制御定数を変更することなく温度管理対象または温度調節部に対する温度制御の精度を向上する。例文帳に追加

To improve accuracy of temperature control for temperature management object or temperature control unit without alteration of control constant in a substrate processing apparatus. - 特許庁

その後、第一の設定温度に保持された被処理体を、被処理体に溶質が固溶化する第二の設定温度まで昇温する。例文帳に追加

Thereafter, the workpiece held in the first setting temperature, is raised to a second setting temperature, in which a solute is made to be solid-solution. - 特許庁

調理容器内で加熱する調理物の温度を正確に検出し、外部にその温度を正確に送信する温度検出ユニットを提供すること例文帳に追加

To provide a temperature detecting unit correctly detecting a temperature of a cooked object heated in a cooking container and correctly transmitting the temperature to the outside. - 特許庁

加工ライン上の温度を精度良く測定するとともに、管理しやすい温度データを得ることのできる温度管理方法及びシステムを提供する。例文帳に追加

To provide a temperature management method and a system accurately measuring temperatures on a processing line and obtaining temperature data easily managed. - 特許庁

そして、温度調節部ＴＣ２によりＳＣＣＯ_２の温度を処理温度Ｔ１に低下させて処理チャンバーに供給する。例文帳に追加

Then, the temperature of the SCCO_2 is reduced to the processing temperature T1 by the temperature controller TC2, and it is supplied to a processing chamber. - 特許庁

その後、昇温した被処理体を第一の設定温度で所定の時間保持し、被処理体内の温度分布を均一にする。例文帳に追加

After raising the temperature of the workpiece, workpiece is held for a prescribed time at the first setting temperature, to make uniform the temperature distribution in workpiece. - 特許庁

基板処理装置は温度測定装置１０で測定した温度に基づいて処理対象基板９ｄの温度調整を行う。例文帳に追加

Based on the temperature measured by the temperature measurement apparatus 10, a substrate processing apparatus adjusts the temperature of the substrate 9d to be processed. - 特許庁

このため速やかに処理容器の温度が降温し、安定した温度雰囲気でプラズマ処理することができる。例文帳に追加

Since temperature of the processing vessel drops quickly, plasma processing is carried out in a stabilized temperature atmosphere. - 特許庁

また、水温検出手段（水温センサ８０）は、処理槽２０の上蓋２５に取り付けられて処理槽２０内の水温を検出する。例文帳に追加

The water temperature detection means (water temperature sensor 80) is attached to the upper lid 25 of the treatment tank 20 to detect the water temperature in the treatment tank 20. - 特許庁

低温冷却処理後の採取血液について、人の体温３５．５℃から３６．５℃に調整する高温熱処理を行う。例文帳に追加

High-temperature heat treatment for adjusting the collected blood after the low-temperature cooling treatment to a human body temperature from 35.5°C to 36.5°C is performed. - 特許庁

被検体に温度管理領域９４９を設定し、温度管理領域９４９に対して温度許容範囲を予め設定する。例文帳に追加

In this system, a temperature control region 949 is set on a subject, and a temperature tolerance range is set in regard to the temperature control region 949 in advance. - 特許庁

体温測定用耳票、およびそれを用いた多頭飼育用体温管理システム、ならびに多頭飼育用体温管理方法例文帳に追加

EAR MARK FOR MEASURING BODY TEMPERATURE AND BODY TEMPERATURE CONTROLLING SYSTEM FOR GROUP FEEDING USING THE SAME AND METHOD FOR CONTROLLING BODY TEMPERATURE FOR GROUP FEEDING - 特許庁

そのヨウ素処理は、５０〜１８０℃の温度で行うことが好ましく、また、その高温熱処理は、５００℃以上の温度で行うことが好ましい。例文帳に追加

The iodine treatment is preferably performed at a temperature of 50 to 180°C and also the high heat treatment is preferably performed at a temperature of 500°C or higher. - 特許庁

本発明は、処理液の温度が低下し過ぎない温度調節の可能な温調運転ができる写真処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a photographic processing device which is capable of performing a temperature adjusting operation by which the temperature of a processing solution is adjusted so as not to be lowered too much. - 特許庁

飲食物５の温度を管理するための温度管理システムであって、取得部２０と、保冷庫５０と、保冷庫温度制御部３０とを備えている。例文帳に追加

The temperature management system for managing the temperature of food and drink 5 comprises an acquisition part 20, a refrigerator 50 and a refrigerator temperature control part 30. - 特許庁

次に、保温ゾーン５４で加熱処理された塗布膜の膜面温度を熱処理温度で１秒以上６０秒以下維持する。例文帳に追加

The surface temperature of the heated coating film is kept at the heat treatment temperature for 1-60 sec in a heat keeping zone 54. - 特許庁

熱処理温度４７０℃〜５３０℃を測定する温度測定用基板及び熱処理温度測定方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a substrate for temperature measurements and a method for measuring a temperature for measuring the heat treatment temperature of 470-530°C. - 特許庁

予備熱処理温度は、歪取り熱処理温度と同じか、それより１００℃低い温度までの範囲で行うと良い。例文帳に追加

The preparatory heat treatment temperature is preferably the same to a straightening heat treatment temperature or in a range from it to a temperature of 100°C lower than it. - 特許庁

さらに、熱処理温度を所定時間維持した後、３℃／ｍｉｎ以下の平均降温速度で熱処理炉を降温させるのが好ましい。例文帳に追加

Further, after holding the heat treatment temperature for prescribed time, it is desirable to lower the temperature of a heat treatment furnace at ≤3°C/min average temperature lowering speed. - 特許庁

真空処理装置用の被処理体温度検出装置、及び該被処理体温度検出装置を備える真空処理装置例文帳に追加

TREATED BODY TEMPERATURE DETECTING APPARATUS FOR VACUUM TREATMENT APPARATUS AND VACUUM TREATMENT APPARATUS HAVING THE TREATED BODY TEMPERATURE DETECTING APPARATUS - 特許庁

処理液の温度制御、特に、処理液の温度低下を防止して液処理を行うことができる液処理装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a liquid treatment device in which liquid treatment can be carried out while controlling the temperature of treatment liquid, especially preventing the temperature drop of treatment liquid. - 特許庁

熱処理機構を用いて基板を所定の温度に熱処理する熱処理装置において、前記熱処理機構の温度を適切に校正する。例文帳に追加

To properly calibrate a temperature of a heat treatment mechanism in a heat treatment apparatus for heat-treating a substrate to a prescribed temperature using the heat treatment mechanism. - 特許庁

基板が装入される前、処理室を処理温度以上に加熱し、基板が装入された後、基板が処理温度となる様に処理室を冷却する。例文帳に追加

A processing chamber is heated at a processing temperature or higher beforehand when a substrate is charged, and it is cooled so that the substrate is kept at the processing temperature thereafter. - 特許庁

基板処理温度が電子ヒータの加熱限界温度を越える場合においても処理液を所定の基板処理温度に加熱することができ、また処理液を速やかに基板処理温度に昇温することができる基板処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate treatment apparatus, wherein even if the substrate treatment temperature exceeds the heating limiting temperature of electronic heaters, a treating liquid can be heated until a prescribed substrate treatment temperature and the treating liquid can be rapidly heated up to the substrate treatment temperature. - 特許庁

また、加熱処理と水洗処理を１つの温液槽で処理することで、処理時間が短くなる。例文帳に追加

By conducting heating and rising with a single warm water tank, processing time is shortened. - 特許庁