研摩を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 437件
研摩スラリー及びその研摩方法例文帳に追加
POLISHING SLURRY AND POLISHING METHOD THEREOF - 特許庁
研摩装置及び研摩方法例文帳に追加
POLISHING DEVICE AND POLISHING METHOD - 特許庁
研摩ヘッド及び研摩方法例文帳に追加
POLISHING HEAD AND POLISHING METHOD - 特許庁
電解研摩装置例文帳に追加
研摩用定盤例文帳に追加
SURFACE PLATE FOR POLISHING - 特許庁
研摩シートおよびこれを用いた研摩ディスクと研摩ホイール例文帳に追加
POLISHING SHEET, AND POLISHING DISK AND POLISHING WHEEL USING THE SAME - 特許庁
刃物の研摩方法例文帳に追加
METHOD FOR POLISHING EDGED TOOL - 特許庁
セリウム系研摩材例文帳に追加
CERIUM-BASED ABRASIVE MATERIAL - 特許庁
バフ研摩用組成物例文帳に追加
POLISHING COMPOSITION FOR BUFF - 特許庁
セリウム系研摩材例文帳に追加
CERIUM-BASED POLISHING MATERIAL - 特許庁
分析試料の研摩治具例文帳に追加
ANALYTICAL SAMPLE POLISHING JIG - 特許庁
半導体ウエハの研摩方法及び研摩装置例文帳に追加
POLISHING METHOD OF SEMICONDUCTOR WATER AND POLISHING DEVICE - 特許庁
ベルト側面研摩方法およびベルト側面研摩装置例文帳に追加
BELT SIDE SURFACE POLISHING METHOD AND DEVICE - 特許庁
ガラス基板の研摩において要求される精密な研摩を行う際、高い研摩力で研摩できるセリウム系研摩材を提供すること。例文帳に追加
To provide a cerium-based polishing material exhibiting a high polishing force on precise polishing required in polishing of a glass substrate. - 特許庁
セリウム系研摩材粒子粉末を用いた研摩において、十分な研摩速度を維持しながら、研摩表面が優れ、かつ研摩後に残存する研摩材粒子粉末の洗浄性を高めた研摩材粒子粉末を提供する。例文帳に追加
To obtain an abrasive particle powder maintaining a sufficient polishing rate and having an excellent polished surface and improving washing properties of the abrasive particle powder remaining after polishing in polishing using a cerium-based abrasive particle powder. - 特許庁
セリウム系研摩材用原料およびセリウム系研摩材の製造方法並びにセリウム系研摩材例文帳に追加
RAW MATERIAL FOR CERIUM-BASED ABRASIVE, METHOD FOR PRODUCING CERIUM-BASED ABRASIVE AND CERIUM-BASED ABRASIVE - 特許庁
研摩処理が困難な炭化珪素を、高い面精度で研摩処理することができる研摩材を提供する。例文帳に追加
To provide an abrasive capable of polishing silicon carbide, which is difficult to polish, with high surface accuracy. - 特許庁
研摩に使用される前の新しい研摩布の研摩面を短時間に平滑化できる。例文帳に追加
To smooth an abrasive surface for a new abrasive cloth before using in the grinding in a short time. - 特許庁
研摩速度や研摩精度などの研摩特性がより優れた、酸化セリウムを主成分とするセリウム系研摩材の製造方法を提供すること。例文帳に追加
To provide a manufacturing method of a cerium abrasive which essentially comprises cerium oxide and has better abrasion characteristics such as abrasion speed and abrasion precision. - 特許庁
Fを含有しなくとも、研摩速度が高く、研摩精度の良好なセリウム系研摩材の製造方法及びセリウム系研摩材を提供する。例文帳に追加
To provide a method for producing a cerium-based polish even if it contains no F, having high polishing rate and good at polishing accuracy, and to provide a cerium-based polish. - 特許庁
その結果、被研摩面における研摩傷の発生がより確実に防止されており、研摩速度が高い研摩材が製造される。例文帳に追加
This securely inhibits abrasion scratch on the surface to be polished and yields the abrasive with a high abrasion speed. - 特許庁
微小研摩工具の製造方法例文帳に追加
METHOD OF MANUFACTURING MICROABRASIVE TOOL - 特許庁
シリコンウェハー用研摩剤例文帳に追加
ABRASIVE FOR SILICON WAFER - 特許庁
セリウム系研摩材の製造方法例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING CERIUM-BASED POLISHING MATERIAL - 特許庁
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