「研摩」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

放射能汚染物の除染装置および研摩材の回収方法例文帳に追加

DECONTAMINATION DEVICE OF RADIOACTIVITY CONTAMINATED MATTER AND RECOVERY METHOD FOR ABRASIVE - 特許庁

セリウム系研摩材、その品質検査方法および製造方法例文帳に追加

CERIUM-CONTAINING ABRASIVE MATERIAL, ITS QUALITY INSPECTION METHOD AND MANUFACTURING METHOD THEREOF - 特許庁

ガラス用酸化セリウム系研摩材及びその製造方法例文帳に追加

CERIUM OXIDE ABRASIVE FOR GLASS AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

ゾルーゲルアルミナ砥粒及びビトレアス結合研摩材製品例文帳に追加

SOL-GEL ALUMINA ABRASIVE GRAIN AND VITREOUS BOUND ABRASIVE PRODUCT - 特許庁

多数の基板１２が同時に、単一の回転研摩パッド２２上で研摩され、その研摩パッド２２は回転的に揺動運動され、汚染物質が一つの基板１２から別の基板１２に研摩パッド２２に沿って移送される可能性を低減する。例文帳に追加

A large number of the substrates 12 are polished simultaneously on the single rotation polishing pad 22 which is rotatably and swingably moved, and possibility wherein pollutant is transferred from one substrate 12 to the other substrate 12 along the polishing pad 22 is reduced. - 特許庁

ブラシ研摩によるスケール除去性に優れる熱延鋼板の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING HOT-ROLLED STEEL SHEET EXCELLENT IN SCALE REMOVABILITY BY BRUSHING - 特許庁

研摩スラリ中の凝塊化粒子を除去する方法及びそのシステム例文帳に追加

METHOD AND SYSTEM FOR REMOVING COAGULATED PARTICLE IN GRINDING SLURRY - 特許庁

混合装置１３は、研摩剤タンク２４と、該研摩剤タンク２４内の研摩剤を圧縮気体の流入により混合させた後、該混合物を流出させる混合手段と、研摩剤と圧縮気体との混合比調整手段とを備えている。例文帳に追加

The mixing device 13 is provided with a polishing agent tank 24, a mixing means for mixing polishing agent in the polishing agent tank 24 with compression gas by its inflow, and then discharging obtained mix, and a means for adjusting a mixing ratio of the polishing agent to the compression gas. - 特許庁

硬さを変えられる積重ねウェハ研摩パッドを提供すること。例文帳に追加

To provide a stacked type wafer polishing pad capable of changing its hardness. - 特許庁

上澄層８４に、被研摩面１６ａを沈降層８３に対向させてワーク１６を浸漬した後、ワーク１６を回転させて粒状メディア８２に、被研摩面１６ａに向かう浮遊流動を発生させて被研摩面１６ａの研摩（研削）を行なう．例文帳に追加

After a work 16 is immersed in the supernatant layer 84 with a surface 16a to be polished positioned opposite to the sedimentation layer 83, a work 16 is rotated and floating fluid toward the surface 16a to be polished is generated at the granular media 82 to effect polishing (grinding) of the surface 16a to be polished. - 特許庁

研摩装置の個々の調整作業を簡易化するとともに、研摩装置間或いは研摩ユニット間の機械的構造や調整特性のばらつきを低減することにより、高品位の製品を安定的に製造することを可能にした研摩装置の提供。例文帳に追加

To provide a polishing device capable of stably manufacturing a product of high quality by simplifying individual adjusting work of the polishing device and reducing dispersing of a mechanical structure and an adjusting characteristic between the polishing devices or polishing units. - 特許庁

研摩パッドの研摩面全面を押圧して研摩パッドの圧縮率又は圧縮弾性率を調節する専用の押圧手段（加圧プレート１５８、プレスローラ１６０等）を備え、物理的に研摩パッドの立ち上げ処理を実施するようにした。例文帳に追加

This polishing device is provided with an exclusively used pressing means (a pressing plate 158, a pressing roller 160, etc.) which adjust the compressibility or compressive modulus of the polishing pad by pressing the whole polishing surface of the pad to physically, prepare the polishing pad. - 特許庁

管状脆性材料の内表面を面精度よく研摩する方法において、ホーニングマシンで管状に前研削した脆性材料の内表面をダイヤモンド砥粒を付着したペーパーで研摩することを特徴とする研摩方法及び該研摩方法で得られた管状脆性材料。例文帳に追加

According to this polishing method for polishing the inner surface of the tubular brittle material with good profile irregularity, the inner surface of brittle material previously ground to be tubular by a honing machine is polished with paper to which diamond abrasive grains adhere. - 特許庁

回転対称な部材に研摩材を吹付ける方法及び装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR BLASTING ABRASIVE MATERIAL TO ROTATION SYMMETRICAL MEMBER - 特許庁

研磨用砥粒を研摩の目的に合わせて必要量秤量した。例文帳に追加

The required amount of abrasive grain is measured corresponding to the grinding purpose. - 特許庁

研摩手段は、端部フィーダブロックを貫通して延びることができる。例文帳に追加

The grinding means can extend through the end part feeder block. - 特許庁

オービット研摩装置のための自己成形工具及びその製造方法例文帳に追加

SELF-FORMING TOOL FOR ORBIT GRINDING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

使用済希土類元素系研摩材からの希土類元素の回収方法例文帳に追加

METHOD FOR RECOVERING RARE EARTH ELEMENT FROM USED RARE EARTH ELEMENT TYPE ABRASIVE MATERIAL - 特許庁

研摩スラリ中の凝塊化粒子を効率よく除去する手法の提供。例文帳に追加

To efficiently remove coagulated particles in a grinding slurry. - 特許庁

ラッピングシューおよびラッピングシューを用いた研摩加工方法例文帳に追加

LAPPING SHOE AND POLISHING METHOD USING LAPPING SHOE - 特許庁

基板に施したＮｉ−低Ｐ層を短時間で良好に研摩すること。例文帳に追加

To excellently grind a Ni-low-P-layer formed on a substrate in a short time. - 特許庁

砥粒および水酸化セシウムを含有する化学的機械研摩用組成物、ならびに水酸化セシウム含有研摩用組成物を用いて集積回路に関連する誘電体層を研摩する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a chemical mechanical polishing composition including an abrasive and cesium hydroxide, and a method for polishing a dielectric layer associated with an integrated circuit using cesium hydroxide containing a polishing composition. - 特許庁

所要面のみを選択的に研摩することができ、結果的に研摩消費エネルギーも削減できる粒状メディアによる研摩方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a polishing method by granular media capable of selectively polishing only a given surface and as a result, also reducing polishing consumption energy. - 特許庁

本発明は、セリウム系研摩材のリサイクル方法に関し、使用済み研摩材スラリーから被研摩材よりなる微粒子を除去する工程を含むものである。例文帳に追加

The present invention relates to a recycling method of a cerium-based polishing material, and comprises a step of removing grinding particulates composed of a material to be polished, from a used abrasive slurry. - 特許庁

研摩後に得られる面に傷が残らない研摩材スラリーを簡単に調製できる粉末状のセリウム系研摩材およびその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a powdery cerium abrasive easily providing an abrasive slurry remaining no scratch on a polished surface obtained by polishing with the slurry, and to provide a method for producing the abrasive. - 特許庁

ＣｅＯ_２／ＴＲＥＯ≧４０質量％であれば、Ｆ、Ｌａ、Ｎｄ含有の有無にかかわらず、研摩速度が大きく、研摩傷が少ないセリウム系研摩材を提供する。例文帳に追加

To provide a cerium-based abrasive material having large grinding rate and causing few polishing defects whether F, La and Nd are contained or not, if CeO_2/TREO is ≥40 mass%. - 特許庁

したがって、セリウム系研摩材製造時にブレーン法平均粒径（Ｄ_Ｂ）を粒度設定基準に用いると、トリウムやウラン等の含有率が低減されており、しかも高い研摩速度を有するセリウム系研摩材が得られる。例文帳に追加

The use of D_B as the particle diameter setting standard in the cerium-based abrasive manufacturing process decreases the content of Th, U, or the like, but increases the polishing rate. - 特許庁

ブレーン法平均粒径（Ｄ_Ｂ）を基準とする粒径設定が行われたセリウム系研摩材は、必要な研摩速度が確保されるように研摩材粒子の粒度分布が制御されている。例文帳に追加

In this cerium-based abrasive wherein the particle diameter is set based on D_B, abrasive particle diameter distribution is controlled for achieving a required polishing rate. - 特許庁

研摩力が低下した使用済みセリウム系研摩材スラリーについて、大幅な再加工処理を行うことなく、簡易な再生処理により研摩材としての性能を再生させることができる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method which enables the reproduction of the performance as a polishing material, of a used cerium-based abrasive slurry whose polishing force is reduced, by a simple reproduction processing without large reworking processing. - 特許庁

本発明は、サファイア単結晶基板などのＡｌを含有する、高硬度の基材を、高速で研摩処理することが可能となり、高い面精度を有した研摩面を実現できる研摩処理技術を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing technique capable of polishing, at a high speed, a base material of a high hardness containing Al, such as a sapphire single crystal substrate, and capable of achieving a polished surface having high surface accuracy. - 特許庁

粗大粒子濃度がより低く、かつより高い研摩力が確保されており、しかも被研摩面の洗浄性に優れるセリウム系研摩材の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing cerium based polishing agent low in concentration of coarse particles, holding a high polishing force and excellent in cleaning property of the polished face. - 特許庁

適度な柔軟性及び可撓性を有し、かつ目詰まりが生じにくく研摩効率及び耐久性に優れた研摩材及び該研磨材を供し得る研摩材用基布に関する。例文帳に追加

To provide an abrasive that has proper flexibility, retards plugging and excels in polishing efficiency and durability, and a foundation cloth for an abrasive that can provide the abrasive. - 特許庁

湿度や粒度等の研摩材の状態の変化や使用時間に関係無く、研摩材噴射ノズルに一定量の研摩材を供給する方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device for supplying a fixed quantity of abrasive to an abrasive injection nozzle regardless of a conditional change and operating time of the abrasive such as humidity and the grain size. - 特許庁

そして、評価対象である酸化セリウム系研摩材を所定量秤量し、秤量した酸化セリウム系研摩材の細孔容積を測定することにより、研摩材の特性を簡易に評価できるものとした。例文帳に追加

The property of this abrasive can be evaluated easily by weighing a specified amount thereof and measuring the pore volume of the abrasive thus weighed. - 特許庁

研摩装置の回転駆動軸に対する装着ボス部から多数の研磨布片を上下方向に合理的な配分で放射状に取り付けて、作業効率よく研摩操作できる研摩ホイールをを提供する。例文帳に追加

To carry out polishing operation favourably in working efficiency by radially installing a large number of polishing cloth pieces in the vertical direction from an installation boss part onto a rotating driving shaft of a polishing device in rational distribution. - 特許庁

フッ素及びＳｃ、Ｙ、Ｃｅを含む希土類元素の組成を最適化し、研摩傷の発生が少なく、かつ、研摩後の洗浄性の良好なセリウム系研摩材を提供する。例文帳に追加

To provide a cerium-based abrasive reduced in the formation of scratches and being easily washed off after use in abrasion by optimizing a fluorine content and a composition of rare earth elements including Sc, Y, and Ce. - 特許庁

粗大粒子濃度がより低く、かつより高い研摩力が確保されており、しかも被研摩面の洗浄性に優れるセリウム系研摩材の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a cerium abrasive material by which the coarse particle concentration is lower and a higher abrasive power is ensured with excellent detergency of a surface to be abraded. - 特許庁

本発明は、焙焼後のセリウム系研摩材原料とフッ化水素酸との混合処理工程を有するセリウム系研摩材の製造方法において、該セリウム系研摩材原料が含有するＳｉのモル数をＳｉ^＊、フッ化水素酸のモル数をＨＦ^＊としたとき、ＨＦ^＊／４Ｓｉ^＊が１．０以上で、該セリウム系研摩材原料とフッ化水素酸との混合処理前又は混合処理後に、（ｉ）該セリウム系研摩材原料の湿式分級処理、（ｉｉ）該セリウム系研摩材原料をスラリーとし、所定のストークス径以上の粗粒子を除去する沈降分離処理。例文帳に追加

The method for producing the cerium-based abrasive comprises a step of mixing a roasted raw material of the cerium-based abrasive with hydrofluoric acid. - 特許庁

乾燥工程において効率的な乾燥を実現し、焙焼工程において、均一な焙焼を実施することで、セリウム系研摩材粒子の大きさの均一化を進め、安定した研摩材の品質を得ることができるセリウム系研摩材粒子の製造方法を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a method for producing cerium-based abrasive particles, which method realizes efficient drying in a drying process and, by performing uniform calcination in a calcination process, enables to improve uniformity of the cerium-based abrasive particle size and to obtain stable abrasive quality. - 特許庁

刃物を使わずに包装フィルムや袋、ビニ−ルテ−プ、紐類で包装された食材や各種日用品の包みを開切する方法として、研摩材の持つ研摩、研削力を利用するため、研摩材を粘結材で粘結するか粘着させた板状形成物を成型した。例文帳に追加

A plate-like object with an abrasive adhesively bonded or stuck to utilize the polishing and grinding force of the abrasive is molded as a method for open-cutting a package of food or various daily necessaries packaged with a packaging film, a bag, a vinyl tape or strings without using the cutter. - 特許庁

本発明は、アルミニウムを含有する基材を研摩する研摩スラリーにおいて、砥粒と、２０℃での水に対する溶解度が０．１ｇ／１００ｇ−Ｈ_２Ｏ以上である無機ホウ素化合物と、水を含有することを特徴とする研摩スラリーに関する。例文帳に追加

A polishing slurry for polishing the base material containing aluminum contains abrasive grains, an inorganic boron compound whose solubility in water at 20°C is 0.1 g/100 g-H_2O or more, and water. - 特許庁

セリウム系研摩材の製造方法において、製造工程中のセリウム含有希土類を、フッ化水素酸濃度が１wt％以上で３０wt％未満のフッ化水素酸溶液でフッ化処理するセリウム系研摩材の製造方法及びこの製造方法によるセリウム系研摩材である。例文帳に追加

There are provided a method of manufacturing a cerium-based abrasive material which comprises fluorinating cerium-containing rare earths in the manufacturing process with a hydrofluoric acid solution having a hydrofluoric acid concentration of not less than 1 wt.% and less than 30 wt.%, and a cerium-based abrasive material prepared by the manufacturing method. - 特許庁

ブラシ及びドレッサは、研摩装置本体１１０の上下の回転定盤間でキャリアと同様に運動して、研摩装置本体１１０の上下の回転定盤の対向面に装着された研摩布の清掃及び面ならしをそれぞれ行う。例文帳に追加

The brushes and dressers move in the same way as a carrier between upper and lower rotating surface plates of the grinding device main body 110 to respectively perform cleaning and leveling of abrasive cloth respectively mounted on the opposed surfaces of the upper and lower rotating surface plates of the grinding device main body 110. - 特許庁

丸鋸用ヤスリ器具は、三角棒状の溝付棒１の一辺２と管４の接合は１２に研摩出来る位置で他の辺３と管４の接合は１３に研摩出来る位置で丸鋸の刃先の研摩角度は異なっても共用出来るところに間隔を開けて二個接合した。例文帳に追加

This file apparatus for the circular is joined by two pieces at intervals in a place usable in common even if the polishing angle of the edge of the circular saw is different in a polishable position of 12 by joining one side 2 of a triangular bar-shaped grooved bar 1 and a pipe 4 and a polisable position of 13 by joining the other side 3 and the pipe 4. - 特許庁

底部に回転盤２を備えた研摩槽１の内部に、切欠き部を有するワーク（被加工物）とメディア（研磨材）とを投入し、回転盤２の回転により旋回流動させてマスを形成し、研摩槽１内壁１３に沿って上昇するマスの流動を制御しながら流動バレル研摩を行う。例文帳に追加

The work (a workpiece) having the cutout part and media (a polishing material), are inputted inside a polishing tank 1 having a rotary disk 2 in a bottom part, to perform fluid barrel polishing while controlling a flow of mass lifting along an inner wall 13 of the polishing tank 1 by forming the mass by revolving and flowing by rotation of the rotary disk 2. - 特許庁