CHLORINE DIOXIDEの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 309件
The treatment method of the exhaust gas comprizes removing components to be removed in the exhaust gas W, by contacting the exhaust gas containing the specified gas concentration of sulfer dioxide (SO2) gas and organic chlorine compounds such as dioxins or the same, namely concentration in the range shown by hatched part in the figure, with media such as a carbonaceous adsorbent A.例文帳に追加
本発明による排ガス処理方法は、所定のＳＯ_2ガス濃度及び所定のダイオキシン類等の有機塩素化合物濃度、つまり図示斜線部で示す範囲内の各濃度を有する排ガスＷを炭素質吸着剤Ａ等の媒体と接触せしめることにより、排ガスＷ中のそれら被除去成分を除去する方法である。 - 特許庁
The pulp wastewater treatment method using the circular settling pond and activated sludge treatment equipment is provided, wherein sludge settled in the circular settling pond is supplied to a sludge mixing tank, and hypo or chlorine dioxide is added to a sludge return line returning a part of the sludge to the settling pond to thereby sterilize harmful microorganism in the pulp wastewater.例文帳に追加
円形沈殿池および活性汚泥処理設備を用いてパルプ系排水を処理する方法において、該円形沈殿池にて沈降した汚泥を汚泥混合タンクに供給し、該汚泥の一部を該円形沈殿池に戻す排泥戻りラインに、ハイポまたは二酸化塩素を添加して、パルプ系排水中の有害微生物を滅菌することを特徴とするパルプ系排水を処理する方法。 - 特許庁
Spent nuclear oxide fuel and reducing agent sample 1a are chlorinated by blowing in chloric gas, into the molten salt dissolved by chloride of produced uranium and plutonium, liquid metal such as cadmium is contacted to extract and remove rare impurity elements, mixture gas of chlorine and oxygen is blown in the molten salt to make uranium be oxychloride and the uranium is sampled to recover pure uranium dioxide.例文帳に追加
使用済酸化物核燃料と還元剤の試料１ａに吹込管５から塩素ガスを吹き込んで塩素化し、生成したウランとプルトニウムの塩化物を溶解した溶融塩にカドミウム等の液体金属を接触させて貴な不純物元素を抽出除去し、この溶融塩に塩素と酸素の混合ガスを吹き込みウランをオキシ塩化物とした後、電解採取することにより純粋な二酸化ウランを回収する。 - 特許庁
To provide a method for efficiently and continuously generating chlorine dioxide gas, suitably used for environmental cleanup, and not only for indoor odor elimination and sterilization but also for removal of allergic substances such as house dusts, pollen, tick bones and fine mildew particles, and for elimination of pests such as ticks and cockroaches, and suppressing the irritating odor of the gas and emitting the gas.例文帳に追加
環境浄化、室内の消臭および殺菌のみならず、ハウスダスト、花粉、ダニの死骸および微細な黴の粒子などアレルギー性物質の除去、ならびにダニおよびゴキブリなどの害虫の排除などにも好適に用いられる二酸化塩素ガスを効率よくかつ持続的に発生させ二酸化塩素ガスをその刺激臭を抑制して放出させる二酸化塩素ガスの発生放出方法を提供する。 - 特許庁
To provide an easy method for completely decomposing haloacetic acid and hypochlorite of an alkali metal, which are produced when simultaneously removing/separating chlorine and a decomposition product such as acid chloride contained in the gas generated when oxidatively decomposing the object to be decomposed such as a chlorinated organic compound, continuously into carbon dioxide, a chloride ion, etc. in a moment.例文帳に追加
有機塩素化合物などの分解対象物の酸化分解処理で生成する処理ガス中の酸クロライド等の分解生成物と塩素を同時に除去分離した際に生成するハロ酢酸及び次亜塩素アルカリを二酸化炭素、塩化物イオンなどに完全に瞬時に連続的に分解する簡便な方法を提供する。 - 特許庁
In a method for reducing the volume of the surplus sludge by solubilizing the surplus sludge generated when organic waste water is biologically treated in the biological treatment tank 16 and returning it to the biological treatment tank 16, the surplus sludge is solubilized with chlorine dioxide in a solubilizing tank 36, and then the solubilized surplus sludge is aerated in an aeration tank 38 to be returned to the biological treatment tank 16.例文帳に追加
有機性廃水を生物処理槽１６で生物処理する際に発生する余剰汚泥を可溶化して生物処理槽１６に戻すことにより余剰汚泥を減容化する余剰汚泥の減容化方法において、余剰汚泥を可溶化処理槽３６で二酸化塩素で可溶化した後、該可溶化した余剰汚泥を曝気槽３８で曝気してから生物処理槽１６に戻すようにした。 - 特許庁
The cement C consists of an incineration ash formed by incinerating a municipal waste and an incineration ash formed by incinerating sewage sludge and contains components such as calcium oxide, silicon dioxide, aluminum oxide, ferric oxide and sulfur trioxide in almost same way as that of ordinary cement (e.g. Portland cement) and the components causing metal corrosion such as chlorine content is removed.例文帳に追加
また、セメントＣは、都市ゴミを焼却して生成した焼却灰や、下水汚泥を焼却して生成した焼却灰からなるセメントであり、通常のセメント（例えばポルトランドセメント）と略同様に、酸化カルシウム、二酸化けい素、酸化アルミニウム、酸化第二鉄、三酸化硫黄などの成分を含み、塩素分等の金属さびの原因となる成分を除去したセメントである。 - 特許庁
The method for producing carbonyl chloride includes bringing chlorine and carbon dioxide into contact with a first solid catalyst having a specific surface area of 150 to 350 m^2/g to react to a reaction ratio of ≥30 mol%, and bringing the resultant into contact with a second solid catalyst having a specific surface area of 900 to 1,500 m^2/g to carry out the carbonyl chloride reaction.例文帳に追加
塩素と一酸化炭素とを、比表面積１５０〜３５０ｍ^２／ｇの第１固体触媒に接触させて、反応率にして３０モル％以上反応させた後、比表面積９００〜１５００ｍ^２／ｇの第２固体触媒に接触させて塩化カルボニル化反応することを特徴とする塩化カルボニルの製造方法。 - 特許庁
The manufacturing method of a semiconductor device is to etch a polysilicon or silicon using either one out of nitrosyl chloride, nitrile chloride or nitrosyl bromide or using chlorine or bromic base etching gas additionally containing either one out of nitrogen oxide, dinitrogen oxide, nitrogen dioxide, nitrogen trioxide, dinitrogen trioxide, dinitrogen tetroxide, dinitrogen pentoxide.例文帳に追加
本発明にかかる半導体装置の製造方法は、塩化ニトロシル、塩化ニトロイルまたは臭化ニトロシルのいずれかをエッチングガスとして用いたうえで、あるいはまた、一酸化窒素、一酸化二窒素、二酸化窒素、三酸化窒素、三酸化二窒素、四酸化二窒素、五酸化二窒素またはフッ化ニトロシルのいずれかを添加含有させてなる塩素系または臭素系のエッチングガスを用いたうえでポリシリコンまたはシリコンをエッチングすることを特徴としている。 - 特許庁
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