| 例文 (11件) |
Mark Shieldの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 11件
The shielding film 9 is formed on the lower layer to shield energy rays which are used for detecting a position detecting mark 12.例文帳に追加
遮蔽体膜９は、下層上に形成され、位置検出用マーク１２の検出に用いるエネルギー線を遮断する。 - 特許庁
The main body mark part 5 is formed of a space pattern which has small line width enough to be resolved in a photosensitive film and formed by being bored in a light shield film, or a line pattern which is formed by leaving the light shield film.例文帳に追加
本体マーク部５は感光性膜に解像する線幅を有する、遮光膜を開孔したスペースパターン、又は遮光膜を残したラインパターンのいずれか一方で構成する。 - 特許庁
In this case, hoods 7, 6 which shield a mark member 5 on a reticle stage 3, and the mark peripheral region of the reticle are arranged more adjacent to the charged particle beam side than the reticle 1.例文帳に追加
レチクル１よりも荷電粒子ビーム源側に、レチクルステージ３上のマーク部材５やレチクルのマーク周辺領域を遮蔽するフード７、６を設けた。 - 特許庁
The bending moment shown by an arrow mark M is generated in the wind shield supporting panel 20 to deform easily the wind shield supporting panel 20 to a frontward lower side of the vehicle.例文帳に追加
このため、ウインドシールドガラス２４の下部に前方斜め上方からの外力Ｆが作用した場合には、ウインドシールドサポートパネル２０に矢印Ｍで示す曲げモーメントが発生し、ウインドシールドサポートパネル２０は車両前方下側へ容易に変形する。 - 特許庁
A first electromagnetic shield layer 251 is formed and patterned on the lower surface 212 of the mother board and on a group of the half-cut grooves 240 to cover and couple with the alignment mark 215.例文帳に追加
位置合わせマーク２１５を被覆連結するようにマザー基板の下表面２１２と半切断溝群２４０とに第一電磁遮蔽層２５１をパターン化形成する。 - 特許庁
Also, the band pass filter 9 with a balun arranged outside the shield case 53 is used for a mark as a sign for a direction at the time of module mounting.例文帳に追加
また、このシールドケース５３の外側に配置されたバラン付きバンドパスフィルタ９を、モジュール実装時の向き及び方向の目印としてのマークに使用する。 - 特許庁
To provide a circuit module which makes it possible to partly hollow out a shield layer formed from conductive resin and utilize this hollowed-out section for characteristics improvement and as a direction identification mark.例文帳に追加
導電性樹脂により形成されたシールド層を一部くり抜き、このくり抜き部を特性良化と方向識別用マークに利用することができる回路モジュールを提供すること。 - 特許庁
Furthermore, a reticle peripheral area 22 with light transparency is allocate around the shield band 20, and reticle alignment marks 24 formed by drawing a cross mark using a narrow metallic line for setting positions are allocated therein.例文帳に追加
更にその外側に、光透過性のレティクル周辺エリア２２が設けられ、そこには金属細線の十字マークが描画された位置合わせ用のレティクル・アライメント・マーク２４が４箇所に設けられている。 - 特許庁
A silicon plate 1 is disposed in a place such as a seam part of the trousers 3 where the shininess occurs to shield vapor in this place, and a press operation is performed to allow the fine finishing without pressing mark and the high productivity.例文帳に追加
シリコン板（１）をズボン（３）等のシーム部分等テカリが出る箇所に設置してその部分の蒸気を遮断して、プレス作業を行いテカリの無いきれいな仕上げと高い生産性を可能にした。 - 特許庁
When forming a film that constitutes a light shield of the color filter, an area on the transparent substrate on the color filter side corresponding to a position of the alignment mark formed on the touch panel sensor side is regulated by a metal mask or a die nozzle so as not to be covered with the film constituting the light shield.例文帳に追加
カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜を形成する際に、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域が遮光体を構成する膜によって覆われないように、メタルマスクやダイノズルで規定することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁
The peripheral exposure apparatus comprises a UV irradiation unit 9 on a moving path and irradiating the peripheral region of a substrate with a light containing UV rays from an irradiation port via an irradiation lens, and an irradiation region control shutter mechanism 10 that is controlled to cover at least a part of the irradiation port 9m, based on the moving speed of the substrate so as to shield an identification mark against light.例文帳に追加
周辺露光装置は、移動経路上において基板の周辺領域に紫外線を含む光を照射口から照射用レンズを介して照射する紫外線照射ユニット９と、基板の移動速度に基づいて、照射口９ｍの少なくとも一部を覆って識別マークを遮光するように制御される照射領域調整シャッタ機構１０と、を有する。 - 特許庁
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